JPH0615534B2 - 光学活性エピクロルヒドリンの立体化学反転法 - Google Patents
光学活性エピクロルヒドリンの立体化学反転法Info
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- JPH0615534B2 JPH0615534B2 JP28488188A JP28488188A JPH0615534B2 JP H0615534 B2 JPH0615534 B2 JP H0615534B2 JP 28488188 A JP28488188 A JP 28488188A JP 28488188 A JP28488188 A JP 28488188A JP H0615534 B2 JPH0615534 B2 JP H0615534B2
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- epichlorohydrin
- general formula
- iii
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は光学活性エピクロルヒドリンの立体化学を反転
させる方法に関する。
させる方法に関する。
光学活性エピクロルヒドリンは医薬、農薬、その他生理
活性物質、更には強誘電性液晶材料などの新素材の合成
原料として極めて重要な化合物である。これら合成原料
として好ましい方の光学異性体を自由に選択することが
できれば目的化合物を得るための工程を短くすることが
でき、さらにはより光学純度の高い目的化合物を得るこ
とができる。本発明は高純度の光学活性エピクロルヒド
リンの両対掌体を容易に製造する方法を提供するもので
ある。
活性物質、更には強誘電性液晶材料などの新素材の合成
原料として極めて重要な化合物である。これら合成原料
として好ましい方の光学異性体を自由に選択することが
できれば目的化合物を得るための工程を短くすることが
でき、さらにはより光学純度の高い目的化合物を得るこ
とができる。本発明は高純度の光学活性エピクロルヒド
リンの両対掌体を容易に製造する方法を提供するもので
ある。
（従来の技術およびその課題） 近年、上記の如き新素材の分野において光学活性物質の
有用性は益々高まってきており、これらの原料となる光
学活性物質の光学純度の高いものを得ることが極めて重
要な問題となってきている。
有用性は益々高まってきており、これらの原料となる光
学活性物質の光学純度の高いものを得ることが極めて重
要な問題となってきている。
従来、光学活性エピクロルヒドリンの（Ｒ）体及び
（Ｓ）体を得る方法としては、Ｄ−マンニトールから作
り分ける方法が知られているが（J.Org.Chem.43,4876(1
978)）、この方法は工程数が多くおよそ実用的な方法で
はない。
（Ｓ）体を得る方法としては、Ｄ−マンニトールから作
り分ける方法が知られているが（J.Org.Chem.43,4876(1
978)）、この方法は工程数が多くおよそ実用的な方法で
はない。
最近微生物を利用して高純度光学活性エピクロルヒドリ
ンを製造する方法を本出願人が提供した（特開昭61−13
2196号公報、特開昭62−6697号公報）が、この方法によ
って主として得られる光学異性体は（Ｒ）体である。
ンを製造する方法を本出願人が提供した（特開昭61−13
2196号公報、特開昭62−6697号公報）が、この方法によ
って主として得られる光学異性体は（Ｒ）体である。
光学活性エピクロルヒドリンにおける高純度な（Ｓ）体
を経済的に製造する技術は未だ確立されたものとは言い
難い。
を経済的に製造する技術は未だ確立されたものとは言い
難い。
（課題を解決するための手段） 本発明は高純度な光学活性エピクロルヒドリンの両対掌
体を容易にしかも自由に作り分ける方法を提供するもの
である。
体を容易にしかも自由に作り分ける方法を提供するもの
である。
本発明は、一方の光学活性エピクロルヒドリンの立体化
学を反転させて光学異性体である他方の光学活性エピク
ロルヒドリンを製造するに際し、下記の（Ｉ）〜（IV）
の工程によって行うことを特徴とする光学活性エピクロ
ルヒドリンの立体化学反転法である。
学を反転させて光学異性体である他方の光学活性エピク
ロルヒドリンを製造するに際し、下記の（Ｉ）〜（IV）
の工程によって行うことを特徴とする光学活性エピクロ
ルヒドリンの立体化学反転法である。
（Ｉ）光学活性エピクロルヒドリンと下記一般式（Ｉ）
で表わされるアルコールとを酸性触媒の存在下で反応さ
せて下記一般式（II）で表わされる光学活性グリセロー
ル誘導体（II）を製造する工程 上記一般式（Ｉ）及び（II）において、Ｒ１はＣ６Ｈ５
