JPH07266429A - 光造形装置 - Google Patents
光造形装置Info
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- JPH07266429A JPH07266429A JP6058501A JP5850194A JPH07266429A JP H07266429 A JPH07266429 A JP H07266429A JP 6058501 A JP6058501 A JP 6058501A JP 5850194 A JP5850194 A JP 5850194A JP H07266429 A JPH07266429 A JP H07266429A
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- Japan
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- crystal mask
- laser
- excimer laser
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
- B29C64/10—Processes of additive manufacturing
- B29C64/106—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material
- B29C64/124—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified
- B29C64/129—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C35/00—Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
- B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
- B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
- B29C35/0805—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation
- B29C2035/0838—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation using laser
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】レーザ光１は凸レンズ３ａ、及び３ｂに入射
し、液晶マスク４の全面に照射される。マーキングさせ
るパターン状の偏光方向を有するレーザ光は、偏光ビー
ムスプリッタ５で反射して、結像レンズ６を通り、容器
７中に満たされた紫外線硬化樹脂８に照射される。すな
わち、結像レンズ６により、液晶マスク４でのパターン
が紫外線硬化樹脂８の表面に転写され、パターン状に紫
外光が照射された表面の薄い層が硬化し、この硬化層を
上下方向に積み重ねていくことで立体モデルが形成され
る。 【効果】消費電力を増大させずに、短時間で立体モデル
を製作できる光造形装置を提供することができる。
し、液晶マスク４の全面に照射される。マーキングさせ
るパターン状の偏光方向を有するレーザ光は、偏光ビー
ムスプリッタ５で反射して、結像レンズ６を通り、容器
７中に満たされた紫外線硬化樹脂８に照射される。すな
わち、結像レンズ６により、液晶マスク４でのパターン
が紫外線硬化樹脂８の表面に転写され、パターン状に紫
外光が照射された表面の薄い層が硬化し、この硬化層を
上下方向に積み重ねていくことで立体モデルが形成され
る。 【効果】消費電力を増大させずに、短時間で立体モデル
を製作できる光造形装置を提供することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は紫外線硬化樹脂を用いて
立体モデルを製作する装置に関する。
立体モデルを製作する装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】液状の紫外線硬化樹脂の表面に紫外域の
レーザ光を照射させながらスキャンして、表面の薄い層
を特定のパターン状に硬化させる。これを繰り返して硬
化層を上下方向に積み重ねることで立体モデルを製作で
きることが知られており、この装置は一般に光造形装置
と呼ばれている。紫外光源は、ＡｒレーザやＨｅ−Ｃｄ
レーザなど、紫外域で発振線を含み連続発振するイオン
レーザがおもに用いられる。なお、これに関しては、例
えば、レーザ研究，第１８巻，第７号，平成２年７月，
第４４８頁から第４５５頁において説明されている。
レーザ光を照射させながらスキャンして、表面の薄い層
を特定のパターン状に硬化させる。これを繰り返して硬
化層を上下方向に積み重ねることで立体モデルを製作で
きることが知られており、この装置は一般に光造形装置
と呼ばれている。紫外光源は、ＡｒレーザやＨｅ−Ｃｄ
レーザなど、紫外域で発振線を含み連続発振するイオン
レーザがおもに用いられる。なお、これに関しては、例
えば、レーザ研究，第１８巻，第７号，平成２年７月，
第４４８頁から第４５５頁において説明されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来の紫外光源である
イオンレーザは、一般に利用される最大級の場合でも、
レーザ出力が０.５Ｗ 程度と低いため、処理速度が低く
なることが問題であった。しかも、電気効率が０.０１
％ 程度と低いため、装置全体としての消費電力が数ｋ
Ｗ以上と高くなることも問題であった。
イオンレーザは、一般に利用される最大級の場合でも、
レーザ出力が０.５Ｗ 程度と低いため、処理速度が低く
なることが問題であった。しかも、電気効率が０.０１
％ 程度と低いため、装置全体としての消費電力が数ｋ
Ｗ以上と高くなることも問題であった。
【０００４】また、レーザ光を集光させて、幅０.１mm
でスキャンするため、紫外線硬化樹脂の表面全体をスキ
ャンさせるのに数十分以上掛かってしまい、立体モデル
が完成するまでの時間が長いことが問題であった。
でスキャンするため、紫外線硬化樹脂の表面全体をスキ
ャンさせるのに数十分以上掛かってしまい、立体モデル
が完成するまでの時間が長いことが問題であった。
【０００５】一方、イオンレーザに比べてレーザ出力と
効率が桁違いに高いことで知られているエキシマレーザ
を利用すると、以下に説明する問題が生じる。すなわ
ち、エキシマレーザは、通常、高次のマルチモードで発
振するため、ビーム拡がり角が大きく、その結果、０.
