JPH06143437A - 紫外線硬化造形装置 - Google Patents
紫外線硬化造形装置Info
- Publication number
- JPH06143437A JPH06143437A JP32596992A JP32596992A JPH06143437A JP H06143437 A JPH06143437 A JP H06143437A JP 32596992 A JP32596992 A JP 32596992A JP 32596992 A JP32596992 A JP 32596992A JP H06143437 A JPH06143437 A JP H06143437A
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- JP
- Japan
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- harmonic
- high frequency
- mirror
- converting
- laser
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 紫外線領域の光を必要とする光硬化造形装置
の光源として寿命が長くメインテナンスの容易なＹＡＧ
レーザを使用する。ＹＡＧレーザ自体は赤外領域であ
り、そのままでは光硬化造形装置に使えない。しかるに
第３高調波に変換する装置を組込むと、硬化能力に優れ
た波長が得られる。共振系を活用することによって第３
高調波への変換効率が向上する。
の光源として寿命が長くメインテナンスの容易なＹＡＧ
レーザを使用する。ＹＡＧレーザ自体は赤外領域であ
り、そのままでは光硬化造形装置に使えない。しかるに
第３高調波に変換する装置を組込むと、硬化能力に優れ
た波長が得られる。共振系を活用することによって第３
高調波への変換効率が向上する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、紫外線に照射されると
硬化する性質を持つ液状の光硬化性樹脂を用いて、所望
形状の硬化物を造形する装置に関するものである。
硬化する性質を持つ液状の光硬化性樹脂を用いて、所望
形状の硬化物を造形する装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年３次元ＣＡＤシステムや３次元測定
器等が普及するとともに３次元の形状を定義するデータ
が普通に用いられるようになっている。そこでこれらの
データによって定義される形状を有する硬化物を実際に
造形することによって、その形状を確認したいという要
望が増大している。また例えば鋳型等の生産に用いられ
るモデルの作成のためには多大の工数が必要とされてお
り、所望形状の物体をより簡単にかつより短時間で造形
したいという要望も強くなっている。
器等が普及するとともに３次元の形状を定義するデータ
が普通に用いられるようになっている。そこでこれらの
データによって定義される形状を有する硬化物を実際に
造形することによって、その形状を確認したいという要
望が増大している。また例えば鋳型等の生産に用いられ
るモデルの作成のためには多大の工数が必要とされてお
り、所望形状の物体をより簡単にかつより短時間で造形
したいという要望も強くなっている。
【０００３】このような要望に応える技術として光硬化
造形技術が開発されており、その基本原理が特開昭５６
−１４４４７８号公報に開示されている。この光硬化造
形技術では、紫外線に照射されると硬化する性質をもつ
液状の光硬化性樹脂を用い、その液体に対して所望の位
置のみを紫外線照射する。これによって紫外線が照射さ
れた領域のみが硬化し、所望形状の硬化物が造形され
る。この光硬化造形技術では、光源として紫外線発生装
置が必要とされる。そのために通常はＨｅ−Ｃｄ（ヘリ
ウム−カドミウム）レーザかＡｒ（アルゴン）イオンレ
ーザが用いられる。
造形技術が開発されており、その基本原理が特開昭５６
−１４４４７８号公報に開示されている。この光硬化造
形技術では、紫外線に照射されると硬化する性質をもつ
液状の光硬化性樹脂を用い、その液体に対して所望の位
置のみを紫外線照射する。これによって紫外線が照射さ
れた領域のみが硬化し、所望形状の硬化物が造形され
る。この光硬化造形技術では、光源として紫外線発生装
置が必要とされる。そのために通常はＨｅ−Ｃｄ（ヘリ
ウム−カドミウム）レーザかＡｒ（アルゴン）イオンレ
ーザが用いられる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながらＨｅ−Ｃ
ｄレーザやＡｒイオンレーザは寿命が約２０００時間程
度と短い。このために高価なレーザチューブを頻繁に交
換しなければならず、ランニングコストが高価となって
いる。またレーザチューブの交換作業に時間がかかる。
