JPH06138649A - フォトマスクの洗浄方法及び洗浄装置 - Google Patents
フォトマスクの洗浄方法及び洗浄装置Info
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- JPH06138649A JPH06138649A JP4312690A JP31269092A JPH06138649A JP H06138649 A JPH06138649 A JP H06138649A JP 4312690 A JP4312690 A JP 4312690A JP 31269092 A JP31269092 A JP 31269092A JP H06138649 A JPH06138649 A JP H06138649A
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- photomask
- cleaning liquid
- cleaning
- roll
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 フォトマスクの洗浄時配線パターン表面に与
えるダメージを軽減するとともに, 効果的にフォトマス
ク表面の異物を除去するフォトマスクの洗浄方法および
洗浄装置を提供する。 【構成】 フォトマスク１全体を洗浄液中に沈め，フォ
トマスク１にロールカバー８を持つロール２を接近さ
せ，その間隙に可変速のロール２の回転による洗浄液の
流れ５および前記間隙の前方の洗浄液射出口３より洗浄
液を射出させ，間隙後方の洗浄液吸込口４より洗浄液を
吸込ませて生ずる洗浄液の流れ５とにより，フォトマス
ク表面を洗浄するフォトマスクの洗浄方法および洗浄装
置。
えるダメージを軽減するとともに, 効果的にフォトマス
ク表面の異物を除去するフォトマスクの洗浄方法および
洗浄装置を提供する。 【構成】 フォトマスク１全体を洗浄液中に沈め，フォ
トマスク１にロールカバー８を持つロール２を接近さ
せ，その間隙に可変速のロール２の回転による洗浄液の
流れ５および前記間隙の前方の洗浄液射出口３より洗浄
液を射出させ，間隙後方の洗浄液吸込口４より洗浄液を
吸込ませて生ずる洗浄液の流れ５とにより，フォトマス
ク表面を洗浄するフォトマスクの洗浄方法および洗浄装
置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は，半導体素子の製造に用
いるフォトマスク，特に照明の位相差を用いる位相シフ
トフォトマスクの製造に関する。
いるフォトマスク，特に照明の位相差を用いる位相シフ
トフォトマスクの製造に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来，ＶＬＳＩ等の固体素子における微
細パターンの形成は，主に，微小露光投影法により行わ
れてきた。上記の方法は投影光学系を用い，レジストを
塗布した基板上に，拡大した配線パターンを描画したフ
オトフォトマスクを透過した光を縮小結像させることに
より，配線パターンを転写するものである。
細パターンの形成は，主に，微小露光投影法により行わ
れてきた。上記の方法は投影光学系を用い，レジストを
塗布した基板上に，拡大した配線パターンを描画したフ
オトフォトマスクを透過した光を縮小結像させることに
より，配線パターンを転写するものである。
【０００３】しかし，近年，パターンの高密度化が進む
につれ，配線パターンの間隔が小さくなり，光源の波長
と近接し，投影像の分解能，コントラストの低下のた
め，特開昭58-173744 号公報等に示されるように, 位相
シフトフォトマスクが提案されてきた。
につれ，配線パターンの間隔が小さくなり，光源の波長
と近接し，投影像の分解能，コントラストの低下のた
め，特開昭58-173744 号公報等に示されるように, 位相
シフトフォトマスクが提案されてきた。
【０００４】従来，異物除去には，様々な洗浄法が利用
されており，回転するブラシを基板表面にあてて異物を
こすり取るスクラブ法，高圧の水を基板表面に向けて射
出するハイプレッシャ−法等がある。しかし，位相シフ
トフォトマスクは，位相差を導入するためのシフタ−材
をフオトフォトマスク上に形成するために，通常のフオ
トフォトマスクに比較して，パターンの段差が大きく，
凹部に入り込んだ異物は除去が困難である。さらに，位
相シフトフォトマスクは，通常のフオトフォトマスクに
比較して，配線パターンが，より微細になっている所が