１mm 程度の微小なスポット径に集光させることは一般
に困難である。したがって、従来のスキャン方式によ
り、精密なパターン状にレーザ照射させることが困難で
ある。
効率が桁違いに高いことで知られているエキシマレーザ
を利用すると、以下に説明する問題が生じる。すなわ
ち、エキシマレーザは、通常、高次のマルチモードで発
振するため、ビーム拡がり角が大きく、その結果、０.
１mm 程度の微小なスポット径に集光させることは一般
に困難である。したがって、従来のスキャン方式によ
り、精密なパターン状にレーザ照射させることが困難で
ある。
【０００６】また、エキシマレーザは、イオンレーザと
は異なり、パルス動作し、繰り返し数はおよそ数十Ｈｚ
から数百Ｈｚである。その結果、スポット径０.１mm に
集光できたとしても、毎秒数cm以下でしかスキャンでき
ない。したがって、レーザ出力が高くても、高速でスキ
ャンできないため、結果的に処理時間を短縮できないこ
とが問題であった。
は異なり、パルス動作し、繰り返し数はおよそ数十Ｈｚ
から数百Ｈｚである。その結果、スポット径０.１mm に
集光できたとしても、毎秒数cm以下でしかスキャンでき
ない。したがって、レーザ出力が高くても、高速でスキ
ャンできないため、結果的に処理時間を短縮できないこ
とが問題であった。
【０００７】本発明の目的は、消費電力を増大させず
に、短時間で立体モデルを製作できる光造形装置を提供
することにある。
に、短時間で立体モデルを製作できる光造形装置を提供
することにある。
【０００８】一方、光造形装置に液晶マスクを用いるこ
とが、例えば、特開平4−371829 号公報において提案さ
れている。ところが、液晶マスクの利用に適した光源に
関しては考慮されていなかった。
とが、例えば、特開平4−371829 号公報において提案さ
れている。ところが、液晶マスクの利用に適した光源に
関しては考慮されていなかった。
【０００９】本発明の目的は、特に液晶マスクを用いた
光造形装置を技術的に完成させることにある。
光造形装置を技術的に完成させることにある。
【００１０】また、液晶マスクで形成したパターンは、
画素の集合として構成されるため、従来、これを光造形
装置に利用する場合、紫外線硬化樹脂の表面に転写され
るパターンも画素の集合として構成されてしまう。その
結果、画素と画素との間に対応する部分では、紫外線硬
化樹脂が硬化しないこともあった。
画素の集合として構成されるため、従来、これを光造形
装置に利用する場合、紫外線硬化樹脂の表面に転写され
るパターンも画素の集合として構成されてしまう。その
結果、画素と画素との間に対応する部分では、紫外線硬
化樹脂が硬化しないこともあった。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を解決するため
に、液晶マスクを用い、かつ光源としてＸｅＦエキシマ
レーザを用いたものである。
に、液晶マスクを用い、かつ光源としてＸｅＦエキシマ
レーザを用いたものである。
【００１２】また、紫外線硬化樹脂の表面での硬化層の
厚みを均一にさせるために、ＸｅＦエキシマレーザと液
晶マスクとの間に転写光学系を含んだものである。
厚みを均一にさせるために、ＸｅＦエキシマレーザと液
晶マスクとの間に転写光学系を含んだものである。
【００１３】また、紫外線硬化樹脂の表面で画素と画素
との間に対応する部分でも硬化するように、液晶マスク
をその画面に平行な方向に微動可能であるようにしたも
のであり、あるいは、前記液晶マスクの像を紫外線硬化
樹脂の表面より上側、あるいは下側に結像させたもので
ある。
との間に対応する部分でも硬化するように、液晶マスク
をその画面に平行な方向に微動可能であるようにしたも
のであり、あるいは、前記液晶マスクの像を紫外線硬化
樹脂の表面より上側、あるいは下側に結像させたもので
ある。
【００１４】