さらにレーザチューブを交換すると、光軸調整等の作業
が必要となり、その光軸調整のための装置を予め造形装
置自体に組付けておく必要も存在する。そこで本発明で
はレーザチューブ自体の交換をほぼ不要とし、ランニン
グコストの低減とメインテナンスのための時間を短縮化
しようとするものである。
ｄレーザやＡｒイオンレーザは寿命が約２０００時間程
度と短い。このために高価なレーザチューブを頻繁に交
換しなければならず、ランニングコストが高価となって
いる。またレーザチューブの交換作業に時間がかかる。
さらにレーザチューブを交換すると、光軸調整等の作業
が必要となり、その光軸調整のための装置を予め造形装
置自体に組付けておく必要も存在する。そこで本発明で
はレーザチューブ自体の交換をほぼ不要とし、ランニン
グコストの低減とメインテナンスのための時間を短縮化
しようとするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】そのために本発明では、
下記の紫外線硬化造形装置を創り出した。すなわちこの
発明に係わる紫外線硬化造形装置は、紫外線に照射され
ると硬化する液状の光硬化性樹脂に選択的に紫外線照射
して所望形状の硬化物を造形する装置であり、光源とし
て、ＹＡＧレーザと、該ＹＡＧレーザの発振光を第３高
調波に変換する装置とを備えている。
下記の紫外線硬化造形装置を創り出した。すなわちこの
発明に係わる紫外線硬化造形装置は、紫外線に照射され
ると硬化する液状の光硬化性樹脂に選択的に紫外線照射
して所望形状の硬化物を造形する装置であり、光源とし
て、ＹＡＧレーザと、該ＹＡＧレーザの発振光を第３高
調波に変換する装置とを備えている。
【０００６】なお第３高調波へ変換する装置はレーザ光
を直接第３高調波に変換する装置としてもよいが、それ
に代えて、該ＹＡＧレーザの発振光を第２高調波に変換
する素子と、該素子で変換された第２高調波と該ＹＡＧ
レーザの発振光とを第３高調波に変換する素子で構成し
てもよい。さらに、第２高調波に変換する素子や第３高
調波へ変換する素子の両側にミラーを配置し、前者の場
合にはレーザ光が、後者の場合には第２高調波が変換素
子に繰返し入射されるようにするのが好ましい。
を直接第３高調波に変換する装置としてもよいが、それ
に代えて、該ＹＡＧレーザの発振光を第２高調波に変換
する素子と、該素子で変換された第２高調波と該ＹＡＧ
レーザの発振光とを第３高調波に変換する素子で構成し
てもよい。さらに、第２高調波に変換する素子や第３高
調波へ変換する素子の両側にミラーを配置し、前者の場
合にはレーザ光が、後者の場合には第２高調波が変換素
子に繰返し入射されるようにするのが好ましい。
【０００７】
【作用】ＹＡＧレーザは高強度のレーザ光を発振し、し
かも長寿命であり、ＹＡＧロッド自体は殆ど交換を要し
ない。しかしながらＹＡＧレーザは１，０６４ｎｍまた
は１，３１９ｎｍの波長であり、そのままでは液体との
反応性が低く、光硬化造形装置の光源として不適当であ
る。しかしながら本発明の光硬化造形装置ではＹＡＧレ
ーザの発振光を第３高調波に変換する装置が組込まれて
いるために、液体を硬化させる波長に変換されて用いら
れる。このために、本発明によると高強度のレーザ光を
発振し、しかも長寿命のＹＡＧレーザを用いることがで
きる。
かも長寿命であり、ＹＡＧロッド自体は殆ど交換を要し
ない。しかしながらＹＡＧレーザは１，０６４ｎｍまた
は１，３１９ｎｍの波長であり、そのままでは液体との
反応性が低く、光硬化造形装置の光源として不適当であ
る。しかしながら本発明の光硬化造形装置ではＹＡＧレ
ーザの発振光を第３高調波に変換する装置が組込まれて
いるために、液体を硬化させる波長に変換されて用いら
れる。このために、本発明によると高強度のレーザ光を
発振し、しかも長寿命のＹＡＧレーザを用いることがで
きる。
【０００８】またレーザ光を一旦第２高調波に変換し、
さらに変換された第２高調波と基本レーザ光を第３高調
波に変換すると、第３高調波への変換効率が向上する。
さらに変換素子の両側にミラーを配置して変換前の光が
変換素子に繰返し入射されるようにすると、第３高調波
への変換効率が大幅に向上する。このようにして高強度
の第３高調波が得られる。
さらに変換された第２高調波と基本レーザ光を第３高調
波に変換すると、第３高調波への変換効率が向上する。
さらに変換素子の両側にミラーを配置して変換前の光が
変換素子に繰返し入射されるようにすると、第３高調波
への変換効率が大幅に向上する。このようにして高強度
の第３高調波が得られる。
【０００９】
【発明の効果】本発明によると、本来は光硬化造形法に
用いることのできない波長で発振するＹＡＧレーザが利
用可能となる。そしてＹＡＧレーザは、光硬化造形装置
の光源として現在用いられているＨｅ−ＣｄレーザやＡ
ｒイオンレーザに対して著しく長寿命である。ＹＡＧレ
ーザの場合、励起用のアークランプあるいはレーザダイ