ＣＨ２−，ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−，ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ
３）−ＣＨ２−，（ＣＨ３）３Ｃ−，（Ｃ６Ｈ５）２Ｃ
Ｈ−及び（Ｃ６Ｈ５）３Ｃ−より選ばれた基である。ま
た一般式（II）において＊の符号は不斉炭素原子を表わ
す。
で表わされるアルコールとを酸性触媒の存在下で反応さ
せて下記一般式（II）で表わされる光学活性グリセロー
ル誘導体（II）を製造する工程 上記一般式（Ｉ）及び（II）において、Ｒ１はＣ６Ｈ５
ＣＨ２−，ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−，ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ
３）−ＣＨ２−，（ＣＨ３）３Ｃ−，（Ｃ６Ｈ５）２Ｃ
Ｈ−及び（Ｃ６Ｈ５）３Ｃ−より選ばれた基である。ま
た一般式（II）において＊の符号は不斉炭素原子を表わ
す。
（II）上記光学活性グリセロール誘導体（II）を塩基の
存在下でスルホン酸ハライドと反応させて下記一般式
（III）で表わされる光学活性グリセロール誘導体（II
I）を製造する工程 上記一般式（III）において、Ｒはハロゲンを有してい
てもよい炭素数１〜３のアルキル基及び炭素数６〜12の
アリール基より選ばれた基であり、Ｒ１は一般式（Ｉ）
のＲ１と同じ意味を表わし、＊の符号は不斉炭素原子を
表わす。
存在下でスルホン酸ハライドと反応させて下記一般式
（III）で表わされる光学活性グリセロール誘導体（II
I）を製造する工程 上記一般式（III）において、Ｒはハロゲンを有してい
てもよい炭素数１〜３のアルキル基及び炭素数６〜12の
アリール基より選ばれた基であり、Ｒ１は一般式（Ｉ）
のＲ１と同じ意味を表わし、＊の符号は不斉炭素原子を
表わす。
（III）上記光学活性グリセロール誘導体（III）を酸性
触媒、金属触媒又は酸性触媒と金属触媒との存在下で反
応させて一般式（IV）で表わされる光学活性グリセロー
ル誘導体（IV）を製造する工程 上記一般式（IV）において、Ｒは一般式（III）のＲと
同じ意味を表わし、＊の符号は不斉炭素原子を表わす。
触媒、金属触媒又は酸性触媒と金属触媒との存在下で反
応させて一般式（IV）で表わされる光学活性グリセロー
ル誘導体（IV）を製造する工程 上記一般式（IV）において、Ｒは一般式（III）のＲと
同じ意味を表わし、＊の符号は不斉炭素原子を表わす。
（IV）上記光学活性グリセロール誘導体（IV）を塩基の
存在下で分子内閉環させて光学異性体である他方の光学
活性エピクロルヒドリンを製造する工程 上記工程を原料光学活性エピクロルヒドリンとして
（Ｒ）体を用いた例で以下反応式によって説明する。但
し、下記反応式において、Ｒは、前記一般式（III）の
Ｒと同じ意味を表わし、Ｒ１は、前記一般式（Ｉ）と同
じ意味を表わす。＊の符号は不斉炭素原子を表わす。
存在下で分子内閉環させて光学異性体である他方の光学
活性エピクロルヒドリンを製造する工程 上記工程を原料光学活性エピクロルヒドリンとして
（Ｒ）体を用いた例で以下反応式によって説明する。但
し、下記反応式において、Ｒは、前記一般式（III）の
Ｒと同じ意味を表わし、Ｒ１は、前記一般式（Ｉ）と同
じ意味を表わす。＊の符号は不斉炭素原子を表わす。
（Ｉ）の工程 この工程は（Ｒ）−エピクロルヒドリンと一般式（Ｉ）
Ｒ１ＯＨで表わされるアルコールとを酸性触媒存在下で
反応させることによって行われる。
Ｒ１ＯＨで表わされるアルコールとを酸性触媒存在下で
反応させることによって行われる。
この反応に用いられる（Ｒ）−エピクロルヒドリンとし
ては、前記の本出願人の出願に係る特開昭61−132196号
公報及び特開昭62−6697号公報に記載の方法によって得
られた光学純度の高い光学活性エピクロルヒドリンを用
いると好都合である。
ては、前記の本出願人の出願に係る特開昭61−132196号
公報及び特開昭62−6697号公報に記載の方法によって得
られた光学純度の高い光学活性エピクロルヒドリンを用
いると好都合である。
この反応に用いられるＲ１ＯＨで表わされるアルコール
としてはＣ６Ｈ５ＣＨ２ＯＨ，ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２Ｏ
Ｈ，ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＨ２ＯＨ，（ＣＨ３）３
ＣＯＨ，（Ｃ６Ｈ５）２ＣＨＯＨ及び（Ｃ６Ｈ５）３Ｃ
ＯＨが挙げられる。アルコールの使用量は（Ｒ）−エピ
クロルヒドリンに対して１〜10当量、好ましくは２〜５
当量の範囲が選ばれる。酸性触媒としてはルイス酸ある
