JPH06157652A - α−オレフィン重合用触媒成分 - Google Patents

α−オレフィン重合用触媒成分

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JPH06157652A
JPH06157652A JP31333292A JP31333292A JPH06157652A JP H06157652 A JPH06157652 A JP H06157652A JP 31333292 A JP31333292 A JP 31333292A JP 31333292 A JP31333292 A JP 31333292A JP H06157652 A JPH06157652 A JP H06157652A
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JP
Japan
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acid
compound
group
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olefin
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JP31333292A
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English (en)
Inventor
Takeshi Ishihara
毅 石原
Seizaburo Kanazawa
清三郎 金沢
Masatoshi Okura
正寿 大倉
Kunihiko Imanishi
邦彦 今西
Satoshi Ueki
聰 植木
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Tonen General Sekiyu KK
Original Assignee
Tonen Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は、触媒粒子強度の増大、得られるポ
リマーの剛性の向上、触媒高活性の維持、触媒の保存中
の性能劣化防止等を計ることのできるα−オレフィン重
合用触媒を提供することを目的とする。 【構成】 下記1)成分を、下記2)化合物及び3)化
合物の存在下、オレフィンで予備重合してなるα−オレ
フィン重合用触媒成分。 1)マグネシウム,チタン,ハロゲン及び電子供与性化
合物を必須成分とする固体成分、 2)有機アルミニウム化合物、 3)特定の有機珪素化合物

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、α−オレフィン重合用
触媒成分に関する。
【0002】
【従来の技術】さまざまな種類の高立体規則性触媒を用
いて製造される高結晶性ポリプロピレンは、剛性や耐熱
性に優れていることから、近年需要が急増している。し
かしながら、これらの性質も、使用目的によっては未だ
不十分であり、剛性を改良する方法が種々提案されてい
るが、それらの多くはポリプロピレンに核剤等を添加す
るなどの後処理を施す方法である。従って、プロセス面
でコスト高である上、添加剤によっては成形品の外観を
損うものもある。添加剤による処理なしで、重合方法に
より剛性を改良する方法も提案されているが、いずれも
剛性は不十分である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、剛性に優れ
たポリプロピレン等のα−オレフィン重合体を高収率で
製造可能なα−オレフィン重合用触媒成分を提供するこ
とを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意研究を
行った結果、予備重合時に特定の有機珪素化合物の存在
下で特定の固体成分とオレフィンを接触させる事によ
り、触媒活性が高くかつ剛性の優れたポリプロピレン等
のポリα−オレフィンを重合出来る触媒成分が得られ、
本発明の目的が達成できることを見出して本発明を完成
した。
【0005】発明の要旨 すなわち、本発明の要旨は、 (A)マグネシウム,チタン,ハロゲン及び電子供与性
化合物を必須成分とする固体成分を、 (B) 有機アルミニウム化合物及び (C)下記一般式で示される有機珪素化合物の存在下、 一般式
【0006】
【化2】 〔但し、R1 は炭素数1〜10個の炭化水素基、R2
炭素数1〜10個の二価の炭化水素基若しくは−R5
−、R3 は炭素数1〜10個の炭化水素基、R 6 O−,
7 3 Si−若しくはR8 3 SiO−、R4 はメチル基
若しくはエチル基、xは1若しくは2、yは0若しくは
1、zは2若しくは3、x+y+z=4を示し、R5
炭素数1〜10個の二価の炭化水素基、R6 は炭素数3
〜10個の炭化水素基、R7 及びR8 は炭素数1〜10
個の炭化水素基を示す。〕 (D)オレフィンと接触させてなるα−オレフィン重合
用触媒成分にある。
【0007】固体成分 本発明で用いられる固体成分(以下、成分Aという)
は、マグネシウム,チタン,ハロゲン及び電子供与性化
合物を必須成分とするが、このような成分は通常マグネ
シウム化合物、チタン化合物及び電子供与性化合物、更
に前記各化合物がハロゲンを有しない化合物の場合は、
ハロゲン含有化合物を、それぞれ接触することにより調
製される。
【0008】(1)マグネシウム化合物 マグネシウム化合物は、一般式MgR1 2 で表わされ
る。式において、R1及びR2 は同一か異なる炭化水素
基、OR′基(R′は炭化水素基)、ハロゲン原子を示
す。より詳細には、R1 及びR2 の炭化水素基として
は、炭素数1〜20個のアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アルアルキル基が、OR′基として
は、R′が炭素数1〜12個のアルキル基、シクロアル
キル基、アリール基、アルアルキル基が、ハロゲン原子
としては塩素、臭素、ヨウ素、弗素等が挙げられる。
【0009】それら化合物の具体例を下記に示すが、化
学式において、Me:メチル、Et:エチル、Pr :プ
ロピル、Bu:ブチル、He:ヘキシル、Oct:オク
チル、Ph:フェニル、cyHe:シクロヘキシルをそ
れぞれ示す。MgMe2 , MgEt2 , Mgi−P
2 , MgBu2 , MgHe2 , MgOct2 ,MgE
tBu,MgPh2 , MgcyHe2 , Mg(OMe)
2 , Mg(OEt)2 , Mg(OBu)2 , Mg(OH
e)2 , Mg(OOct)2 , Mg(OPh)2 , Mg
(OcyHe)2 , EtMgCl,BuMgCl,He