オードを交換すればよく、ＹＡＧロッドそのものの交換
はほとんど不必要である。さらにまたアークランプの寿
命もＨｅ−ＣｄレーザやＡｒイオンレーザに比して１桁
寿命が長い。
用いることのできない波長で発振するＹＡＧレーザが利
用可能となる。そしてＹＡＧレーザは、光硬化造形装置
の光源として現在用いられているＨｅ−ＣｄレーザやＡ
ｒイオンレーザに対して著しく長寿命である。ＹＡＧレ
ーザの場合、励起用のアークランプあるいはレーザダイ
オードを交換すればよく、ＹＡＧロッドそのものの交換
はほとんど不必要である。さらにまたアークランプの寿
命もＨｅ−ＣｄレーザやＡｒイオンレーザに比して１桁
寿命が長い。
【００１０】このために、交換周期が長くなり、また交
換部分のコストも低減でき、ランニングコストの大幅な
低下が可能となる。さらにまたアークランプの交換はレ
ーザチューブの交換に比して簡単であり、またレーザの
光軸調整も不要となる。このためメインテナンスのため
の時間を大幅に短縮化できる。このようにして、本発明
によると、光硬化造形装置のランニングコストとメイン
テナンスのための時間を大幅に低減させることができ
る。
換部分のコストも低減でき、ランニングコストの大幅な
低下が可能となる。さらにまたアークランプの交換はレ
ーザチューブの交換に比して簡単であり、またレーザの
光軸調整も不要となる。このためメインテナンスのため
の時間を大幅に短縮化できる。このようにして、本発明
によると、光硬化造形装置のランニングコストとメイン
テナンスのための時間を大幅に低減させることができ
る。
【００１１】
【実施例】次に本発明を具現化した２つの実施例を例示
する。図１は第１実施例を示すものであり、図中記号Ｍ
で示す１群のミラーの特性が右下の表に集約されてい
る。次にこの光学系の構成を説明する。図中２はＹＡＧ
ロッドを示し、ＹＡＧロッド２はＫｒ（クリプトン）ア
ークランプ４で照射される。ＹＡＧロッド２の両サイド
にはミラーＭ２とＫＴＰ（ＫＴｉＯＰＯ4 ）結晶10を介
してミラーＭ１とミラーＭ３が配置されており、ミラー
Ｍ１とミラーＭ３でレーザ共振系を構成している。ミラ
ーＭ３はＹＡＧロッド２から発振される基本波（波長
１，０６４ナノメーター）を１部反射して１部透過する
特性を有し、ミラーＭ３から出射された基本波はミラー
Ｍ４，Ｍ５，Ｍ６，Ｍ２，集光レンズ８，ＢＢＯ（β−
ＢａＢ2 Ｏ4 ）結晶６とミラーＭ７（基本波には透明）
を介してミラーＭ８に至る。ミラーＭ８に至った基本波
は逆経路を経てミラーＭ３に至り、ミラーＭ３によって
反射される。このようにミラーＭ３とミラーＭ８間で基
本波の共振系が構成されている。
する。図１は第１実施例を示すものであり、図中記号Ｍ
で示す１群のミラーの特性が右下の表に集約されてい
る。次にこの光学系の構成を説明する。図中２はＹＡＧ
ロッドを示し、ＹＡＧロッド２はＫｒ（クリプトン）ア
ークランプ４で照射される。ＹＡＧロッド２の両サイド
にはミラーＭ２とＫＴＰ（ＫＴｉＯＰＯ4 ）結晶10を介
してミラーＭ１とミラーＭ３が配置されており、ミラー
Ｍ１とミラーＭ３でレーザ共振系を構成している。ミラ
ーＭ３はＹＡＧロッド２から発振される基本波（波長
１，０６４ナノメーター）を１部反射して１部透過する
特性を有し、ミラーＭ３から出射された基本波はミラー
Ｍ４，Ｍ５，Ｍ６，Ｍ２，集光レンズ８，ＢＢＯ（β−
ＢａＢ2 Ｏ4 ）結晶６とミラーＭ７（基本波には透明）
を介してミラーＭ８に至る。ミラーＭ８に至った基本波
は逆経路を経てミラーＭ３に至り、ミラーＭ３によって
反射される。このようにミラーＭ３とミラーＭ８間で基
本波の共振系が構成されている。
【００１２】ＫＴＰ結晶１０にはミラーＭ１とミラーＭ
３間の共振系で共振する基本波が入射される。そのため
ＫＴＰ１０から第２高調波（５３２ナノメーター）の光
が出射される。出射された第２高調波（図中破線で示さ
れる。なお図中では図示の便宜のために光軸をズラして
表示している）はミラーＭ２と集光レンズ８を透過し、
ＢＢＯ結晶６に入射される。またＫＴＰ結晶１０から下
方に出射された第２高調波はミラーＭ３で反射され、や
はりＢＢＯ結晶６に入射される。ＢＢＯ結晶６に入射さ
れた第２高調波のうちの１部は、第１調波と相俟ってＢ
ＢＯ結晶６によって第３高調波に変換される。ＢＢＯ結
晶６に入射された第２高調波のうち第３高調波に変換さ
れなかった光はミラーＭ８に至り逆経路を経てミラーＭ
３に至り再度反射される。このように第３高調波に変換
するＢＢＯ結晶６の両サイドにミラーＭ３とＭ８が配置
され、この間に第２高調波の共振系が構成されている。
ＢＢＯ結晶６で変換された第３高調波（波長３５４ナノ
メーターで後記感光性樹脂あるいは光硬化性樹脂をよく
硬化させる）は、ミラーＭ７によって取出され、リニア
トランスレータ１２を介してガルバノミラー１４によっ
て反射される。ガルバノミラー１４は、液状の感光性樹
脂（あるいは光硬化性樹脂）１８を貯蔵している容器２