いはルイス酸錯体が用いられ、具体的には三フッ化ホウ
素、三フッ化ホウ素エーテル錯体、三塩化アルミニウ
ム、三臭化アルミニウム、二塩化亜鉛、四塩化錫、三塩
化鉄などが挙げられる。触媒の使用量は特に限定されず
に広い範囲で選ぶことができるが、一般に（Ｒ）−エピ
クロルヒドリンに対して0.0001〜0.05当量、好ましくは
0.001〜0.02の範囲がよい。反応温度は特に限定されな
いが、通常10〜100℃、好ましくは30〜80℃の範囲が適
当である。例えば80℃の場合1.5時間で終了する。
としてはＣ６Ｈ５ＣＨ２ＯＨ，ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２Ｏ
Ｈ，ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＨ２ＯＨ，（ＣＨ３）３
ＣＯＨ，（Ｃ６Ｈ５）２ＣＨＯＨ及び（Ｃ６Ｈ５）３Ｃ
ＯＨが挙げられる。アルコールの使用量は（Ｒ）−エピ
クロルヒドリンに対して１〜10当量、好ましくは２〜５
当量の範囲が選ばれる。酸性触媒としてはルイス酸ある
いはルイス酸錯体が用いられ、具体的には三フッ化ホウ
素、三フッ化ホウ素エーテル錯体、三塩化アルミニウ
ム、三臭化アルミニウム、二塩化亜鉛、四塩化錫、三塩
化鉄などが挙げられる。触媒の使用量は特に限定されず
に広い範囲で選ぶことができるが、一般に（Ｒ）−エピ
クロルヒドリンに対して0.0001〜0.05当量、好ましくは
0.001〜0.02の範囲がよい。反応温度は特に限定されな
いが、通常10〜100℃、好ましくは30〜80℃の範囲が適
当である。例えば80℃の場合1.5時間で終了する。
（II）の工程 この工程は、（Ｉ）の工程によって得られた（Ｒ）−
（II）で表わされる（Ｒ）−グリセロール誘導体の水酸
基をスルホン酸ハライド及び塩基を反応させることによ
り（Ｒ）−（III）で表わされる（Ｒ）体のスルホン酸
エステルにする工程である。この反応によって得られる
スルホン酸エステルのＲＳＯ２基は、上記反応物である
スルホン酸ハライドに対応する残基であり、Ｒはハロゲ
ンを有していてもよい炭素数１〜３のアルキル基及び炭
素数６〜12のアリール基から選ばれた基である。例えば
メチル，エチル，プロピル，トリフルオロメチル，トリ
クロロメチル，トリブロモメチル等のアルキル基、フェ
ニル，トリル等のアリール基が挙げられる。上記スルホ
ン酸ハライドの具体例としては、塩化メタンスルホン
酸、臭化メタンスルホン酸、ヨウ化メタンスルホン酸、
塩化トリフルオロメタンスルホン酸、臭化トリフルオロ
メタンスルホン酸、ヨウ化トリフルオロメタンスルホン
酸、塩化トリクロロメタンスルホン酸、臭化トリクロロ
メタンスルホン酸、ヨウ化トリクロロメタンスルホン
酸、塩化トリブロモメタンスルホン酸、臭化トリブロモ
メタンスルホン酸、ヨウ化トリブロモメタンスルホン
酸、塩化ベンゼンスルホン酸、臭化ベンゼンスルホン
酸、ヨウ化ベンゼンスルホン酸、塩化ｐ−トルエンスル
ホン酸、臭化ｐ−トルエンスルホン酸、ヨウ化ｐ−トル
エンスルホン酸などが挙げられる。
（II）で表わされる（Ｒ）−グリセロール誘導体の水酸
基をスルホン酸ハライド及び塩基を反応させることによ
り（Ｒ）−（III）で表わされる（Ｒ）体のスルホン酸
エステルにする工程である。この反応によって得られる
スルホン酸エステルのＲＳＯ２基は、上記反応物である
スルホン酸ハライドに対応する残基であり、Ｒはハロゲ
ンを有していてもよい炭素数１〜３のアルキル基及び炭
素数６〜12のアリール基から選ばれた基である。例えば
メチル，エチル，プロピル，トリフルオロメチル，トリ
クロロメチル，トリブロモメチル等のアルキル基、フェ
ニル，トリル等のアリール基が挙げられる。上記スルホ
ン酸ハライドの具体例としては、塩化メタンスルホン
酸、臭化メタンスルホン酸、ヨウ化メタンスルホン酸、
塩化トリフルオロメタンスルホン酸、臭化トリフルオロ
メタンスルホン酸、ヨウ化トリフルオロメタンスルホン
酸、塩化トリクロロメタンスルホン酸、臭化トリクロロ
メタンスルホン酸、ヨウ化トリクロロメタンスルホン
酸、塩化トリブロモメタンスルホン酸、臭化トリブロモ
メタンスルホン酸、ヨウ化トリブロモメタンスルホン
酸、塩化ベンゼンスルホン酸、臭化ベンゼンスルホン
酸、ヨウ化ベンゼンスルホン酸、塩化ｐ−トルエンスル
ホン酸、臭化ｐ−トルエンスルホン酸、ヨウ化ｐ−トル
エンスルホン酸などが挙げられる。
この反応に用いられる塩基としてはトリエチルアミン，
トリメチルアミンなどの３級アミンやピリジンが好まし
い。使用量は上記スルホン酸ハライド及び塩基共原料ア
ルコールに対して１〜３当量、好ましくは１〜1.2当量
が適当である。反応温度は−20〜100℃、通常０〜70℃
の範囲でよく、通常室温（20〜30℃）の場合0.5〜３時