【作用】液晶マスクでは、任意なパターンを形成できる
ため、そのパターンを紫外線硬化樹脂の表面にパターン
転写させることで、一度に広い面積のパターンを硬化さ
せることができる。しかも、光源としてエキシマレーザ
を用いても、エキシマレーザから取り出されるレーザ光
は、液晶マスクに照射させれば良く、集光させたり、ス
キャンさせる必要がない。したがって、前述したような
エキシマレーザの問題点には影響されず、エキシマレー
ザの特徴である高出力性を発揮させることができ、従来
よりも高速に処理できる。
ため、そのパターンを紫外線硬化樹脂の表面にパターン
転写させることで、一度に広い面積のパターンを硬化さ
せることができる。しかも、光源としてエキシマレーザ
を用いても、エキシマレーザから取り出されるレーザ光
は、液晶マスクに照射させれば良く、集光させたり、ス
キャンさせる必要がない。したがって、前述したような
エキシマレーザの問題点には影響されず、エキシマレー
ザの特徴である高出力性を発揮させることができ、従来
よりも高速に処理できる。
【００１５】ところが、種々のエキシマレーザの発振波
長と液晶マスクの透過域を示した図２からわかるよう
に、エキシマレーザの中でも特に広く用いられているＸ
ｅＣｌエキシマレーザやＫｒＦエキシマレーザでは、そ
れらのレーザ光は液晶マスクでの透過率が非常に小さ
く、液晶マスクに強く吸収される。その結果、レーザ光
を吸収した液晶マスクでは、液晶の分子構造が壊れるた
め、液晶マスクは劣化してしまう。
長と液晶マスクの透過域を示した図２からわかるよう
に、エキシマレーザの中でも特に広く用いられているＸ
ｅＣｌエキシマレーザやＫｒＦエキシマレーザでは、そ
れらのレーザ光は液晶マスクでの透過率が非常に小さ
く、液晶マスクに強く吸収される。その結果、レーザ光
を吸収した液晶マスクでは、液晶の分子構造が壊れるた
め、液晶マスクは劣化してしまう。
【００１６】これに対して、ＸｅＦエキシマレーザの発
振波長は約０.３５μ であり、この波長では液晶マスク
に対して高い透過率をもつ。したがって、本発明では、
種々のエキシマレーザの中でも特にＸｅＦエキシマレー
ザを光源に用いることで、液晶マスクを短期間で劣化さ
せることはない。
振波長は約０.３５μ であり、この波長では液晶マスク
に対して高い透過率をもつ。したがって、本発明では、
種々のエキシマレーザの中でも特にＸｅＦエキシマレー
ザを光源に用いることで、液晶マスクを短期間で劣化さ
せることはない。
【００１７】なお、液晶マスクの劣化に関しては、以下
のように考えることができる。すなわち、液晶は有機高
分子であり、これを構成するおもな原子は炭素，水素，
酸素、あるいは窒素などである。一方、これらの原子ど
うしの結合エネルギと同じエネルギを有する光子の波長
は、おもに約０.１５μから約０.３５μの間に分布す
る。すなわち、光子の波長が、この波長領域で短波長側
である程、原子間の結合を解離できる場合が多くなる。
したがって、種々のエキシマレーザの中では、ＸｅＦエ
キシマレーザが最も液晶マスクを劣化させないことにな
る。
のように考えることができる。すなわち、液晶は有機高
分子であり、これを構成するおもな原子は炭素，水素，
酸素、あるいは窒素などである。一方、これらの原子ど
うしの結合エネルギと同じエネルギを有する光子の波長
は、おもに約０.１５μから約０.３５μの間に分布す
る。すなわち、光子の波長が、この波長領域で短波長側
である程、原子間の結合を解離できる場合が多くなる。
したがって、種々のエキシマレーザの中では、ＸｅＦエ
キシマレーザが最も液晶マスクを劣化させないことにな
る。
【００１８】また、エキシマレーザでは一般にビーム拡
がり角が大きいため、レーザ光を伝搬中に、その強度分
布が均一から山なりになってしまう。そこで、転写光学
系によりＸｅＦエキシマレーザから取り出される直後の