MgCl,i−BuMgCl,t−BuMgCl,Ph
MgCl,PhCH2 MgCl,EtMgBr,BuM
gBr,PhMgBr,BuMgI,EtOMgCl,
BuOMgCl,HeOMgCl,PhOMgCl,E
tOMgBr,BuOMgBr,EtOMgI,MgC
2 , MgBr2 , MgI2
【0010】上記マグネシウム化合物は、成分Aを調製
する際に、金属マグネシウム又はその他のマグネシウム
化合物から調製することも可能である。その一例とし
て、金属マグネシウム、ハロゲン化炭化水素及び一般式
n M(OR)m-n のアルコキシ基含有化合物〔式にお
いて、Xは水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜20
個の炭化水素基、Mは硼素、炭素、アルミニウム、珪素
又は燐原子、Rは炭素数1〜20個の炭化水素基、mは
Mの原子価、m>n≧0を示す。〕を接触させる方法が
挙げられる。
【0011】該アルコキシ基含有化合物の一般式のX及
びRの炭化水素基としては、メチル(Me) 、エチル
(Et) 、プロピル(Pr)、i−プロピル(i−P
r) 、ブチル(Bu) 、i−ブチル(i−Bu) 、ヘキ
シル(He) 、オクチル(Oct)等のアルキル基、シ
クロヘキシル(cyHe)、メチルシクロヘキシル等の
シクロアルキル基、アリル、プロペニル、ブテニル等の
アルケニル基、フェニル(Ph) 、トリル、キシリル基
のアリール基、フェネチル、3−フェニルプロピル等の
アルアルキル等が挙げられる。これらの中でも、特に炭
素数1〜10個のアルキル基が望ましい。以下、アルコ
キシ基含有化合物の具体例を挙げる。
【0012】Mが炭素の場合の化合物 式C(OR)4 に含まれるC(OMe)4 ,C(OE
t)4 ,C(OPr)4,C(OBu)4 ,C(Oi−
Bu)4 ,C(OHe)4 ,C(OOct)4 :式XC
(OR)3 に含まれるHC(OMe)3 ,HC(OE
t)3 ,HC(OPr)3 ,HC(OBu)3 ,HC
(OHe)3 , HC(OPh)3 ;MeC(OM
e)3 ,MeC(OEt)3 ,EtC(OMe)3 ,E
tC(OEt)3 ,cyHeC(OEt)3 ,PhC
(OMe)3 ,PhC(OEt)3 ,CH2 ClC(O
Et)3 ,MeCHBrC(OEt)3 ;MeCHCl
C(OEt)3 ;ClC(OMe)3 ,ClC(OE
t)3 ,ClC(Oi−Bu)3 ,BrC(OE
t)3 ;式X2 C(OR)2 に含まれるMeCH(OM
e)2 , MeCH(OEt)2 , CH2 (OMe)2 ,
CH2 (OEt)2 , CH2 ClCH(OEt)2 , C
HCl2 CH(OEt)2 , CCl3 CH(OE
t)2 , CH2 BrCH(OEt)2 , PhCH(OE
t)2
【0013】Mが珪素の場合の化合物 式Si(OR)4 に含まれるSi(OMe)4 , Si
(OEt)4 , Si(OBu)4 , Si(Oi−Bu)
4 , Si(OHe)4 , Si(OOct)4 , Si(O
Ph)4 :式XSi(OR)3 に含まれるHSi(OE
t)3 , HSi(OBu)3 , HSi(OHe)3 ,H
Si(OPh)3 ;MeSi(OMe)3,MeSi
(OEt)3 , MeSi(OBu)3 , EtSi(OE
t)3 , PhSi(OEt)3 , EtSi(OP
h)3 ;ClSi(OMe)3 ,ClSi(OE
t)3 , ClSi(OBu)3 , ClSi(OP
h)3 ,BrSi(OEt)3 ;式X2 Si(OR)2
に含まれるMe2 Si(OMe)2 ,Me2 Si(OE
t)2 ,Et2 Si(OEt)2 ;MeClSi(OE
t)2 ;CHCl2SiH(OEt)2 ;CCl3 Si
H(OEt)2 ;MeBrSi(OEt)2:X3 Si
ORに含まれるMe3 SiOMe,Me3 SiOEt,
Me3 SiOBu,Me3 SiOPh,Et3 SiOE
t,Ph3 SiOEt。
【0014】Mが硼素の場合の化合物 式B(OR)3 に含まれるB(OEt)3 , B(OB
u)3 , B(OHe)3, B(OPh)3
【0015】Mがアルミニウムの場合の化合物 式Al(OR)3 に含まれるAl(OMe)3 ,Al
(OEt)3 , Al(OPr)3 ,Al(Oi−Pr)
3 ,Al(OBu)3 , Al(Ot−Bu)3 ,Al
(OHe)3 , Al(OPh)3
【0016】Mが燐の場合の化合物 式P(OR)3 に含まれるP(OMe)3 ,P(OE
t)3 , P(OBu)3, P(OHe)3 , P(OP
h)3
【0017】更に、前記マグネシウム化合物は、周期表
第II族又は第 IIIa族金属(M)の有機化合物との錯体
も使用することができる。該錯体は一般式MgR1 2
・n(MR3 m ) で表わされる。該金属としては、アル
ミニウム、亜鉛、カルシウム等であり、R3 は炭素数1
〜12個のアルキル基、シクロアルキル基、アリール
基、アルアルキル基である。又、mは金属Mの原子価
を、nは0.1〜10の数を示す。MR3 m で表わされ
る化合物の具体例としては、AlMe3 , AlEt 3 ,
Ali−Bu3 , AlPh3 , ZnMe2 ,, ZnEt
2 , ZnBu2 , ZnPh2 , CaEt2 , CaPh2
等が挙げられる。
【0018】(2)チタン化合物 チタン化合物は、二価、三価及び四価のチタンの化合物
であり、それらを例示すると、四塩化チタン、四臭化チ
タン、トリクロルエトキシチタン、トリクロルブトキシ
チタン、ジクロルジエトキシチタン、ジクロルジブトキ
シチタン、ジクロルジフェノキシチタン、クロルトリエ
トキシチタン、クロルトリブトキシチタン、テトラブト
キシチタン、三塩化チタン等を挙げることができる。こ
れらの中でも、四塩化チタン、トリクロルエトキシチタ
ン、ジクロルジブトキシチタン、ジクロルジフェノキシ
チタン等の四価のチタンハロゲン化物が望ましく、特に
四塩化チタンが望ましい。
【0019】(3)電子供与性化合物 電子供与性化合物としては、カルボン酸類、カルボン酸
無水物、カルボン酸エステル類、カルボン酸ハロゲン化
物、アルコール類、エーテル類、ケトン類、アミン類、
アミド類、ニトリル類、アルデヒド類、アルコレート
類、有機基と炭素もしくは酸素を介して結合した燐、ヒ
素およびアンチモン化合物、ホスホアミド類、チオエー
テル類、チオエステル類、炭酸エステル等が挙げられ
る。これのうちカルボン酸類、カルボン酸無水物、カル
ボン酸エステル類、カルボン酸ハロゲン化物、アルコー
ル類、エーテル類が好ましく用いられる。
【0020】カルボン酸の具体例としては、ギ酸、酢
酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン
酸、ピバリン酸、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン
酸等の脂肪族モノカルボン酸、マロン酸、コハク酸、グ
ルタル酸、アジピン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマ
ル酸等の脂肪族ジカルボン酸、酒石酸等の脂肪族オキシ
カルボン酸、シクロヘキサンモノカルボン酸、シクロヘ
キセンモノカルボン酸、シス−1,2−シクロヘキサン
ジカルボン酸、シス−4−メチルシクロヘキセン−1,
2−ジカルボン酸等の脂環式カルボン酸、安息香酸、ト
ルイル酸、アニス酸、p−第三級ブチル安息香酸、ナフ
トエ酸、ケイ皮酸等の芳香族モノカルボン酸、フタル
酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ナフタル酸、トリメ
リト酸、ヘミメリト酸、トリメシン酸、ピロメリト酸、
メリト酸等の芳香族多価カルボン酸等が挙げられる。カ
ルボン酸無水物としては、上記のカルボン酸類の酸無水
物が使用し得る。
【0021】カルボン酸エステルとしては、上記のカル
ボン酸類のモノ又は多価エステルが使用することがで
き、その具体例として、ギ酸ブチル、酢酸エチル、酢酸
ブチル、イソ酪酸イソブチル、ピバリン酸プロピル、ピ
バリン酸イソブチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸
メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸イソブチ
ル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジイソブチル、コハク
酸ジエチル、コハク酸ジブチル、コハク酸ジイソブチ
ル、グルタル酸ジエチル、グルタル酸ジブチル、グルタ
ル酸ジイソブチル、アジピン酸ジイソブチル、セバシン
酸ジブチル、セバシン酸ジイソブチル、マレイン酸ジエ
チル、マレイン酸ジブチル、マレイン酸ジイソブチル、
フマル酸モノメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジイ
ソブチル、酒石酸ジエチル、酒石酸ジブチル、酒石酸ジ
イソブチル、シクロヘキサンカルボン酸エチル、安息香
酸メチル、安息香酸エチル、p−トルイル酸メチル、p
−第三級ブチル安息香酸エチル、p−アニス酸エチル、
α−ナフトエ酸エチル、α−ナフトエ酸イソブチル、ケ
イ皮酸エチル、フタル酸モノメチル、フタル酸モノブチ
ル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジイソブチル、フタル
酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、フタル酸ジ2−エ
チルヘキシル、フタル酸ジアリル、フタル酸ジフェニ
ル、イソフタル酸ジエチル、イソフタル酸ジイソブチ
ル、テレフタル酸ジエチル、テレフタル酸ジブチル、ナ
フタル酸ジエチル、ナフタル酸ジブチル、トリメリト酸
トリエチル、トリメリト酸トリブチル、ピロメリト酸テ
トラメチル、ピロメリト酸テトラエチル、ピロメリト酸
テトラブチル等が挙げられる。
【0022】カルボン酸ハロゲン化物としては、上記の
カルボン酸類の酸ハロゲン化物を使用することができ、
その具体例として、酢酸クロリド、酢酸ブロミド、酢酸
アイオダイド、プロピオン酸クロリド、酪酸クロリド、
酪酸ブロミド、酪酸アイオダイド、ピバリン酸クロリ
ド、ピバリン酸ブロミド、アクリル酸クロリド、アクリ
ル酸ブロミド、アクリル酸アイオダイド、メタクリル酸
クロリド、メタクリル酸ブロミド、メタクリル酸アイオ
ダイド、クロトン酸クロリド、マロン酸クロリド、マロ
ン酸ブロミド、コハク酸クロリド、コハク酸ブロミド、
グルタル酸クロリド、グルタル酸ブロミド、アジピン酸
クロリド、アジピン酸ブロミド、セバシン酸クロリド、
セバシン酸ブロミド、マレイン酸クロリド、マレイン酸
ブロミド、フマル酸クロリド、フマル酸ブロミド、酒石
酸クロリド、酒石酸ブロミド、シクロヘキサンカルボン
酸クロリド、シクロヘキサンカルボン酸ブロミド、1−
シクロヘキセンカルボン酸クロリド、シス−4−メチル
シクロヘキセンカルボン酸クロリド、シス−4−メチル
シクロヘキセンカルボン酸ブロミド、塩化ベンゾイル、
臭化ベンゾイル、p−トルイル酸クロリド、p−トルイ
ル酸ブロミド、p−アニス酸クロリド、p−アニス酸ブ
ロミド、α−ナフトエ酸クロリド、ケイ皮酸クロリド、
ケイ皮酸ブロミド、フタル酸ジクロリド、フタル酸ジブ
ロミド、イソフタル酸ジクロリド、イソフタル酸ジブロ
ミド、テレフタル酸ジクロリド、ナフタル酸ジクロリド
が挙げられる。又、アジピン酸モノメチルクロリド、マ
レイン酸モノエチルクロリド、マレイン酸モノメチルク
ロリド、フタル酸ブチルクロリドのようなジカルボン酸
のモノアルキルハロゲン化物も使用し得る。
【0023】アルコール類は、一般式R4 OHで表わさ
れる。式においてR4 は炭素数1〜12個のアルキル、
アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルアルキル
である。その具体例としては、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イ
ソブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、オクタノ
ール、2−エチルヘキサノール、シクロヘキサノール、
ベンジルアルコール、アリルアルコール、フェノール、
クレゾール、キシレノール、エチルフェノール、イソプ
ロピルフェノール、p−ターシャリーブチルフェノー
ル、n−オクチルフェノール等である。
【0024】エーテル類は、一般式R5 OR6 で表わさ
れる。式においてR5 ,R6 は炭素数1〜12個のアル
キル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルア
ルキルであり、R5 とR6 は同じでも異ってもよい。そ
の具体例としては、ジエチルエーテル、ジイソプロピル
エーテル、ジブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、
ジイソアミルエーテル、ジ−2−エチルヘキシルエーテ
ル、ジアリルエーテル、エチルアリルエーテル、ブチル
アリルエーテル、ジフェニルエーテル、アニソール、エ
チルフェニルエーテル等である。
【0025】成分Aの調製法としては、マグネシウム
化合物(成分1)、チタン化合物(成分2)及び電子供
与性化合物(成分3)をその順序に接触させる。成分