間で反応が終了する。溶媒は不活性溶媒なら何でもよい
が、塩化メチレン，クロロホルムが通常用いられる。
トリメチルアミンなどの３級アミンやピリジンが好まし
い。使用量は上記スルホン酸ハライド及び塩基共原料ア
ルコールに対して１〜３当量、好ましくは１〜1.2当量
が適当である。反応温度は−20〜100℃、通常０〜70℃
の範囲でよく、通常室温（20〜30℃）の場合0.5〜３時
間で反応が終了する。溶媒は不活性溶媒なら何でもよい
が、塩化メチレン，クロロホルムが通常用いられる。
（III）の工程 この工程は（II）の工程で得られた（Ｒ）−（III）化
合物を触媒の存在下で反応させて（Ｒ）−（IV）化合物
を製造する工程である。
合物を触媒の存在下で反応させて（Ｒ）−（IV）化合物
を製造する工程である。
触媒としては、酸性触媒、金属触媒又は酸性触媒と金属
触媒との混合物が用いられる。触媒の選択は（Ｒ）−
（III）化合物のＲ１置換基に基いて適宜行われる。例
えば酸性触媒の具体例としては、 ｐ−トルエンスルホン酸，ベンゼンスルホン酸，過塩素
酸，硫酸，塩酸，硝酸，臭化水素，酢酸，トリフルオロ
酢酸，トリクロロ酢酸，トリブロモ酢酸，シリカゲル，
塩化アルミニウム，四塩化チタン，四塩化錫，三フッ化
ホウ素などが挙げられ、金属触媒としては、白金，パラ
ジウムなどが挙げられる。
触媒との混合物が用いられる。触媒の選択は（Ｒ）−
（III）化合物のＲ１置換基に基いて適宜行われる。例
えば酸性触媒の具体例としては、 ｐ−トルエンスルホン酸，ベンゼンスルホン酸，過塩素
酸，硫酸，塩酸，硝酸，臭化水素，酢酸，トリフルオロ
酢酸，トリクロロ酢酸，トリブロモ酢酸，シリカゲル，
塩化アルミニウム，四塩化チタン，四塩化錫，三フッ化
ホウ素などが挙げられ、金属触媒としては、白金，パラ
ジウムなどが挙げられる。
Ｒ１がＣ６Ｈ５ＣＨ２−のときはパラジウムを用いた水
素添加、ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−又はＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ
３）ＣＨ２−のときはパラジウムとｐ−トルエンスルホ
ン酸もしくは過塩素酸、（ＣＨ３）３Ｃ−のときはトリ
フルオロ酢酸，塩酸又は臭化水素混合酢酸、（Ｃ
６Ｈ５）２ＣＨ−のときはパラジウムと塩化アルミニウ
ム、（Ｃ６Ｈ５）３Ｃ−のときは酢酸，トリフルオロ酢
酸，シリカゲル又は塩酸などがそれぞれ好ましい。
素添加、ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−又はＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ
３）ＣＨ２−のときはパラジウムとｐ−トルエンスルホ
ン酸もしくは過塩素酸、（ＣＨ３）３Ｃ−のときはトリ
フルオロ酢酸，塩酸又は臭化水素混合酢酸、（Ｃ
６Ｈ５）２ＣＨ−のときはパラジウムと塩化アルミニウ
ム、（Ｃ６Ｈ５）３Ｃ−のときは酢酸，トリフルオロ酢
酸，シリカゲル又は塩酸などがそれぞれ好ましい。
触媒の使用量は、本工程の原料化合物に対して0.1〜30
重量％、好ましくは0.5〜10重量％の範囲が適当であ
る。混合物触媒の場合、金属触媒は酸性触媒に対して0.
01〜１重量％の範囲が適当である。
重量％、好ましくは0.5〜10重量％の範囲が適当であ
る。混合物触媒の場合、金属触媒は酸性触媒に対して0.
01〜１重量％の範囲が適当である。
反応に際して用いられる溶媒は、アルコール類と水の混
合物、エーテル類と水の混合物あるいは水、アルコール
類を単一溶媒として用いることができる。アルコール類
としては、メタノール，エタノール，プロパノール，ｔ
−ブチルアルコール等、エーテル類としては、エチルエ
ーテル，テトラヒドロフラン，ジオキサン等がある。通
常はメタノール，エタノール，水あるいはこれらアルコ
ールと水との混合物が好ましく用いられる。
合物、エーテル類と水の混合物あるいは水、アルコール
類を単一溶媒として用いることができる。アルコール類
としては、メタノール，エタノール，プロパノール，ｔ
−ブチルアルコール等、エーテル類としては、エチルエ
ーテル，テトラヒドロフラン，ジオキサン等がある。通
常はメタノール，エタノール，水あるいはこれらアルコ
ールと水との混合物が好ましく用いられる。
反応に際して、温度は０〜150℃の範囲で行うことがで
き、通常は20〜100℃の範囲が適当である。
き、通常は20〜100℃の範囲が適当である。
（IV）の工程 この工程は、（III）の工程により得られた（Ｒ）−（I
V）化合物を塩基の存在下で分子内環化反応により立体
化学を反転させて当初の原料エピクロルヒドリンの他方
の光学異性体、すなわち、（Ｓ）−エピクロルヒドリン