レーザ光を液晶マスク上に転写させることで、均一な強
度分布のレーザ光を液晶マスクに照射させることができ
る。その結果、液晶マスクでの像が転写される紫外線硬
化樹脂の表面には、均一な強度分布を有するレーザ光が
照射され、硬化層の厚みは均一になる。
がり角が大きいため、レーザ光を伝搬中に、その強度分
布が均一から山なりになってしまう。そこで、転写光学
系によりＸｅＦエキシマレーザから取り出される直後の
レーザ光を液晶マスク上に転写させることで、均一な強
度分布のレーザ光を液晶マスクに照射させることができ
る。その結果、液晶マスクでの像が転写される紫外線硬
化樹脂の表面には、均一な強度分布を有するレーザ光が
照射され、硬化層の厚みは均一になる。
【００１９】また、液晶マスクをその画面と平行な平面
内で微動させると、紫外線硬化樹脂に照射されるレーザ
光のパターンの位置を僅かにずらして複数回レーザ照射
できる。その結果、これら複数回のレーザ照射部の重複
により、液晶マスクで画素と画素との間に対応する部分
にもレーザ照射されることになる。
内で微動させると、紫外線硬化樹脂に照射されるレーザ
光のパターンの位置を僅かにずらして複数回レーザ照射
できる。その結果、これら複数回のレーザ照射部の重複
により、液晶マスクで画素と画素との間に対応する部分
にもレーザ照射されることになる。
【００２０】また、液晶マスクの像を紫外線硬化樹脂の
表面より上側、あるいは下側に結像させると、転写され
るパターンがぼけることになる。その結果、隣接する画
素と画素が転写されるところでは、それらの画素の境界
部が互いに重なり合うため、この部分にもレーザ照射さ
れることになる。
表面より上側、あるいは下側に結像させると、転写され
るパターンがぼけることになる。その結果、隣接する画
素と画素が転写されるところでは、それらの画素の境界
部が互いに重なり合うため、この部分にもレーザ照射さ
れることになる。
【００２１】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を用いて説明す
る。
る。
【００２２】図１は、本発明の一実施例である光造形装
置の説明図である。
置の説明図である。
【００２３】図１に示された光造形装置１００では、そ
の光源として、波長約０.３５μ のレーザ光１を発生で
きるＸｅＦエキシマレーザ２が用いられている。ＸｅＦ
エキシマレーザ２の平均出力は約１０Ｗである。また、
レーザ光１は直線偏光になっている。
の光源として、波長約０.３５μ のレーザ光１を発生で
きるＸｅＦエキシマレーザ２が用いられている。ＸｅＦ
エキシマレーザ２の平均出力は約１０Ｗである。また、
レーザ光１は直線偏光になっている。
【００２４】レーザ光１は転写光学系を構成する凸レン
ズ３ａに入射し、液晶マスク４の直前で凸レンズ３ｂを
通過することでビーム径が拡大された平行ビームに戻
り、液晶マスク４の全面が一度に照射される。すなわ
ち、凸レンズ３ａにより、ＸｅＦエキシマレーザ２から
取り出された直後の均一な強度分布を有するレーザ光１
が液晶マスク４に転写される。また、レーザ光１の断面
形状は矩形であるため、転写光学系により長方形状の液
晶マスク４に対してレーザ光が過不足無く照射される。
ズ３ａに入射し、液晶マスク４の直前で凸レンズ３ｂを
通過することでビーム径が拡大された平行ビームに戻
り、液晶マスク４の全面が一度に照射される。すなわ
ち、凸レンズ３ａにより、ＸｅＦエキシマレーザ２から
取り出された直後の均一な強度分布を有するレーザ光１
が液晶マスク４に転写される。また、レーザ光１の断面
形状は矩形であるため、転写光学系により長方形状の液
晶マスク４に対してレーザ光が過不足無く照射される。
【００２５】マーキングさせるパターン状の偏光方向を
有するレーザ光は、液晶マスク４を通過後、偏光ビーム
スプリッタ５で反射して、結像レンズ６を通り、容器７