1と成分3を接触させた後、成分2を接触させる。成
分1,成分2及び成分3を同時に接触させる等の方法が
採用し得る。又、成分2を用いて接触させる前にハロゲ
ン含有化合物と接触させることもできる。
【0026】ハロゲン含有化合物としては、ハロゲン化
炭化水素、ハロゲン含有アルコール、水素−珪素結合を
有するハロゲン化珪素化合物、周期表第 IIIa族、IVa
族、Va族元素のハロゲン化物(以下、金属ハライドと
いう。)等が挙げられる。
【0027】ハロゲン化炭化水素としては、炭素数1〜
12個の飽和又は不飽和の脂肪族、脂環式及び芳香族炭
化水素のモノ及びポリハロゲン置換体である。それら化
合物の具体的な例は、脂肪族化合物では、メチルクロラ
イド、メチルブロマイド、メチルアイオダイド、メチレ
ンクロライド、メチレンブロマイド、メチレンアイオダ
イド、クロロホルム、ブロモホルム、ヨードホルム、四
塩化炭素、四臭化炭素、四沃化炭素、エチルクロライ
ド、エチルブロマイド、エチルアイオダイド、1,2−
ジクロルエタン、1,2−ジブロムエタン、1,2−ジ
ヨードエタン、メチルクロロホルム、メチルブロモホル
ム、メチルヨードホルム、1,1,2−トリクロルエチ
レン、1,1,2−トリブロモエチレン、1,1,2,
2−テトラクロルエチレン、ペンタクロルエタン、ヘキ
サクロルエタン、ヘキサブロモエタン、n−プロピルク
ロライド、1,2−ジクロルプロパン、ヘキサクロロプ
ロピレン、オクタクロロプロパン、デカブロモブタン、
塩素化パラフィンが、脂環式化合物ではクロロシクロプ
ロパン、テトラクロルシクロペンタン、ヘキサクロロシ
クロペンタジエン、ヘキサクロルシクロヘキサンが、芳
香族化合物ではクロルベンゼン、ブロモベンゼン、o−
ジクロルベンゼン、p−ジクロルベンゼン、ヘキサクロ
ロベンゼン、ヘキサブロモベンゼン、ベンゾトリクロラ
イド、p−クロロベンゾトリクロライド等が挙げられ
る。これらの化合物は、一種のみならず二種以上用いて
もよい。
【0028】ハロゲン含有アルコールとしては、一分子
中に一個又は二個以上の水酸基を有するモノ又は多価ア
ルコール中の、水酸基以外の任意の一個又は二個以上の
水素原子がハロゲン原子で置換された化合物を意味す
る。ハロゲン原子としては、塩素、臭素、ヨウ素、弗素
原子が挙げられるが、塩素原子が望ましい。
【0029】それら化合物を例示すると、2−クロルエ
タノール、1−クロル−2−プロパノール、3−クロル
−1−プロパノール、1−クロル−2−メチル−2−プ
ロパノール、4−クロル−1−ブタノール、5−クロル
−1−ペンタノール、6−クロル−1−ヘキサノール、
3−クロル−1,2−プロパンジオール、2−クロルシ
クロヘキサノール、4−クロルベンズヒドロール、
(m,o,p)−クロルベンジルアルコール、4−クロ
ルカテコール、4−クロル−(m,o)−クレゾール、
6−クロル−(m,o)−クレゾール、4−クロル−
3,5−ジメチルフェノール、クロルハイドロキノン、
2−ベンジル−4−クロルフェノール、4−クロル−1
−ナフトール、(m,o,p)−クロルフェノール、p
−クロル−α−メチルベンジルアルコール、2−クロル
−4−フェニルフェノール、6−クロルチモール、4−
クロルレゾルシン、2−ブロムエタノール、3−ブロム
−1−プロパノール、1−ブロム−2−プロパノール、
1−ブロム−2−ブタノール、2−ブロム−p−クレゾ
ール、1−ブロム−2−ナフトール、6−ブロム−2−
ナフトール、(m,o,p)−ブロムフェノール、4−
ブロムレゾルシン、(m,o,p)−フロロフェノー
ル、p−イオドフェノール:2,2−ジクロルエタノー
ル、2,3−ジクロル−1−プロパノール、1,3−ジ
クロル−2−プロパノール、3−クロル−1−(α−ク
ロルメチル)−1−プロパノール、2,3−ジブロム−
1−プロパノール、1,3−ジブロム−2−プロパノー
ル、2,4−ジブロムフェノール、2,4−ジブロム−
1−ナフトール:2,2,2−トリクロルエタノール、
1,1,1−トリクロル−2−プロパノール、β,β,
β−トリクロル−tert−ブタノール、2,3,4−トリ
クロルフェノール、2,4,5−トリクロルフェノー
ル、2,4,6−トリクロルフェノール、2,4,6−
トリブロムフェノール、2,3,5−トリブロム−2−
ヒドロキシトルエン、2,3,5−トリブロム−4−ヒ
ドロキシトルエン、2,2,2−トリフルオロエタノー
ル、α,α,α−トリフルオロ−m−クレゾール、2,
4,6−トリイオドフェノール:2,3,4,6−テト
ラクロルフェノール、テトラクロルハイドロキノン、テ
トラクロルビスフェノールA、テトラブロムビスフェノ
ールA、2,2,3,3−テトラフルオロ−1−プロパ
ノール、2,3,5,6−テトラフルオロフェノール、
テトラフルオロレゾルシン等が挙げられる。
【0030】水素−珪素結合を有するハロゲン化珪素化
合物としては、HSiCl3 , H2SiCl2 , H3
iCl,HCH3 SiCl2 , HC2 5 SiCl2 ,
H(t−C4 9 )SiCl2 , HC6 5 SiC
2 , H(CH3 2 SiCl,H(i−C3 7 )S
iCl, H2 2 5 SiCl,H2 (n−C4 9
SiCl,H2 (C6 4 CH3 )SiCl, HSiC
l(C6 5 2 等が挙げられる。
【0031】金属ハライドとしては、B, Al,Ga,
In,Tl,Si, Ge,Sn, Pb,As, Sb,B
iの塩化物、弗化物、臭化物、ヨウ化物が挙げられ、特
にBCl3 , BBr3 , BI3 , AlCl3 , AlBr
3 , GaCl3 , GaBr3, InCl3 , TlCl3 ,
SiCl4 , SnCl4 , SbCl5 , SbF5 等が
好適である。
【0032】成分1,成分2及び成分3、更に必要に応
じて接触させることのできるハロゲン含有化合物との接
触は、不活性媒体の存在下、又は不存在下、混合攪拌す
るか、機械的に共粉砕することによりなされる。接触は
40〜150℃の加熱下で行うことができる。
【0033】不活性媒体としては、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン等の飽和脂肪族炭化水素、シクロペンタ
ン、シクロヘキサン等の飽和脂環式炭化水素、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が使用し得
る。
【0034】本発明における成分Aの望ましい調製法
は、特開昭63−264607号、同58−19850
3号、同62−146904号公報等に開示されている
方法である。より詳細には、 (イ)金属マグネシウム、(ロ)ハロゲン化炭化水
素、(ハ)一般式Xn M(OR) m-n の化合物(前記の
アルコキシ基含有化合物と同じ)を接触させることによ