を得る工程である。
V）化合物を塩基の存在下で分子内環化反応により立体
化学を反転させて当初の原料エピクロルヒドリンの他方
の光学異性体、すなわち、（Ｓ）−エピクロルヒドリン
を得る工程である。
この反応において用いられる塩基としては水酸化ナトリ
ウム，水酸化カリウムなどの苛性アルカリが好ましい。
使用量は本工程の原料化合物に対して１〜３当量、好ま
しくは１〜1.2当量が適当である。反応は不均一系で行
われるが、有機溶媒は用いても用いなくても反応は進行
する。有機溶媒を使用する場合には不活性溶媒がよく、
例えばエチルエーテル，テトラヒドロフラン，塩化メチ
レン，クロロホルム，四塩化炭素などが挙げられる。反
応温度は０〜100℃、通常は０〜70℃の範囲でよい。
ウム，水酸化カリウムなどの苛性アルカリが好ましい。
使用量は本工程の原料化合物に対して１〜３当量、好ま
しくは１〜1.2当量が適当である。反応は不均一系で行
われるが、有機溶媒は用いても用いなくても反応は進行
する。有機溶媒を使用する場合には不活性溶媒がよく、
例えばエチルエーテル，テトラヒドロフラン，塩化メチ
レン，クロロホルム，四塩化炭素などが挙げられる。反
応温度は０〜100℃、通常は０〜70℃の範囲でよい。
このようにして得られた（Ｓ）−エピクロルヒドリンは
原料の（Ｒ）−エピクロルヒドリンと同等の光学純度を
有している。
原料の（Ｒ）−エピクロルヒドリンと同等の光学純度を
有している。
上記においては（Ｒ）体を原料として説明したが、
（Ｓ）体を原料とした場合には（Ｒ）体が得られること
は勿論のことである。
（Ｓ）体を原料とした場合には（Ｒ）体が得られること
は勿論のことである。
（実施例） 実施例１ （Ｒ）−エピクロルヒドリン（▲〔α〕25 D▼−33°
（ｃ＝4.5 メタノール））31.79g(343m mol）とベンジ
ルアルコール93.05g(861m mol)を反応器に入れ、25℃で
攪拌しながら三フッ化ホウ素エーテル錯体0.3ml(2.4m m
ol)を滴下し1.5時間反応させた（発熱反応最高温度80
℃）。次いで反応液にエチルエーテルを加え、飽和重曹
水をpH７になるまで加えた後、さらに水を加えてエチル
エーテルによる抽出を行い、飽和食塩水で洗浄した。有
機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧下で
エチルエーテルを留去し、さらに残渣を減圧蒸留（134
〜139℃／4mmHg）して（Ｒ）−１−ベンジルオキシ−３
−クロロ−２−プロパノール51.44g（256m mol，収率7
4.7％）を得た。
（ｃ＝4.5 メタノール））31.79g(343m mol）とベンジ
ルアルコール93.05g(861m mol)を反応器に入れ、25℃で
攪拌しながら三フッ化ホウ素エーテル錯体0.3ml(2.4m m
ol)を滴下し1.5時間反応させた（発熱反応最高温度80
℃）。次いで反応液にエチルエーテルを加え、飽和重曹
水をpH７になるまで加えた後、さらに水を加えてエチル
エーテルによる抽出を行い、飽和食塩水で洗浄した。有
機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧下で
エチルエーテルを留去し、さらに残渣を減圧蒸留（134
〜139℃／4mmHg）して（Ｒ）−１−ベンジルオキシ−３
−クロロ−２−プロパノール51.44g（256m mol，収率7
4.7％）を得た。
この生成物の性状は以下の通りである。
▲〔α〕25 D▼−4.90° （Ｃ＝1.10 メタノール） １Ｒ νmax cm-1 3452 ＮＭＲ（CDCl3） δ：2.9 〜3.15 （1H,br） 3.35〜3.65 （4H，ｍ） 3.7 〜4.05 （1H，ｍ） 4.46 （2H，ｓ） 7.1〜7.3 （5H，ｍ） 上記生成物（Ｒ）−１−ベンジルオキシ−３−クロロ−
２−プロパノール20ｇ（99.7m mol）を塩化メチレン70m
lに溶かし、25℃で攪拌しながらトリエチルアミン16.68
ml(119.6m mol)を加え、さらに塩化メタンスルホン酸8.
49ml(109.7m mol)を滴下して１時間反応させた。反応液
に４Ｎ塩酸を加えてpH＝１とした後塩化メチレンで抽出
し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。減圧
下で溶媒を留去させて（Ｒ）−１−ベンジルオキシ−３
−クロロ−２−メタンスルホニルオキシプロパン27.5g
（98.7m mol，収率99.0％）を得た。
２−プロパノール20ｇ（99.7m mol）を塩化メチレン70m
lに溶かし、25℃で攪拌しながらトリエチルアミン16.68
ml(119.6m mol)を加え、さらに塩化メタンスルホン酸8.