あるために，洗浄時にスクラブやハイプレッシャ−等の
強い力が加わると，シフター及び配線パターンの欠けや
脱落などのあらたな欠陥の原因となっていた。
されており，回転するブラシを基板表面にあてて異物を
こすり取るスクラブ法，高圧の水を基板表面に向けて射
出するハイプレッシャ−法等がある。しかし，位相シフ
トフォトマスクは，位相差を導入するためのシフタ−材
をフオトフォトマスク上に形成するために，通常のフオ
トフォトマスクに比較して，パターンの段差が大きく，
凹部に入り込んだ異物は除去が困難である。さらに，位
相シフトフォトマスクは，通常のフオトフォトマスクに
比較して，配線パターンが，より微細になっている所が
あるために，洗浄時にスクラブやハイプレッシャ−等の
強い力が加わると，シフター及び配線パターンの欠けや
脱落などのあらたな欠陥の原因となっていた。
【０００５】また，従来，超音波洗浄法として，ディッ
プ槽下に超音波発生装置を設置し，約100kHzの周波数を
用いて槽内に気泡を発生させ, 気泡がはじけるときの力
を利用して異物を除去する方法もあるが, パターン間隙
に対して, 気泡が大きく, 凹部の異物に対して効果が著
しく弱かった。
プ槽下に超音波発生装置を設置し，約100kHzの周波数を
用いて槽内に気泡を発生させ, 気泡がはじけるときの力
を利用して異物を除去する方法もあるが, パターン間隙
に対して, 気泡が大きく, 凹部の異物に対して効果が著
しく弱かった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は，上記のよう
な欠陥の発生を排除し，シフター及び配線パターン表面
に与えるダメージを軽減するとともに, 効果的に異物を
除去するフォトマスクの洗浄方法および洗浄装置を提供
するものである。
な欠陥の発生を排除し，シフター及び配線パターン表面
に与えるダメージを軽減するとともに, 効果的に異物を
除去するフォトマスクの洗浄方法および洗浄装置を提供
するものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は，フォトマスク
１とロールカバー８を持つロール２とを接近させ，その
間隙に洗浄液を通過させることを特徴とし，洗浄液がロ
ール２の回転により生ずる上記間隙通過の液流であるフ
ォトマスクの洗浄方法である。さらに，洗浄液の流れを
ロール２の回転速度及び／又は間隙寸法により可変させ
て行うフォトマスクの洗浄方法である。
１とロールカバー８を持つロール２とを接近させ，その
間隙に洗浄液を通過させることを特徴とし，洗浄液がロ
ール２の回転により生ずる上記間隙通過の液流であるフ
ォトマスクの洗浄方法である。さらに，洗浄液の流れを
ロール２の回転速度及び／又は間隙寸法により可変させ
て行うフォトマスクの洗浄方法である。
【０００８】本発明は，さらに間隙の前方の洗浄液射出
口３より洗浄液を射出させ，間隙の後方の洗浄液吸込口
４より洗浄液を吸込ませることを合わせて行うことによ
るフォトマスクの洗浄方法である。
口３より洗浄液を射出させ，間隙の後方の洗浄液吸込口
４より洗浄液を吸込ませることを合わせて行うことによ
るフォトマスクの洗浄方法である。
【０００９】本発明は，上記の洗浄方法においてフォト
マスク１全体を洗浄液中に沈めて行うことによるフォト
マスクの洗浄方法である。
マスク１全体を洗浄液中に沈めて行うことによるフォト
マスクの洗浄方法である。
【００１０】次に，本発明は，上記の方法を実施するた
め，フォトマスク１と間隙を介して接近可能に，ロール
カバー８を有する可変速のロール２を設け，フォトマス
ク１の表面と上記可変速のロール２とを相対的に移動さ
せる手段とを設けたフォトマスクの洗浄装置であり，さ
らに，前記間隙の前後にそれぞれ洗浄液射出口３および
洗浄液吸込口４を設けたフォトマスクの洗浄装置であ
る。
め，フォトマスク１と間隙を介して接近可能に，ロール
カバー８を有する可変速のロール２を設け，フォトマス
ク１の表面と上記可変速のロール２とを相対的に移動さ
せる手段とを設けたフォトマスクの洗浄装置であり，さ
らに，前記間隙の前後にそれぞれ洗浄液射出口３および
洗浄液吸込口４を設けたフォトマスクの洗浄装置であ
る。
【００１１】
【作用】洗浄液中のフォトマスク表面にロールを近づけ
ることで洗浄液射出口からの洗浄液は，ロールの回転で
加速され，その流れでフォトマスク表面を洗浄する。洗
浄後の洗浄液は，洗浄液吸込口から吸引されて異物の再
