JPH06157157A - 閉気孔性セラミックスの製造方法 - Google Patents

閉気孔性セラミックスの製造方法

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JPH06157157A
JPH06157157A JP35188192A JP35188192A JPH06157157A JP H06157157 A JPH06157157 A JP H06157157A JP 35188192 A JP35188192 A JP 35188192A JP 35188192 A JP35188192 A JP 35188192A JP H06157157 A JPH06157157 A JP H06157157A
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JP
Japan
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pressure
furnace
ceramics
gas
ceramic
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JP35188192A
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English (en)
Inventor
Toyoichi Kurushima
豊一 久留島
Ryusuke Harada
隆介 原田
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Inax Corp
Original Assignee
Inax Corp
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B38/00Porous mortars, concrete, artificial stone or ceramic ware; Preparation thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B38/00Porous mortars, concrete, artificial stone or ceramic ware; Preparation thereof
    • C04B38/10Porous mortars, concrete, artificial stone or ceramic ware; Preparation thereof by using foaming agents or by using mechanical means, e.g. adding preformed foam

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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  • Materials Engineering (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
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  • Porous Artificial Stone Or Porous Ceramic Products (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】セラミックス内に閉気孔を形成することによ
り、強度的に優れ且つ軽量化及び断熱性の向上を実現で
きるようにする。 【構成】密閉した炉に、セラミックス生素地を入れると
共に、最高焼成温度になっても炉に設定した最高圧力を
越えないだけの所定圧力の気体を導入して焼成する。こ
れにより、セラミックスの内部の閉気孔の圧力と、炉内
の気体圧力とを平衡させ、閉気孔を潰さないようにし、
セラミックス内部に閉気孔を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、密閉した炉内へ所定圧
力の気体を導入して焼成することで閉気孔性を有するセ
ラミックスを製造するようにした方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】通常、セラミックスを軽量化するために
は、多孔質にする方法が用いられる。多孔質にする方法
としては、焼成温度を低くしたり、燃焼して無くなる物
質を加えておいたり、ガスを発生させ、発泡体にするこ
とが主に行われている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】このような多孔質セラ
ミックスは、確かに軽量にはなるけれども、強度が非常
に小さく、例えば建材へ用いようとすると厚くしなけれ
ばならず、結局重たくなってしまい、軽量化の意味合い
がなくなってしまう。また上述の方法では、開気孔性の
物しか出来ず、これは汚れや凍害の原因となり易く、建
材としては致命的な欠点となる。セラミックスを建材に
用いるには、軽量且つ高強度で汚れや凍害の発生しない
ことが重要である。然しながら、現在の軽量のセラミッ