り得られるマグネシウム含有固体を(ニ)ハロゲン含有
アルコールと接触させ、次いで(ホ)電子供与性化合物
及び(ヘ)チタン化合物と接触させる方法(特開昭63
−264607号公報)、 (イ)マグネシウムジアルコキシドと(ロ)水素−
珪素結合を有するハロゲン化珪素化合物を接触させた
後、(ハ)ハロゲン化チタン化合物を接触させ、次いで
(ニ)電子供与性化合物と接触させる(必要に応じて更
にハロゲン化チタン化合物と接触させる)方法(特開昭
62−146904号公報)、 (イ)マグネシウムジアルコキシドと(ロ)水素−
珪素結合を有するハロゲン化珪素化合物を接触させた
後、(ハ)電子供与性化合物と接触させ、次いで(ニ)
チタン化合物と接触させる方法(特開昭58−1985
03号公報)である。 これらの内でも特にの方法が最も望ましい。
【0035】上記のようにして成分Aは調製されるが、
成分Aは必要に応じて前記の不活性媒体で洗浄してもよ
く、更に乾燥してもよい。
【0036】有機アルミニウム化合物 有機アルミニウム化合物(以下、成分Bという。)の具
体例としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルア
ルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリイソプロ
ピルアルミニウム、トリブチルアルミニウム、トリイソ
ブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム等が挙
げられる。
【0037】有機珪素化合物 本発明の触媒の一成分である有機珪素化合物(以下、成
分Cという。)は、前記一般式で表わされる。該式にお
いて、R1 ,R3 の炭化水素基及びR6 O−、R7 3
i−,R8 3 SiO−におけるR6 ,R7 ,R8 の炭化
水素基としては、アルキル基、アルケニル基、シクロア
ルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルカジエニル
基、アリール基、アルアルキル基等が挙げられる。
【0038】アルキル基としては、メチル、エチル、プ
ロピル、i−プロピル、ブチル、i−ブチル、s−ブチ
ル、t−ブチル、アミル、i−アミル、t−アミル、ヘ
キシル、オクチル、2−エチルヘキシル、デシル基等
が、アルケニル基としては、ビニル、アリル、プロペニ
ル、イソプロペニル、1−ブテニル、1−ペンテニル、
1−ヘキセニル、1−オクテニル、1−デケニル、1−
メチル−1−ペンチニル、1−メチル−1−ヘプテニル
等が、シクロアルキル基としては、シクロブチル、シク
ロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシル基
等が、シクロアルケニル基としては、シクロペンテニ
ル、シクロヘキセニル、メチルシクロヘキセニル基等
が、シクロアルカジエニル基としては、シクロペンタジ
エニル、メチルシクロペンタジエニル、インデニル基等
が、アリール基としては、フェニル、トリル、キシリル
基等が、アルアルキル基としては、ベンジル、フェネチ
ル、3−フェニルプロピル基等が挙げられる。
【0039】又、前記一般式におけるR2 の二価の炭化
水素基及び−R5 O−におけるR5の炭化水素基として
は、アルキレン基、アルケニレン基、シクロアルキレン
基、シクロアルケニレン基、シクロアルカジエニレン
基、アリーレン基等が挙げられる。
【0040】アルキレン基としては、式−(CH2 n
−(n=1〜10)で表わされる直鎖のアルキレン基、
例えばメチレン、エチレン、トリメチレン、テトラメチ
レン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、オクタメチレ
ン基等の他、プロピレン、イソプロピレン基等の側鎖を
持つアルキレン基が、アルケニレン基としては、ビニレ
ン、プロペニレン、1−ブテニレン、2−ブテニレン、
1−ヘキセニレン、1−オクテニレン基等が、シクロア
ルキレン基としては、シクロペンチレン、シクロヘキシ
レン、メチルシクロヘキシレン基等が、シクロアルケニ
レン基としては、シクロペンテニレン、シクロヘキセニ
レン基等が、シクロアルカジエニレン等としては、シク
ロペンタジエニレン、メチルシクロペンタジエニレン、
インデニレン基等が、アリーレン基としては、フェニレ
ン、トリレン、キシリレン、−Ph−CH2 −(Ph:
フェニレン)等が挙げられる。
【0041】以下、成分Cの具体例を示す。下記におい
て、Meはメチル基、Etはエチル基、Prはプロピル
基、Buはブチル基、Phはフェニル基をそれぞれ示
す。〔Me−COO−CH2 −〕Si(OMe)3
〔Pr−COO−(CH2 2 −〕Si(OMe)3
〔イソプロペニル−COO−(CH2 3 −〕Si(O
Me)3 ,〔アリル−COO−(CH2 2 −〕Si
(OEt)3 ,〔シクロヘキシル−COO−(CH2
3 −〕Si(OMe)3 ,〔シクロペンテニル−COO
−(CH2 2 −〕Si(OMe)3 ,〔シクロペンタ
ジエニル−COO−(CH2 3 −〕Si(OM
e)3 ,〔Ph−COO−(CH2 2 −〕Si(OE
t)3 ,〔イソプロペニル−COO−(CH2 2 −〕
Si(OMe)2Me,〔イソプロペニル−COO−
(CH2 4 −〕Si(OMe)2 (Oi−Pr),
〔シクロペンチル−COO−(CH2 2 −〕Si(O
Et)2 (SiMe3 ),〔Me−COO−(CH2
4 O−〕Si(OMe)2 (OSiMe 3 ),〔アリル
−COO−(CH2 2 −〕Si(OEt)2 (Ot−
Bu),〔Me−COO−(CH2 2 −〕2 Si(O
Et)2 ,〔2−ブテニル−COO−(CH2 3 −〕
2 Si(OMe)2 ,〔シクロヘキシル−COO−(C
2 3 −〕2 Si(OMe)2 ,〔シクロペンテニル
−COO−(CH2 4 −〕2 Si(OMe)2 ,〔シ
クロペンタジエニル−COO−CH2 −〕2 Si(OE
t)2 ,〔Ph−COO−(CH2 2 O−〕2 Si
(OEt)2 ,〔Me−COO−シクロヘキシレン−〕
Si(OEt)3 ,〔2−ブテニル−COO−シクロペ
ンチレン−〕Si(OMe)3 ,〔イソプロペニル−C
OO−シクロペンチレン−〕Si(OEt)3 ,〔イソ
プロペニル−COO−シクロペンテニレン−〕2 Si
(OEt)2 ,〔シクロヘキシル−COO−シクロヘキ
シレン−〕 2 Si(OMe)2
【0042】予備重合 固体成分(成分A)の予備重合は、有機アルミニウム化
合物(成分B)及び有機珪素化合物(成分C)の存在
下、オレフィン(成分D)と接触させることによりなさ
れる。
【0043】また、必要に応じて電子供与性化合物(以