49ml(109.7m mol)を滴下して１時間反応させた。反応液
に４Ｎ塩酸を加えてpH＝１とした後塩化メチレンで抽出
し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。減圧
下で溶媒を留去させて（Ｒ）−１−ベンジルオキシ−３
−クロロ−２−メタンスルホニルオキシプロパン27.5g
（98.7m mol，収率99.0％）を得た。
この生成物の性状は以下の通りである。
▲〔α〕25 D▼−3.60° （Ｃ＝1.29 CH2Cl2） １Ｒ νmax cm-1 1362,1180 ＮＭＲ（CDCl3） δ：3.03 （3H，ｓ） 3.55〜3.85 （4H，ｍ） 4.52 （2H，ｓ） 4.60〜5.05 （1H，ｍ） 7.15〜7.40 （5H，ｍ） 上記生成物（Ｒ）−１−ベンジルオキシ−３−クロロ−
２−メタンスルホニルオキシプロパン26ｇ（93.3m mo
l）を95％エタノールに溶かし、10重量％パラジウム−
カーボン10g(Pd 9.4m mol)を加えて水素雰囲気下25℃で
12時間攪拌させた。触媒を過で除き、液より減圧下
で溶媒を留去して（Ｒ）−３−クロロ−２−メタンスル
ホニルオキシ−１−プロパノール14.6g（77.2m mol，収
率82.8％）を得た。
２−メタンスルホニルオキシプロパン26ｇ（93.3m mo
l）を95％エタノールに溶かし、10重量％パラジウム−
カーボン10g(Pd 9.4m mol)を加えて水素雰囲気下25℃で
12時間攪拌させた。触媒を過で除き、液より減圧下
で溶媒を留去して（Ｒ）−３−クロロ−２−メタンスル
ホニルオキシ−１−プロパノール14.6g（77.2m mol，収
率82.8％）を得た。
この生成物の性状は以下の通りである。
▲〔α〕25 D▼＋4.20° （Ｃ＝1.43 メタノール） １Ｒ νmax cm-1 3560,1346,1174 ＮＭＲ（CDCl3） δ：3.04 （1H，br） 3.15 （3H，ｓ） 3.65〜4.00 （4H，ｍ） 4.60〜5.05 （1H，ｍ） 上記生成物（Ｒ）−３−クロロ−２−メタンスルホニル
オキシ−１−プロパノール11.6ｇ（61.7m mol）と塩化
メチレン50mlと水30mlを混合し25℃で攪拌しながら48重
量％水酸化ナトリウム水溶液6.29ｇ（75.5m mol）を15
分で滴下した。さらに25℃で10分間攪拌した後塩化メチ
レンで抽出し無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。常圧
で塩化メチレンを留去した後、続いて（Ｓ）−エピクロ
ルヒドリン3.89ｇ（42.1m mol，収率68.2％）を蒸留に
より得た。
オキシ−１−プロパノール11.6ｇ（61.7m mol）と塩化
メチレン50mlと水30mlを混合し25℃で攪拌しながら48重
量％水酸化ナトリウム水溶液6.29ｇ（75.5m mol）を15
分で滴下した。さらに25℃で10分間攪拌した後塩化メチ
レンで抽出し無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。常圧
で塩化メチレンを留去した後、続いて（Ｓ）−エピクロ
ルヒドリン3.89ｇ（42.1m mol，収率68.2％）を蒸留に
より得た。
この生成物の性状は以下の通りである。
▲〔α〕25 D▼＋33.0° （Ｃ＝1.17 メタノール） １Ｒ νmax cm-1 1268 ＮＭＲ（CDCl3） δ：2.55〜3.00 （2H，ｍ） 3.05〜3.40 （1H，ｍ） 3.55 （2H，ｄ Ｊ＝4.8Hz） 実施例２ アリルアルコール94.2ｇ（1.62mol）と三フッ化ホウ素
エチルエーテル0.2ml（1.62×10-3mol）を反応器に入
れ、50℃で攪拌しながら（Ｒ）−エピクロルヒドリン
（▲〔α〕24 D▼−32.5°（ｃ＝1.18 メタノール））5
0g(0.54mol)を１時間で滴下した。滴下終了後同温度で
2.5時間反応を行った。冷却後、反応液に飽和重曹水を
加えてpH7とした後、さらに水を加えてエチルエーテル
による抽出を行い、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無
水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧下でエチルエ
ーテルを留去し、さらに残渣を減圧蒸留（bp60℃／0.9m
mHg）して（Ｒ）−１−アリルオキシ−３−クロロ−２
−プロパノール63.9g（収率78.5％）を得た。
エチルエーテル0.2ml（1.62×10-3mol）を反応器に入
れ、50℃で攪拌しながら（Ｒ）−エピクロルヒドリン
（▲〔α〕24 D▼−32.5°（ｃ＝1.18 メタノール））5
0g(0.54mol)を１時間で滴下した。滴下終了後同温度で
2.5時間反応を行った。冷却後、反応液に飽和重曹水を
加えてpH7とした後、さらに水を加えてエチルエーテル
による抽出を行い、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無
水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧下でエチルエ
ーテルを留去し、さらに残渣を減圧蒸留（bp60℃／0.9m
mHg）して（Ｒ）−１−アリルオキシ−３−クロロ−２
−プロパノール63.9g（収率78.5％）を得た。
この生成物の性状は以下の通りである。