付着は発生しない。また，ロール自体などフォトマスク
表面に接触しているものがないために，パターンの脱落
やシフタ−材の剥離を生じない。さらに，ロールの回転
数やロールとフォトマスクの間隙寸法を変えることで，
洗浄液のフォトマスク表面での速度と圧を自由に変化さ
せることでき，そのため洗浄するフォトマスクによって
ハ−ドからソフトな洗浄まで自由に選択可能である。
ることで洗浄液射出口からの洗浄液は，ロールの回転で
加速され，その流れでフォトマスク表面を洗浄する。洗
浄後の洗浄液は，洗浄液吸込口から吸引されて異物の再
付着は発生しない。また，ロール自体などフォトマスク
表面に接触しているものがないために，パターンの脱落
やシフタ−材の剥離を生じない。さらに，ロールの回転
数やロールとフォトマスクの間隙寸法を変えることで，
洗浄液のフォトマスク表面での速度と圧を自由に変化さ
せることでき，そのため洗浄するフォトマスクによって
ハ−ドからソフトな洗浄まで自由に選択可能である。
【００１２】
【実施例】以下，実施例について図面を参照して説明す
る。図１は，本発明によるフォトマスク１の洗浄方法の
概念を説明する断面図である。図１のようにフォトマス
ク１にロール２を近づける。その回転するロール２の前
後に，それぞれ洗浄液射出口３と洗浄液吸込口４とを設
け，洗浄液面７より下にフォトマスク１が沈められてい
る。洗浄液射出口３から出た洗浄液は，フォトマスク１
とロール２との間隙で洗浄液の流れ５となってロール２
の回転方向６に加速され，かつ，進路が狭くなるために
高速となり，その洗浄液の流れ５でフォトマスク１を洗
浄する。
る。図１は，本発明によるフォトマスク１の洗浄方法の
概念を説明する断面図である。図１のようにフォトマス
ク１にロール２を近づける。その回転するロール２の前
後に，それぞれ洗浄液射出口３と洗浄液吸込口４とを設
け，洗浄液面７より下にフォトマスク１が沈められてい
る。洗浄液射出口３から出た洗浄液は，フォトマスク１
とロール２との間隙で洗浄液の流れ５となってロール２
の回転方向６に加速され，かつ，進路が狭くなるために
高速となり，その洗浄液の流れ５でフォトマスク１を洗
浄する。
【００１３】洗浄後の，洗浄液は洗浄液吸込口４から吸
込まれる。洗浄でとれた異物は，すべて，洗浄液吸込口
４から吸込まれるので洗浄でとれた異物が再付着する心
配がない。また，ロール２の回転とともに移動し，吸込
まれなかった異物もロールカバー８で拡散することがな
く，最終的にはすべて洗浄液吸込口４から吸込まれる。
フォトマスク１の全面を洗浄するためには，フォトマス
ク１を移動させてもよいし，ロール２を移動させてもよ
い。
込まれる。洗浄でとれた異物は，すべて，洗浄液吸込口
４から吸込まれるので洗浄でとれた異物が再付着する心
配がない。また，ロール２の回転とともに移動し，吸込
まれなかった異物もロールカバー８で拡散することがな
く，最終的にはすべて洗浄液吸込口４から吸込まれる。
フォトマスク１の全面を洗浄するためには，フォトマス
ク１を移動させてもよいし，ロール２を移動させてもよ
い。
【００１４】つぎに，本発明の装置の一実施例を図面を
用いて説明する。図２は，本発明の装置の実施例の主要
部の配置を説明する概念図であり，上部にはケース100
が，ロールカバー８を有するロール２をモーターＭによ
り回転可能に設けたブロックを，ケース100 の内壁底部
で褶動可能とし，図示しない左右動を行わせる駆動装置
と連結させ，ケース100 全体を上下動可能に配置され
る。洗浄液射出口３および洗浄液吸込口４は，それぞ
れ，図示しないフレキシブルホースで連結される。ロー
ル２の水平位置は，ケース100 の外囲壁が，後述するフ
ォトマスク抑え101 に当接する際，フォトマスク１の表
面に接触しない範囲で最小の有効な隙間を保つようセッ
トする。図４には，洗浄液射出口３および洗浄液吸込口
４をそれぞれ片方に２ヶ所配置したロールカバー８を有
するロール２の平面図を示す。（図５のフォトマスク１
に対して，拡大して示されている）
用いて説明する。図２は，本発明の装置の実施例の主要
部の配置を説明する概念図であり，上部にはケース100
が，ロールカバー８を有するロール２をモーターＭによ
り回転可能に設けたブロックを，ケース100 の内壁底部
で褶動可能とし，図示しない左右動を行わせる駆動装置
と連結させ，ケース100 全体を上下動可能に配置され
る。洗浄液射出口３および洗浄液吸込口４は，それぞ
れ，図示しないフレキシブルホースで連結される。ロー