下、成分Eという。)も成分B,成分Cとともに、成分
Aの予備重合時に加えてもよい。電子供与性化合物とし
ては、有機珪素化合物からなる電子供与性化合物や、窒
素、イオウ、酸素、リン等のヘテロ原子を含む電子供与
性化合物も使用可能である。
【0044】有機珪素化合物の具体例としては、テトラ
メトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラブトキ
シシラン、テトライソブトキシシラン、テトラフェノキ
シシラン、テトラ(p−メチルフェノキシ)シラン、テ
トラベンジルオキシシラン、メチルトリメトキシシラ
ン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリブトキシシ
ラン、メチルトリフェノキシシラン、エチルトリエトキ
シシラン、エチルトリイソブトキシシラン、エチルトリ
フェノキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、ブチル
トリエトキシシラン、ブチルトリブトキシシラン、ブチ
ルトリフェノキシシラン、イソブチルトリイソブトキシ
シラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキ
シシラン、ジメチルジイソプロポキシシラン、ジメチル
ジブトキシシラン、ジメチルジヘキシルオキシシラン、
ジメチルジフェノキシシラン、ジエチルジエトキシシラ
ン、ジエチルジイソブトキシシラン、ジエチルジフェノ
キシシラン、ジブチルジイソプロポキシシラン、ジブチ
ルジブトキシシラン、ジブチルジフェノキシシラン、ジ
イソブチルジエトキシシラン、ジイソブチルジイソブト
キシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニル
ジエトキシシラン、ジフェニルジブトキシシラン、ジベ
ンジルジエトキシシラン、ジビニルジフェノキシシラ
ン、ジアリルジプロポキシシラン、ジフェニルジアリル
オキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、クロ
ロフェニルジエトキシシラン等が挙げられる。
【0045】ヘテロ原子を含む電子供与性化合物の具体
例としては、窒素原子を含む化合物として、2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン、2,6−ジメチルピ
ペリジン、2,6−ジエチルピペリジン、2,6−ジイ
ソプロピルピペリジン、2,6−ジイソブチル−4−メ
チルピペリジン、1,2,2,6,6−ペンタメチルピ
ペリジン、2,2,5,5−テトラメチルピロリジン、
2,5−ジメチルピロリジン、2,5−ジエチルピロリ
ジン、2,5−ジイソプロピルピロリジン、1,2,
2,5,5−ペンタメチルピロリジン、2,2,5−ト
リメチルピロリジン、2−メチルピリジン、3−メチル
ピリジン、4−メチルピリジン、2,6−ジイソプロピ
ルピリジン、2、6−ジイソブチルピリジン、1,2,
4−トリメチルピペリジン、2,5−ジメチルピペリジ
ン、ニコチン酸メチル、ニコチン酸エチル、ニコチン酸
アミド、安息香酸アミド、2−メチルピロール、2,5
−ジメチルピロール、イミダゾール、トルイル酸アミ
ド、ベンゾニトリル、アセトニトリル、アニリン、パラ
トルイジン、オルトトルイジン、メタトルイジン、トリ
エチルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、テト
ラメチレンジアミン、トリブチルアミン等が、イオウ原
子を含む化合物として、チオフェノール、チオフェン、
2−チオフェンカルボン酸エチル、3−チオフェンカル
ボン酸エチル、2−メチルチオフェン、メチルメルカプ
タン、エチルメルカプタン、イソプロピルメルカプタ
ン、ブチルメルカプタン、ジエチルチオエーテル、ジフ
ェニルチオエーテル、ベンゼンスルフォン酸メチル、メ
チルサルファイト、エチルサルファイト等が、酸素原子
を含む化合物として、テトラヒドロフラン、2−メチル
テトラヒドロフラン、3−メチルテトラヒドロフラン、
2−エチルテトラヒドロフラン、2,2,5,5−テト
ラエチルテトラヒドロフラン、2,2,5,5−テトラ
メチルテトラヒドロフラン、2,2,6,6−テトラエ
チルテトラヒドロピラン、2,2,6,6−テトラメチ
ルヒドロピラン、ジオキサン、ジメチルエーテル、ジエ
チルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソアミルエーテ
ル、ジフェニルエーテル、アニソール、アセトフェノ
ン、アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセト
ン、o−トリル−t−ブチルケトン、メチル−2,6−
ジt−ブチルフェニルケトン、2−フラル酸エチル、2
−フラル酸イソアミル、2−フラル酸メチル、2−フラ
ル酸プロピル等が、リン原子を含む化合物として、トリ
フェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリフェ
ニルホスファイト、トリベンジルホスファイト、ジエチ
ルホスフェート、ジフェニルホスフェート等が挙げられ
る。
【0046】これら電子供与性化合物は、二種以上用い
てもよい。又、これら電子供与性化合物は、有機金属化
合物を触媒成分と組合せて用いる際に用いてもよく、予
め有機金属化合物と接触させた上で用いてもよい。
【0047】オレフィンとしては、エチレンの他、プロ
ピレン,1−ブテン,1−ヘキセン,4−メチル−1−
ペンテン等のα−オレフィンが使用し得る。予備重合
は、前記の不活性媒体の存在下で行うのが望ましい。予
備重合は、通常100℃以下の温度、望ましくは−30
℃〜+30℃、更に望ましくは−20℃〜+15℃の温
度で行われる。重合方式としては、バッチ式、連続式の
いずれでもよく、又二段以上の多段で行ってもよい。多
段で行う場合、重合条件をそれぞれ変え得ることは当然
である。
【0048】成分Bは、予備重合系での濃度が10〜5
00ミリモル/リットル、望ましくは30〜200ミリ
モル/リットルになるように用いられ、又成分A中のチ
タン1グラム原子当り、1〜50,000モル、望まし
くは2〜50モルとなるように用いられる。
【0049】成分Cは、予備重合系での濃度が5〜10
00ミリモル/リットル、望ましくは10〜200ミリ
モル/リットルになるように用いられる。
【0050】予備重合により成分A中にオレフィンポリ
マーが取り込まれるが、そのポリマー量を成分A1g当
り0.1〜200g、特に0.5〜50gとするのが望
ましい。
【0051】上記のようにして調製された本発明の触媒
成分は、前記の不活性媒体で希釈或いは洗浄することが