中に満たされた紫外線硬化樹脂８に照射される。すなわ
ち、結像レンズ６により、液晶マスク４でのパターンが
紫外線硬化樹脂８の表面に転写されるようになってい
る。また、前述のように、液晶マスクには均一な強度分
布のレーザ光が照射されているため、紫外線硬化樹脂８
では均一な強度分布の紫外光が照射され、均一な厚みで
層が硬化し、この硬化層を上下方向に積み重ねていくこ
とで立体モデルが形成される。
有するレーザ光は、液晶マスク４を通過後、偏光ビーム
スプリッタ５で反射して、結像レンズ６を通り、容器７
中に満たされた紫外線硬化樹脂８に照射される。すなわ
ち、結像レンズ６により、液晶マスク４でのパターンが
紫外線硬化樹脂８の表面に転写されるようになってい
る。また、前述のように、液晶マスクには均一な強度分
布のレーザ光が照射されているため、紫外線硬化樹脂８
では均一な強度分布の紫外光が照射され、均一な厚みで
層が硬化し、この硬化層を上下方向に積み重ねていくこ
とで立体モデルが形成される。
【００２６】なお、本実施例では、液晶マスク４にＸＺ
ステージ９が備えられており、レーザ照射ごとに、液晶
マスク４をその画素と画素との間隔だけ左右、及び上下
に微動させている。これにより、紫外線硬化樹脂８で
は、液晶マスク４における画素と画素との間に対応する
部分にも紫外光が照射され、その部分も硬化させること
ができる。
ステージ９が備えられており、レーザ照射ごとに、液晶
マスク４をその画素と画素との間隔だけ左右、及び上下
に微動させている。これにより、紫外線硬化樹脂８で
は、液晶マスク４における画素と画素との間に対応する
部分にも紫外光が照射され、その部分も硬化させること
ができる。
【００２７】本実施例では、紫外の光源としてＸｅＦエ
キシマレーザを用いているため、液晶マスクを短期間で
劣化させることがなく、長期間利用することが可能であ
る。また、本実施例のようにＸｅＦエキシマレーザ２か
らのレーザ光を拡げて一度に液晶マスク４の全面を照射
しているため、紫外線硬化樹脂８に対しても、その表面
の全面に一度にパターン状の紫外光が照射されるため、
パターン状の硬化層を形成する時間が大幅に短縮され
た。
キシマレーザを用いているため、液晶マスクを短期間で
劣化させることがなく、長期間利用することが可能であ
る。また、本実施例のようにＸｅＦエキシマレーザ２か
らのレーザ光を拡げて一度に液晶マスク４の全面を照射
しているため、紫外線硬化樹脂８に対しても、その表面
の全面に一度にパターン状の紫外光が照射されるため、
パターン状の硬化層を形成する時間が大幅に短縮され
た。
【００２８】また、ＸｅＦエキシマレーザの電気効率は
約１％であるため、消費電力は約１ｋＷになる。これに
対して、従来のイオンレーザを用いた装置では、レーザ
出力が約０.５Ｗ でも消費電力が約数ｋＷ以上にもなる
ため、本実施例では、立体モデルの製作時間を短縮した
だけでなく、消費電力が少なくなった。
約１％であるため、消費電力は約１ｋＷになる。これに
対して、従来のイオンレーザを用いた装置では、レーザ
出力が約０.５Ｗ でも消費電力が約数ｋＷ以上にもなる
ため、本実施例では、立体モデルの製作時間を短縮した
だけでなく、消費電力が少なくなった。
【００２９】
【発明の効果】本発明によると、従来に比べて、消費電
力を増大させずに、短時間で立体モデルを製作できる光
造形装置を提供することができる。
力を増大させずに、短時間で立体モデルを製作できる光
造形装置を提供することができる。
【図１】本発明の光造形装置の説明図。
【図２】種々のエキシマレーザの発振波長と液晶マスク
の透過域を示す特性図。
の透過域を示す特性図。
１…レーザ光、２…ＸｅＦエキシマレーザ光、３ａ，３
ｂ…凸レンズ、４…液晶マスク、５…偏光ビームスプリ
ッタ、６…結像レンズ、７…容器、８…紫外線硬化樹
脂、９…ＸＺステージ、１００…光造形装置。
ｂ…凸レンズ、４…液晶マスク、５…偏光ビームスプリ