▲〔α〕24 D▼−5.73° （Ｃ＝1.05 メタノール） ▲ｎ30 D▼1.4596 １Ｒ νmax cm-1 3400,1100 ＮＭＲ（CDCl3） δ：2.90〜3.20 （1H,br） 3.40〜3.70 （4H，ｍ） 3.70〜4.25 （3H，ｍ） 5.00〜6.25 （3H，ｍ） 上記生成物（Ｒ）−１−アリルオキシ−３−クロロ−２
−プロパノール50ｇ（0.33mol）を塩化メチレン150mlに
溶かし、25℃で攪拌しながらトリエチルアミン37g(0.37
mol)を加え、さらに塩化メタンスルホン酸30ml(0.39mo
l)を１時間で滴下した。滴下終了後同温度で２時間反応
を行った。反応液に４Ｎ塩酸を加えてpH1とした後塩化
メチレンで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾
燥させた。減圧下で溶媒を留去し、さらに残渣を減圧蒸
留（bp 125℃／0.8mmHg）して（Ｒ）−１−アリルオキ
シ−３−クロロ−２−メタンスルホニルオキシプロパン
74.3g（収率97.9％）を得た。
−プロパノール50ｇ（0.33mol）を塩化メチレン150mlに
溶かし、25℃で攪拌しながらトリエチルアミン37g(0.37
mol)を加え、さらに塩化メタンスルホン酸30ml(0.39mo
l)を１時間で滴下した。滴下終了後同温度で２時間反応
を行った。反応液に４Ｎ塩酸を加えてpH1とした後塩化
メチレンで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾
燥させた。減圧下で溶媒を留去し、さらに残渣を減圧蒸
留（bp 125℃／0.8mmHg）して（Ｒ）−１−アリルオキ
シ−３−クロロ−２−メタンスルホニルオキシプロパン
74.3g（収率97.9％）を得た。
この生成物の性状は以下の通りである。
▲〔α〕24 D▼＋4.22° （Ｃ＝1.16 メタノール） ▲ｎ30 D▼1.4639 １Ｒ νmax cm-1 1360,1172 ＮＭＲ（CDCl3） δ：3.10 （3H，ｓ） 3.60〜3.85 （4H，ｍ） 3.90〜4.15 （2H，ｍ） 4.65〜5.05 （1H，ｍ） 5.05〜6.25 （3H，ｍ） 上記生成物（Ｒ）−１−アリルオキシ−３−クロロ−２
−メタンスルホニルオキシプロパン50ｇ（0.22mol）を
メタノール200mlに溶かし、水40ml，10重量％パラジウ
ム−カーボン6g（5.6×10-3mol）、さらにｐ−トルエン
スルホン酸6g（3.5×10-2mol）を加えて加熱還流下で10
時間攪拌させた。触媒を過で除き、液を減圧下で濃
縮した後、塩化メチレンで抽出し、有機層を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥させた。減圧下で溶媒を留去して
（Ｒ）−３−クロロ−２−メタンスルホニルオキシ−１
−プロパノール33.5g（81.3％）を得た。
−メタンスルホニルオキシプロパン50ｇ（0.22mol）を
メタノール200mlに溶かし、水40ml，10重量％パラジウ
ム−カーボン6g（5.6×10-3mol）、さらにｐ−トルエン
スルホン酸6g（3.5×10-2mol）を加えて加熱還流下で10
時間攪拌させた。触媒を過で除き、液を減圧下で濃
縮した後、塩化メチレンで抽出し、有機層を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥させた。減圧下で溶媒を留去して
（Ｒ）−３−クロロ−２−メタンスルホニルオキシ−１
−プロパノール33.5g（81.3％）を得た。
この生成物の性状は以下の通りである。
▲〔α〕24 D▼＋4.16° （Ｃ＝1.18 メタノール） ▲ｎ30 D▼1.4693 １Ｒ νmax cm-1 3450,1340,1170 ＮＭＲ（CDCl3） δ：3.04 （1H，br） 3.15 （3H，ｓ） 3.65〜4.00 （4H，ｍ） 4.60〜5.05 （1H，ｍ） 上記生成物（Ｒ）−３−クロロ−メタンスルホニルオキ
シ−１−プロパノール25.5ｇ（0.14mol）に塩化メチレ
ン150mlを加え、25℃で攪拌しながら48重量％水酸化ナ
トリウム水溶液13.5ｇ（0.16mol）を30分で滴下した。
滴下終了後同温度で３０分反応を行った。反応後水を加
え、塩化メチレンで抽出し無水硫酸マグネシウムで乾燥
させた。常圧で塩化メチレンを留去して、さらに残渣を
減圧蒸留（bp 40℃／40mmHg）して（Ｓ）−エピクロル
ヒドリン8.7g（収率69.5％）を得た。
シ−１−プロパノール25.5ｇ（0.14mol）に塩化メチレ
ン150mlを加え、25℃で攪拌しながら48重量％水酸化ナ
トリウム水溶液13.5ｇ（0.16mol）を30分で滴下した。
滴下終了後同温度で３０分反応を行った。反応後水を加
え、塩化メチレンで抽出し無水硫酸マグネシウムで乾燥
させた。常圧で塩化メチレンを留去して、さらに残渣を
減圧蒸留（bp 40℃／40mmHg）して（Ｓ）−エピクロル
ヒドリン8.7g（収率69.5％）を得た。
この生成物の性状は以下の通りである。
▲〔α〕24 D▼＋32.2° （Ｃ＝1.13 メタノール） ▲ｎ30 D▼1.4338 １Ｒ νmax cm-1 1265 ＮＭＲ（CDCl3） δ：2.55〜3.00 （2H，ｍ） 3.05〜3.40 （1H，ｍ） 3.55 （2H，ｄ） 上記実施例において、原料エピクロルヒドリンとして
（Ｒ）体の代りに（Ｓ）体を原料として同様に行って
（Ｓ）体の各グリセロール誘導体及び（Ｒ）−エピクロ