できるが、触媒成分の保存劣化を防止する観点からは、
特に洗浄するのが望ましい。洗浄後、必要に応じて乾燥
してもよい。又、触媒成分を保存する場合は、出来る丈
低温で保存するのが望ましく、−50℃〜+30℃、特
に−20℃〜+5℃の温度範囲が推奨される。
【0052】α−オレフィンの重合 上記のようにして得られた本発明の触媒成分は、有機金
属化合物、更には必要に応じて電子供与性化合物と組み
合せて炭素数3〜10個のα−オレフィンの単独重合又
は他のモノオレフィン若しくは炭素数3〜10個のジオ
レフィンとの共重合の触媒として有用であるが、特に炭
素数3ないし6個のα−オレフィン、例えばプロピレ
ン、1−ブテン、4−メチル−1−ペンテン、1−ヘキ
セン等の単独重合又は上記のα−オレフィン相互及び/
又はエチレンとのランダム及びブロック共重合の触媒と
して極めて優れた性能を示す。
【0053】用い得る有機金属化合物は、周期表第I族
ないし第 III族金属の有機化合物である。該化合物とし
ては、リチウム、マグネシウム、カルシウム、亜鉛及び
アルミニウムの有機化合物が使用し得る。これらの中で
も特に、有機アルミニウム化合物が好適である。用い得
る有機アルミニウム化合物としては、一般式R7 n Al
X′3-n (但し、Rはアルキル基又はアリール基、X′
はハロゲン原子、アルコキシ基又は水素原子を示し、n
は1≦n≦3の範囲の任意の数である。)で示されるも
のであり、例えばトリアルキルアルミニウム、ジアルキ
ルアルミニウムモノハライド、モノアルキルアルミニウ
ムジハライド、アルキルアルミニウムセスキハライド、
ジアルキルアルミニウムモノアルコキシド及びジアルキ
ルアルミニウムモノハイドライドなどの炭素数1ないし
18個、好ましくは炭素数2ないし6個のアルキルアル
ミニウム化合物又はその混合物若しくは錯化合物が特に
好ましい。具体的には、トリメチルアルミニウム、トリ
エチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリ
イソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウムな
どのトリアルキルアルミニウム、ジメチルアルミニウム
クロリド、ジエチルアルミニウムクロリド、ジエチルア
ルミニウムブロミド、ジエチルアルミニウムアイオダイ
ド、ジイソブチルアルミニウムクロリドなどのジアルキ
ルアルミニウムモノハライド、メチルアルミニウムジク
ロリド、エチルアルミニウムジクロリド、メチルアルミ
ニウムジブロミド、エチルアルミニウムジブロミド、エ
チルアルミニウムジアイオダイド、イソブチルアルミニ
ウムジクロリドなどのモノアルキルアルミニウムジハラ
イド、エチルアルミニウムセスキクロリドなどのアルキ
ルアルミニウムセスキハライド、ジメチルアルミニウム
メトキシド、ジエチルアルミニウムエトキシド、ジエチ
ルアルミニウムフェノキシド、ジプロピルアルミニウム
エトキシド、ジイソブチルアルミニウムエトキシド、ジ
イソブチルアルミニウムフェノキシドなどのジアルキル
アルミニウムモノアルコキシド、ジメチルアルミニウム
ハイドライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジ
プロピルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアル
ミニウムハイドライドなどのジアルキルアルミニウムハ
イドライドが挙げられる。これらの中でも、トリアルキ
ルアルミニウムが、特にトリエチルアルミニウム、トリ
イソブチルアルミニウムが望ましい。又、これらトリア
ルキルアルミニウムは、その他の有機アルミニウム化合
物、例えば、工業的に入手し易いジエチルアルミニウム
クロリド、エチルアルミニウムジクロリド、エチルアル
ミニウムセスキクロリド、ジエチルアルミニウムエトキ
シド、ジエチルアルミニウムハイドライド又はこれらの
混合物若しくは錯化合物等と併用することができる。
【0054】又、酸素原子や窒素原子を介して2個以上
のアルミニウムが結合した有機アルミニウム化合物も使
用可能である。そのような化合物としては、例えば
【0055】
【化3】 等を例示できる。
【0056】アルミニウム金属以外の金属の有機化合物
としては、ジエチルマグネシウム、エチルマグネシウム
クロリド、ジエチル亜鉛等の他LiAl(C
2 5 4 ,LiAl(C7 154 等の化合物が挙げ
られる。
【0057】本発明の触媒成分に対する有機金属化合物
の使用量は、該触媒成分中のチタン1グラム原子当り、
通常1〜2,000グラムモル、特に20〜500グラ
ムモルが望ましい。
【0058】又、電子供与性化合物を用いる場合、有機
金属化合物と電子供与性化合物の比率は、電子供与性化
合物1モルに対して有機金属化合物がアルミニウムとし
て0.1〜40、好ましくは1〜25グラム原子の範囲
で選ばれる。
【0059】α−オレフィンの重合反応は、気相、液相
のいずれでもよく、液相で重合させる場合は、ノルマル
ブタン、イソブタン、ノルマルペンタン、イソペンタ
ン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の不活性炭化水素中及
び液状モノマー中で行うことができる。重合温度は、通
常−80℃〜+150℃、好ましくは40〜120℃の
範囲である。重合圧力は、例えば1〜60気圧でよい。
又、得られる重合体の分子量の調節は、水素若しくは他
の公知の分子量調節剤を存在せしめることにより行われ
る。又、共重合においてα−オレフィンに共重合させる
他のオレフィンの量は、α−オレフィンに対して通常3
0重量%迄、特に0.3〜15重量%の範囲で選ばれ
る。重合反応は、連続又はバッチ式反応で行い、その条
件は通常用いられる条件でよい。又、共重合反応は一段
で行ってもよく、二段以上で行ってもよい。
【0060】
【実施例】本発明を実施例及び応用例により具体的に説
明する。なお、例におけるパーセント(%)は特に断ら
ない限り重量による。ポリマー中の結晶性ポリマーの割
合を示すヘプタン不溶分(以下HIと略称する。)は、
改良型ソックスレー抽出器で沸騰n−ヘプタンにより6
時間抽出した場合の残量である。
【0061】実施例1 成分Aの調製 還流冷却器をつけた1リットルの反応容器に、窒素ガス
雰囲気下、チップ状の金属マグネシウム(純度99.5
%、平均粒径1.6mm)8.3g及びn−ヘキサン25
0mlを入れ、68℃で1時間攪拌後、金属マグネシウム
を取出し、65℃で減圧乾燥するという方法で予備活性
化した金属マグネシウムを得た。次に、この金属マグネ
シウムに、n−ブチルエーテル140ml及びn−ブチル
マグネシウムクロリドのn−ブチルエーテル溶液(1.