ッタ、６…結像レンズ、７…容器、８…紫外線硬化樹
脂、９…ＸＺステージ、１００…光造形装置。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｂ２９Ｋ 105:24
Claims (4)
- 【請求項１】液晶マスクを用い、光源としてＸｅＦエキ
シマレーザを用いたことを特徴とする光造形装置。 - 【請求項２】請求項１において、前記ＸｅＦエキシマレ
ーザと前記液晶マスクとの間に転写光学系を含む光造形
装置。 - 【請求項３】請求項１において、前記液晶マスクがその
画面とほぼ平行な平面内で微動できる光造形装置。 - 【請求項４】請求項１において、前記液晶マスクの像を
紫外線効果樹脂の表面より上側、あるいは下側に結像さ
せる光造形装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6058501A JPH07266429A (ja) | 1994-03-29 | 1994-03-29 | 光造形装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6058501A JPH07266429A (ja) | 1994-03-29 | 1994-03-29 | 光造形装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07266429A true JPH07266429A (ja) | 1995-10-17 |
Family
ID=13086177
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6058501A Pending JPH07266429A (ja) | 1994-03-29 | 1994-03-29 | 光造形装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07266429A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0846548A1 (en) * | 1996-12-06 | 1998-06-10 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Method for producing a laminated object and apparatus for producing the same |
| EP0856393A3 (en) * | 1997-01-29 | 1998-09-23 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Method for producing a laminated object and apparatus for producing the same |
| JP2005349806A (ja) * | 2004-06-14 | 2005-12-22 | Nabtesco Corp | 光造形方法および装置 |
| JP2009166124A (ja) * | 2008-01-17 | 2009-07-30 | Leister Process Technologies | レーザ加工装置 |
| CN110722795A (zh) * | 2019-11-21 | 2020-01-24 | 吉林大学 | 一种一次成型的多面lcd光源3d打印装置 |
-
1994
- 1994-03-29 JP JP6058501A patent/JPH07266429A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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