クスは、低強度で汚れや凍害の問題が解決されていない
のが現状である。
【0004】一方、気孔を形成する材料においては、同
じ嵩比重であると、開気孔のものよりも閉気孔のものの
方が強度的に優れ、また断熱性に優れ、吸水率が低く、
更には汚れ難いという性質がある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は従来の前記課題
に鑑みてこれを改良除去したものであって、機能的に優
れた閉気孔を有するセラミックスの製造方法を提供せん
とするものである。前記課題を解決するために本発明が
採用した手段は、密閉した炉に、セラミックス生素地を
入れると共に、最高焼成温度になっても炉に設定した最
高圧力を越えないだけの所定圧力の気体を導入して焼成
することでセラミックスの内部の閉気孔の圧力と、炉内
の気体圧力とを平衡させ、セラミックス内部に閉気孔を
形成したことを特徴とする閉気孔性セラミックスの製造
方法である。
【0006】
【作用】本発明にあっては、予め加圧成形したセラミッ
クス生素地を、密閉した炉の中へ入れ、所定圧力の気体
を導入して焼成している。セラミックス生素地は、焼成
温度が上昇するに連れて軟化し、原料の粒子どうしが結
合する。この時、粒子どうしの間に存在していた空間の
圧力気体が封じ込められ、閉気孔を形成する。而して、
密閉した炉内で焼成を行うと、前記閉気孔の圧力は常に
炉内の圧力と同じになる。そのため、セラミックスは閉
気孔内から加圧されると同時に、炉内の気体圧力により
外表面から加圧され、内外から圧縮される結果、優れた
強度が得られる。
【0007】
【実施例】以下に、本発明の製造方法を図面に示す実施
例に基づいて説明すると次の通りである。図1は本発明
の製造方法を示す密閉された焼成炉1の概略図である。
同図に示すように、本発明にあっては、予めセラミック
ス原料を加圧成形し、得られた生素地を密閉された焼成
炉1内へ混入している。そして、該焼成炉1内へ所定圧
力になるように気体3を封入している。気体3の圧力
は、セラミックス生素地を焼成したときにその内部に形
成される閉気孔4の圧力と平衡するような圧力に設定さ
れている。
【0008】これはどんなセラミックスでも、焼成温度
を上げていくと、開気孔率がゼロになり、閉気孔だけが
形成される瞬間がある。然しながら、大気中焼成では、
その瞬間に焼成を完全に止めることは不可能であり、そ
の後も焼成温度が上昇し、閉気孔内の圧力が大気圧より
も高くなって破裂し、閉気孔が潰れてしまう。本発明で
はこの事を考慮し、密閉した炉内で所定圧力の気体を導
入して焼成することで、セラミックス内部に形成された
閉気孔が潰れないようにしている。
【0009】つまり、最高焼成温度になったときのセラ
ミックス内部に形成された閉気孔4の圧力と、焼成炉1
内の気体3の圧力とを平衡させることにより、セラミッ
クス内部の閉気孔4が破裂して潰れることがないように
している。これにより、セラミックス内部に炉内の気体
3を封入した閉気孔4を形成することが可能であり、軽
量化を図ることが可能である。またセラミックス2は、
閉気孔4内に封入された気体圧力と、焼成炉1内の気体
3の圧力とにより、内外から加圧圧縮されることにな
り、粒子どうしの結び付きが強くなって、曲げ強度等に
優れたセラミックス製品を得ることが可能である。次
に、具体的なセラミックス材料を用いて本発明に係る技
術でセラミックス製品を製造した場合と、本発明の場合
と同じセラミックス生素地を用いて従来の焼成方法によ
り焼成した場合とを比較して説明する。
【0010】(実施例1)先ず、3mol%−Y
安定化ZrOのセラミックス原料を成形型内へ充填
し、100MPaで加圧成形し、セラミックスの生素地
を得る。そして、これをホットアイソスタティクプレス
装置を用いて1500℃で一時間焼成した。装置内の圧
力は、室温で20MPaまでArガスを導入して昇圧さ
せ、その後は焼成温度の上昇で加圧した。焼成に伴う最
高圧力は約50MPaで、焼成中のガスの出入りは全く
なかった。得られた試料は、開気孔率が0%であり、閉
気孔率が10%であり、曲げ強度が930MPaであっ
た。
【0011】(実施例2)またSiO,Al
CaOを主成分とする廃棄タイルを、アルミナボールミ
ルで平均粒径10μm程度の粉末にしたセラミックス原
料を成形型内へ充填し、100MPaで加圧成形し、セ
ラミックス生素地を得る。そして、これを1MPa用の
加圧炉を用いて1200℃で一時間焼成した。加圧炉内
の圧力は、室温で0.3MPaまでコンプレッサーによ
る圧縮空気を供給して昇圧させ、その後は焼成温度の上
昇で加圧した。焼成に伴う最高圧力は約0.6MPa
で、焼成中の空気の出入りは全くなかった。得られた試
料は、開気孔率が0%であり、閉気孔率が20%であ
り、曲げ強度が110MPaであった。
【0012】(比較例1)実施例1の場合と同じ要領
で、セラミックス生素地を成形する。即ち、3mol%
−Y安定化ZrOのセラミックス原料を成形型
内へ充填し、100MPaで加圧成形してセラミックス
生素地を得る。そして、今度は従来の一般的な焼成方法
に基づいて大気中で1500℃の温度で1時間焼成し
た。その結果によれば、得られた試料は、開気孔率が0
%であり、閉気孔率が2.5%であり、曲げ強度は11