75モル/リットル)を0.5ml加えた懸濁液を55℃
に保ち、更にn−ブチルエーテル50mlにn−ブチルク
ロライド38.5mlを溶解した溶液を50分間で滴下し
た。攪拌下70℃で4時間反応を行った後、反応液を2
5℃に保持した。次いで、この反応液にHC(OC2
5 3 55.7mlを1時間で滴下した。滴下終了後、6
0℃で15分間反応を行い、反応生成固体をn−ヘキサ
ン各300mlで6回洗浄し、室温で1時間減圧乾燥し、
マグネシウムを19.0%、塩素を28.9%を含むマ
グネシウム含有固体31.6gを回収した。還流冷却
器、攪拌機及び滴下ロートを取付けた300mlの反応容
器に、窒素ガス雰囲気下マグネシウム含有固体6.3g
及びn−ヘプタン50mlを入れ懸濁液とし、室温で攪拌
しながら2,2,2−トリクロルエタノール20ml
(0.02ミリモル)とn−ヘプタン11mlの混合溶液
を滴下ロートから30分間で滴下し、更に80℃で1時
間攪拌した。得られた固体を濾別し、室温のn−ヘキサ
ン各100mlで4回洗浄し、更にトルエン各100mlで
2回洗浄して固体成分を得た。上記の固体成分にトルエ
ン40mlを加え、更に四塩化チタン/トルエンの体積比
が 3/2になるように四塩化チタンを加えて90℃に昇温
した。攪拌下、フタル酸ジn−ブチル2mlとトルエン5
mlの混合溶液を5分間で滴下した後、120℃で2時間
攪拌した。得られた固体状物質を90℃で濾別し、トル
エン各100mlで2回、90℃で洗浄した。更に、新た
に四塩化チタン/トルエンの体積比が3/2 になるように
四塩化チタンを加え、120℃で2時間攪拌し室温の各
100mlのn−ヘキサンにて7回洗浄して成分A5.5
gを得た。
【0062】予備重合 攪拌機を取付けた500mlの反応器に、窒素ガス雰囲気
下、上記で得られた成分A3.5g及びn−ヘプタン3
00mlを入れ、攪拌しながら0℃に冷却した。次にトリ
エチルアルミニウム(以下TEALと略称する。)のn
−ヘプタン溶液(2.0モル/リットル)及び4−オキ
サ−5−オキソ−6−メチル−6−ヘプテニルトリメト
キシシランを、反応系におけるTEAL及び4−オキサ
−5−オキソ−6−メチル−6−ヘプテニルトリメトキ
シシランの濃度がそれぞれ60ミリモル/リットル及び
10ミリモル/リットルとなるように添加し、5分間攪
拌した。次いで、系内を減圧した後、プロピレンガスを
連続的に供給し、プロピレンを3.5時間重合させた。
重合終了後、気相のプロピレンを窒素ガスでパージし、
各100mlのn−ヘキサンで3回、室温にて固相部を洗
浄した。更に、固相部を室温で1時間減圧乾燥して、触
媒成分を調製した。触媒成分に含まれるマグネシウム量
を測定した結果、予備重合量は成分A1g当り1.3g
であった。
【0063】実施例2〜4 実施例1の予備重合において、4−オキサ−5−オキソ
−6−メチル−6−ヘプテニルトリメトキシシランの代
りに、表1に示すシラン化合物を、又TEALもしくは
トリイソブチルアルミニウム(以下TIBALと略称す
る。)をそれぞれ表1に示す濃度で用い、表1に示す電
子供与性化合物をそれぞれ表1に示す濃度で用い、かつ
予備重合条件を表1に示す通りにした以外は、実施例1
と同様にして成分Aの予備重合を行い、触媒成分を調製
した。
【0064】比較例1 実施例1において、予備重合を行わなかった以外は、実
施例1と同様にして触媒成分を調製した。
【0065】比較例2 実施例1の予備重合において、4−オキサ−5−オキソ
−6−メチル−6−ヘプテニルトリメトキシシランを用
いず、かつ予備重合条件を表1に示す通りにした以外
は、実施例1と同様にして成分Aの予備重合を行い、触
媒成分を調製した。
【0066】比較例3 実施例1の予備重合において、4−オキサ−5−オキソ
−6−メチル−6−ヘプテニルトリメトキシシランを用
いず、TIBAL、ジフェニルジメトキシシランを表1
に示す濃度で用い、かつ予備重合条件を表1に示す通り
にした以外は、実施例1と同様にして成分Aの予備重合
を行い、触媒成分を調製した。
【0067】
【表1】
【0068】応用例1 プロピレンの重合 攪拌機を設けた1.5リットルのステンレス製オートク
レーブに、窒素ガス雰囲気下、TEALのn−ヘプタン
溶液(0.2モル/リットル)2mlとジフェニルジメト
キシシランのn−ヘプタン溶液(0.04モル/リット
ル)2mlを混合し5分間保持したものを入れた。次い
で、分子量制御剤としての水素ガス1リットル及び液体
プロピレン1リットルを圧入した後、反応系を70℃に
昇温した。実施例1で得られた触媒成分14mgを反応系
に装入した後、1時間プロピレンの重合を行った。重合
終了後、未反応のプロピレンをパージし、白色ポリプロ
ピレン粉末を得た。成分A1g当りのポリプロピレン生
成量(CE) は40.0kgであった。
【0069】応用例2〜7 実施例1で得られた触媒成分に代えて、実施例2〜4及
び比較例1〜3で得られた触媒成分を用いた以外は、応
用例1と同様にしてプロピレンの重合を行い、それらの
結果を表2に示した。
【0070】
【表2】
【0071】
【発明の効果】本発明は、上記の構成を採ることによ
り、触媒成分の強度を向上することができると共に、該
触媒成分はα−オレフィンの(共)重合において、高活
性を維持しつつ、剛性の優れた重合体を高収率で製造可
能とし、触媒の保存において性能の劣化を抑制できると
いう優れた効果を発揮する。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明の触媒成分の調製工程を示すフ
ローチャート図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 今西 邦彦 埼玉県入間郡大井町西鶴ケ岡一丁目3番1 号 東燃株式会社総合研究所内 (72)発明者 植木 聰 埼玉県入間郡大井町西鶴ケ岡一丁目3番1 号 東燃株式会社総合研究所内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (A)マグネシウム,チタン,ハロゲン
    及び電子供与性化合物を必須成分とする固体成分を、 (B)有機アルミニウム化合物及び (C)下記一般式で示される有機珪素化合物の存在下、 一般式 【化1】 〔但し、R1 は炭素数1〜10個の炭化水素基、R2
    炭素数1〜10個の二価の炭化水素基若しくは−R5
    −、R3 は炭素数1〜10個の炭化水素基、R 6 O−,
    7 3 Si−若しくはR8 3 SiO−、R4 はメチル基
    若しくはエチル基、xは1若しくは2、yは0若しくは
    1、zは2若しくは3、x+y+z=4を示し、R5
    炭素数1〜10個の二価の炭化水素基、R6 は炭素数3
    〜10個の炭化水素基、R7 及びR8 は炭素数1〜10
    個の炭化水素基を示す。〕 (D)オレフィンと接触させてなるα−オレフィン重合
    用触媒成分。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002048206A1 (en) * 2000-12-16 2002-06-20 Samsung General Chemicals Co., Ltd. Catalyst obtained by prepolymerization of polyolefin and olefin polymerization method using the same

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WO2002048206A1 (en) * 2000-12-16 2002-06-20 Samsung General Chemicals Co., Ltd. Catalyst obtained by prepolymerization of polyolefin and olefin polymerization method using the same

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