ルヒドリンを得たが、この場合も同様に光学純度の低下
はなくそれぞれ高純度な光学異性体の生成が確認され
た。
（Ｒ）体の代りに（Ｓ）体を原料として同様に行って
（Ｓ）体の各グリセロール誘導体及び（Ｒ）−エピクロ
ルヒドリンを得たが、この場合も同様に光学純度の低下
はなくそれぞれ高純度な光学異性体の生成が確認され
た。
（発明の効果） 本発明法は、原料エピクロルヒドリンの光学純度を低下
させることなしに光学活性エピクロルヒドリンの両対掌
体を相互に立体化学反転させることができ、必要とする
高純度な光学異性体を随意に実用的方法で提供すること
ができる。
させることなしに光学活性エピクロルヒドリンの両対掌
体を相互に立体化学反転させることができ、必要とする
高純度な光学異性体を随意に実用的方法で提供すること
ができる。
Claims (3)
- 【請求項１】一方の光学活性エピクロルヒドリンの立体
化学を反転させて光学異性体である他方の光学活性エピ
クロルヒドリンを製造するに際し、下記の（Ｉ）〜（I
V）の工程によって行うことを特徴とする光学活性エピ
クロルヒドリンの立体化学反転法。 （Ｉ）光学活性エピクロルヒドリンと下記一般式（Ｉ）
で表わされるアルコールとを酸性触媒の存在下で反応さ
せて下記一般式（II）で表わされる光学活性グリセロー
ル誘導体（II）を製造する工程 上記一般式（Ｉ）及び（II）において、Ｒ１はＣ６Ｈ５
ＣＨ２−，ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−，ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ
３）−ＣＨ２−，（ＣＨ３）３Ｃ−，（Ｃ６Ｈ５）２Ｃ
Ｈ−及び（Ｃ６Ｈ５）３Ｃ−より選ばれた基である。ま
た一般式（II）において＊の符号は不斉炭素原子を表わ
す。 （II）上記光学活性グリセロール誘導体（II）を塩基の
存在下でスルホン酸ハライドと反応させて下記一般式
（III）で表わされる光学活性グリセロール誘導体（II
I）を製造する工程 上記一般式（III）において、Ｒはハロゲンを有してい
てもよい炭素数１〜３のアルキル基及び炭素数６〜12の
アリール基より選ばれた基であり、Ｒ１は一般式（Ｉ）
のＲ１と同じ意味を表わし、＊の符号は不斉炭素原子を
表わす。 （III）上記光学活性グリセロール誘導体（III）を酸性
触媒、金属触媒又は酸性触媒と金属触媒との存在下で反
応させて一般式（IV）で表わされる光学活性グリセロー
ル誘導体（IV）を製造する工程 上記一般式（IV）において、Ｒは一般式（III）のＲと
同じ意味を表わし、＊の符号は不斉炭素原子を表わす。 （IV）上記光学活性グリセロール誘導体（IV）を塩基の
存在下で分子内閉環させて光学異性体である他方の光学
活性エピクロルヒドリンを製造する工程 - 【請求項２】一方の光学活性エピクロルヒドリンが
（Ｒ）体であり他方の光学活性エピクロルヒドリンが
（Ｓ）体である請求項１記載の方法。 - 【請求項３】一方の光学活性エピクロルヒドリンが
（Ｓ）体であり他方の光学活性エピクロルヒドリンが
（Ｒ）体である請求項１記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28488188A JPH0615534B2 (ja) | 1987-11-10 | 1988-11-10 | 光学活性エピクロルヒドリンの立体化学反転法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28339387 | 1987-11-10 | ||
| JP62-283393 | 1987-11-10 | ||
| JP28488188A JPH0615534B2 (ja) | 1987-11-10 | 1988-11-10 | 光学活性エピクロルヒドリンの立体化学反転法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01230567A JPH01230567A (ja) | 1989-09-14 |
| JPH0615534B2 true JPH0615534B2 (ja) | 1994-03-02 |
Family
ID=26555021
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28488188A Expired - Lifetime JPH0615534B2 (ja) | 1987-11-10 | 1988-11-10 | 光学活性エピクロルヒドリンの立体化学反転法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0615534B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2190511A1 (en) * | 1994-05-16 | 1995-11-23 | J. Peter Klein | Asymmetric synthesis of chiral secondary alcohols |
-
1988
- 1988-11-10 JP JP28488188A patent/JPH0615534B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01230567A (ja) | 1989-09-14 |
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