４の上方にあり、液面の任意位置に第３高調波を照射す
ることができる。第３高調波が照射されると液状樹脂は
硬化する。液体１８の中にはエレベータ２６が沈められ
ており、一断面における照射が終了するたびにエレベー
タ２６を下降させ、ついで次断面のための照射を繰返す
ことにより液状の樹脂１８の中に任意の形状の硬化物２
２が造形される。なおリニアトランスレータ１２は第３
高調波の焦点を液表面に維持しておくための光学系であ
る。またＢＢＯ結晶６からは第４高調波（波長２５６ナ
ノメーター）も生じるが、ミラーＭ７は第４高調波には
透明なものが選ばれている。
３間の共振系で共振する基本波が入射される。そのため
ＫＴＰ１０から第２高調波（５３２ナノメーター）の光
が出射される。出射された第２高調波（図中破線で示さ
れる。なお図中では図示の便宜のために光軸をズラして
表示している）はミラーＭ２と集光レンズ８を透過し、
ＢＢＯ結晶６に入射される。またＫＴＰ結晶１０から下
方に出射された第２高調波はミラーＭ３で反射され、や
はりＢＢＯ結晶６に入射される。ＢＢＯ結晶６に入射さ
れた第２高調波のうちの１部は、第１調波と相俟ってＢ
ＢＯ結晶６によって第３高調波に変換される。ＢＢＯ結
晶６に入射された第２高調波のうち第３高調波に変換さ
れなかった光はミラーＭ８に至り逆経路を経てミラーＭ
３に至り再度反射される。このように第３高調波に変換
するＢＢＯ結晶６の両サイドにミラーＭ３とＭ８が配置
され、この間に第２高調波の共振系が構成されている。
ＢＢＯ結晶６で変換された第３高調波（波長３５４ナノ
メーターで後記感光性樹脂あるいは光硬化性樹脂をよく
硬化させる）は、ミラーＭ７によって取出され、リニア
トランスレータ１２を介してガルバノミラー１４によっ
て反射される。ガルバノミラー１４は、液状の感光性樹
脂（あるいは光硬化性樹脂）１８を貯蔵している容器２
４の上方にあり、液面の任意位置に第３高調波を照射す
ることができる。第３高調波が照射されると液状樹脂は
硬化する。液体１８の中にはエレベータ２６が沈められ
ており、一断面における照射が終了するたびにエレベー
タ２６を下降させ、ついで次断面のための照射を繰返す
ことにより液状の樹脂１８の中に任意の形状の硬化物２
２が造形される。なおリニアトランスレータ１２は第３
高調波の焦点を液表面に維持しておくための光学系であ
る。またＢＢＯ結晶６からは第４高調波（波長２５６ナ
ノメーター）も生じるが、ミラーＭ７は第４高調波には
透明なものが選ばれている。
【００１３】さて本実施例では基本波を第２高調波に変
換する素子であるＫＴＰ結晶１０が基本波の共振系のな
かに挿入されているために、高効率で第２高調波に変換
される。また第２高調波を第３高調波に変換する素子で
あるＢＢＯ結晶６が第２高調波の共振系のなかに挿入さ
れているために高効率で第３高調波に変換される。
換する素子であるＫＴＰ結晶１０が基本波の共振系のな
かに挿入されているために、高効率で第２高調波に変換
される。また第２高調波を第３高調波に変換する素子で
あるＢＢＯ結晶６が第２高調波の共振系のなかに挿入さ
れているために高効率で第３高調波に変換される。
【００１４】このためにリニアトランスレータ１２には
充分な強度の第３高調波（３５４ｎｍ）が入射され、光
造形装置の造形速度が向上する。またＹＡＧロッド２は
実質上ほとんど交換を必要とせず、クリプトンアークラ
ンプ４を交換するだけでよい。このためＹＡＧロッド２
の光軸調整が不要であり、メインテナンス作業が著しく
簡単化される。またクリプトンランプ４の寿命は長く、
交換周期を長期化できる。
充分な強度の第３高調波（３５４ｎｍ）が入射され、光
造形装置の造形速度が向上する。またＹＡＧロッド２は
実質上ほとんど交換を必要とせず、クリプトンアークラ
ンプ４を交換するだけでよい。このためＹＡＧロッド２
の光軸調整が不要であり、メインテナンス作業が著しく
簡単化される。またクリプトンランプ４の寿命は長く、
交換周期を長期化できる。
【００１５】次に図２を参照して第２実施例を説明す
る。この実施例は、ＢＢＯ結晶６で変換された第３高調
波をミラーＭ９とＭ１０で反射することによって、リニ
アトランスレータ１２に入射される第３高調波の強度を
さらに向上させたものである。またこの実施例では、ミ
ラーＭ７で取出された第３高調波を光ファイバ３０の一
端３０ａに入射し、光ファイバ３０の他端３０ｂをＸＹ
プロッタ３２によってＸＹ方向に走査することで液面の
任意の位置を照射する。このように、第３高調波の発生
源と液面間の光伝達経路には、ガルバノミラータイプや
プロッタタイプ等各種形式がとり得る。
る。この実施例は、ＢＢＯ結晶６で変換された第３高調
波をミラーＭ９とＭ１０で反射することによって、リニ
アトランスレータ１２に入射される第３高調波の強度を
さらに向上させたものである。またこの実施例では、ミ
ラーＭ７で取出された第３高調波を光ファイバ３０の一