0MPaであった。
【0013】(比較例2)実施例2の場合と同じ要領
で、セラミックス生素地を成形する。即ち、SiO
Al,CaOを主成分とする廃棄タイルを、アル
ミナボールミルで平均粒径10μm程度の粉末にしたセ
ラミックス原料を成形型内へ充填し、100MPaで加
圧成形し、セラミックス生素地を得る。そして、従来の
一般的な焼成方法に基づいて大気中で1200℃の温度
で1時間焼成した。その結果によれば、得られた試料
は、開気孔率が10%であり、閉気孔率が10%であ
り、曲げ強度が65MPaであった。
【0014】(評価)これらの結果から明らかなよう
に、本発明に係る実施例1及び2の場合は、比較例1及
び2の場合よりも閉気孔率に優れており、嵩比重が低
く、軽量化が図れている。しかも、嵩比重が低いにも拘
らず、曲げ強度は著しく高くなっており、本発明の製造
方法の優位性を確認することができた。
【0015】ところで、本発明は上述した実施例に限定
されるものではなく、例えばセラミックス原料,焼成温
度,焼成時間,焼成炉,使用する気体,炉内の圧力等は
適宜の変更が可能である。
【0016】
【発明の効果】以上説明したように本発明にあっては、
セラミックス生素地を所定圧力の気体を封入した密閉炉
の中へ入れて焼成している。これにより、セラミックス
生素地は、焼成温度が上昇するに連れて軟化し、原料の
粒子どうしが結合し、粒子どうしの間に存在していた空
間の圧力気体が封じ込められ、閉気孔を形成することが
できる。この閉気孔の圧力は炉内の気体圧力と等しい。
そのため、セラミックスは、閉気孔内からも炉内の圧力
と同じ圧力で加圧されるので、内外から圧縮されること
になり、優れた強度が得られる。
【0017】このようにセラミックス内部に閉気孔を形
成することができるので、嵩比重も小さくなり、軽量化
を図ることができる。また閉気孔によって断熱性を向上
させることができる。炉内に導入する気体にArガス等
を使用した場合は、所定圧力のArガスを閉気孔内へ封
入することができ、断熱性は更に向上する。更に、セラ
ミックス内部の気孔は、閉気孔であるため、吸水がな
く、しかも汚れ難いという閉気孔本来の利点をも併せ持
っている。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るセラミックスの製造装置を示す概
略図である。
【符号の説明】
1…焼成炉 2…セラミックス 3…気体 4…閉気孔

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 密閉した炉に、セラミックス生素地を入
    れると共に、最高焼成温度になっても炉に設定した最高
    圧力を越えないだけの所定圧力の気体を導入して焼成す
    ることでセラミックスの内部の閉気孔の圧力と、炉内の
    気体圧力とを平衡させ、セラミックス内部に閉気孔を形
    成したことを特徴とする閉気孔性セラミックスの製造方
    法。
JP35188192A 1992-11-18 1992-11-18 閉気孔性セラミックスの製造方法 Pending JPH06157157A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6800360B2 (en) 2001-02-08 2004-10-05 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Porous ceramics and method of preparing the same as well as microstrip substrate
US7041366B2 (en) 2001-09-04 2006-05-09 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Porous silicon nitride ceramics and method for producing the same
US10669213B2 (en) * 2007-05-30 2020-06-02 Raytheon Technologies Corporation Method for closed pore ceramic

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US6800360B2 (en) 2001-02-08 2004-10-05 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Porous ceramics and method of preparing the same as well as microstrip substrate
US7041366B2 (en) 2001-09-04 2006-05-09 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Porous silicon nitride ceramics and method for producing the same
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