端３０ａに入射し、光ファイバ３０の他端３０ｂをＸＹ
プロッタ３２によってＸＹ方向に走査することで液面の
任意の位置を照射する。このように、第３高調波の発生
源と液面間の光伝達経路には、ガルバノミラータイプや
プロッタタイプ等各種形式がとり得る。
【図１】第１実施例の構成を示す図
【図２】第２実施例の構成を示す図
ＫＴＰとＢＢＯ；基本波を第３高調波に変換する素子 ＫＴＰ ；基本波を第２高調波に変換する素子 ＢＢＯ ；基本波と第２高調波を第３高調波に変
換する素子 Ｍ１とＭ３ ；基本波を反射する一対ミラー Ｍ３とＭ８ ；第２高調波を反射する一対ミラー
換する素子 Ｍ１とＭ３ ；基本波を反射する一対ミラー Ｍ３とＭ８ ；第２高調波を反射する一対ミラー
Claims (6)
- 【請求項１】 紫外線に照射されると硬化する液状光硬
化性樹脂に選択的に紫外線照射して所望形状の硬化物を
造形する装置であり、 光源として、ＹＡＧレーザと、該ＹＡＧレーザの発振光
を第３高調波に変換する装置とを備えたことを特徴とす
る紫外線硬化造形装置。 - 【請求項２】 前記第３高調波に変換する装置が、該Ｙ
ＡＧレーザの発振光を第２高調波に変換する素子と、該
素子で変換された第２高調波と該ＹＡＧレーザの発振光
とを第３高調波に変換する素子とで構成されていること
を特徴とする請求項１に記載の紫外線硬化造形装置。 - 【請求項３】 前記第２高調波に変換する素子が、該Ｙ
ＡＧレーザの発振光を反射する一対のミラー間に挿入さ
れていることを特徴とする請求項２に記載の紫外線硬化
造形装置。 - 【請求項４】 前記第３高調波に変換する素子が、第２
高調波を反射する一対のミラー間に挿入されていること
を特徴とする請求項２に記載の紫外線硬化造形装置。 - 【請求項５】 前記第２高調波に変換する素子がＫＴＰ
結晶であり、かつ前記第３高調波に変換する素子がＢＢ
Ｏ結晶であることを特徴とする請求項３または４に記載
の紫外線硬化造形装置。 - 【請求項６】 紫外線に照射されると硬化する液状光硬
化性樹脂に選択的に紫外線照射して所望形状の硬化物を
造形する装置であり、 ＹＡＧレーザと該ＹＡＧレーザの発振光を第３高調波に
変換する装置を、プロッタタイプ又はガルバノミラータ
イプの３次元モデリングシステムに組入れたことを特徴
とする紫外線硬化造形装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32596992A JPH06143437A (ja) | 1992-11-10 | 1992-11-10 | 紫外線硬化造形装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32596992A JPH06143437A (ja) | 1992-11-10 | 1992-11-10 | 紫外線硬化造形装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06143437A true JPH06143437A (ja) | 1994-05-24 |
Family
ID=18182620
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32596992A Pending JPH06143437A (ja) | 1992-11-10 | 1992-11-10 | 紫外線硬化造形装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06143437A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5840239A (en) * | 1997-01-31 | 1998-11-24 | 3D Systems, Inc. | Apparatus and method for forming three-dimensional objects in stereolithography utilizing a laser exposure system having a diode pumped frequency quadrupled solid state laser |
| US6001297A (en) * | 1997-04-28 | 1999-12-14 | 3D Systems, Inc. | Method for controlling exposure of a solidfiable medium using a pulsed radiation source in building a three-dimensional object using stereolithography |
| US6129884A (en) * | 1999-02-08 | 2000-10-10 | 3D Systems, Inc. | Stereolithographic method and apparatus with enhanced control of prescribed stimulation production and application |
| JP2006082559A (ja) * | 1999-02-08 | 2006-03-30 | Three D Syst Inc | ３次元物体の造形方法 |
| US7760774B2 (en) | 2001-09-20 | 2010-07-20 | Klastech-Karpushko Laser Technologies Gmbh | Intracavity frequency conversion of laser radiation |
| CN107214338A (zh) * | 2016-03-22 | 2017-09-29 | 薛富盛 | 积层制造方法及其加工机 |
-
1992
- 1992-11-10 JP JP32596992A patent/JPH06143437A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5840239A (en) * | 1997-01-31 | 1998-11-24 | 3D Systems, Inc. | Apparatus and method for forming three-dimensional objects in stereolithography utilizing a laser exposure system having a diode pumped frequency quadrupled solid state laser |
| US6172996B1 (en) * | 1997-01-31 | 2001-01-09 | 3D Systems, Inc. | Apparatus and method for forming three-dimensional objects in stereolithography utilizing a laser exposure system with a diode pumped frequency-multiplied solid state laser |
| US6001297A (en) * | 1997-04-28 | 1999-12-14 | 3D Systems, Inc. | Method for controlling exposure of a solidfiable medium using a pulsed radiation source in building a three-dimensional object using stereolithography |
| US6215095B1 (en) | 1997-04-28 | 2001-04-10 | 3D Systems, Inc. | Apparatus and method for controlling exposure of a solidifiable medium using a pulsed radiation source in building a three-dimensional object using stereolithography |
| US6129884A (en) * | 1999-02-08 | 2000-10-10 | 3D Systems, Inc. | Stereolithographic method and apparatus with enhanced control of prescribed stimulation production and application |
| JP2006082559A (ja) * | 1999-02-08 | 2006-03-30 | Three D Syst Inc | ３次元物体の造形方法 |
| US7760774B2 (en) | 2001-09-20 | 2010-07-20 | Klastech-Karpushko Laser Technologies Gmbh | Intracavity frequency conversion of laser radiation |
| US8315284B2 (en) | 2001-09-20 | 2012-11-20 | Karpushko Fedor V | Intracavity frequency conversion of laser radiation |
| CN107214338A (zh) * | 2016-03-22 | 2017-09-29 | 薛富盛 | 积层制造方法及其加工机 |
| CN107214338B (zh) * | 2016-03-22 | 2020-03-10 | 薛富盛 | 积层制造方法及其加工机 |
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