ル２の水平位置は，ケース100 の外囲壁が，後述するフ
ォトマスク抑え101 に当接する際，フォトマスク１の表
面に接触しない範囲で最小の有効な隙間を保つようセッ
トする。図４には，洗浄液射出口３および洗浄液吸込口
４をそれぞれ片方に２ヶ所配置したロールカバー８を有
するロール２の平面図を示す。（図５のフォトマスク１
に対して，拡大して示されている）
【００１５】さらに，図２に示すように，上記ケース10
0 の下部の軸線上に，洗浄液を満たすためのカップ104
を設け，カップ104 には，カップ用洗浄液導入管102 お
よびそれよりも低い位置でカップ104 の底に近く設けた
カップ用洗浄液排出管103 をを設ける。カップ104 のセ
ンターには，上下および回転可能に設けたフォトマスク
ホールダー105 を設け，フォトマスクホールダー105 の
上部の平面部には，図５の平面図にみられるようにフォ
トマスク１のコーナーを抑え，図示しないが，その下面
四隅の突出ピンでフォトマスクホールダー105 の上部平
面部の嵌合穴と嵌合係止させるためのフォトマスク抑え
101 を配置する。
0 の下部の軸線上に，洗浄液を満たすためのカップ104
を設け，カップ104 には，カップ用洗浄液導入管102 お
よびそれよりも低い位置でカップ104 の底に近く設けた
カップ用洗浄液排出管103 をを設ける。カップ104 のセ
ンターには，上下および回転可能に設けたフォトマスク
ホールダー105 を設け，フォトマスクホールダー105 の
上部の平面部には，図５の平面図にみられるようにフォ
トマスク１のコーナーを抑え，図示しないが，その下面
四隅の突出ピンでフォトマスクホールダー105 の上部平
面部の嵌合穴と嵌合係止させるためのフォトマスク抑え
101 を配置する。
【００１６】図３は，洗浄前の配置を説明する概念図で
あり，フォトマスクホールダー105をカップ104 内に下
降させる。カップ104 内の洗浄液は，洗浄液射出口３及
び洗浄液吸込口４が充分に浸るまで液溜を行う。次に，
ロール２とフォトマスク１との所望の間隙を保つよう
に，ケース100 を下降接近させる。
あり，フォトマスクホールダー105をカップ104 内に下
降させる。カップ104 内の洗浄液は，洗浄液射出口３及
び洗浄液吸込口４が充分に浸るまで液溜を行う。次に，
ロール２とフォトマスク１との所望の間隙を保つよう
に，ケース100 を下降接近させる。
【００１７】ついで，ケース100 内のロールカバー８を
有するロール２をモーターＭにより回転可能に設けたブ
ロックを，図示しない左右動を行わせる駆動装置により
ケース100 の内壁底部で褶動させ，洗浄液射出口３より
洗浄液を射出させるとともに洗浄液吸込口４より洗浄液
を吸い込ませ，ロール２の回転速度を設定して，フォト
マスク１のフォトマスク面を一端から他端まで洗浄す
る。さらに，洗浄を十分に行うため，一旦，上記のブロ
ックを右端に戻し，フォトマスクホールダー105 を９０
°回転させ，上記と同様の方法で二回目の洗浄を行う。
有するロール２をモーターＭにより回転可能に設けたブ
ロックを，図示しない左右動を行わせる駆動装置により
ケース100 の内壁底部で褶動させ，洗浄液射出口３より
洗浄液を射出させるとともに洗浄液吸込口４より洗浄液
を吸い込ませ，ロール２の回転速度を設定して，フォト
マスク１のフォトマスク面を一端から他端まで洗浄す
る。さらに，洗浄を十分に行うため，一旦，上記のブロ
ックを右端に戻し，フォトマスクホールダー105 を９０
°回転させ，上記と同様の方法で二回目の洗浄を行う。
【００１８】洗浄完了後，ケース100 を上昇させ，フォ
トマスクホールダー105 を回転させてスピン乾燥を行
う。
トマスクホールダー105 を回転させてスピン乾燥を行
う。
【００１９】
【発明の効果】本発明によれば，ロール自体などフォト
マスク表面に接触しているものがなく，さらに，ロール
の回転数やロ−ルとフォトマスクの間隙寸法を変えるこ
とおよび洗浄液射出口からの洗浄液射出量を変えること
で，洗浄液のフォトマスク表面での速度と圧を自由に変
化させることでき，パターンの脱落やシフタ−材の剥離
等パターンに大きなダメ−ジを与えることなく，洗浄す
るフォトマスクによってハ−ドからソフトな洗浄まで自
由に選択可能である。また，異物の再付着を発生させず
にフォトマスク表面の異物を効果的に除去することが可
能になる。
マスク表面に接触しているものがなく，さらに，ロール
の回転数やロ−ルとフォトマスクの間隙寸法を変えるこ
とおよび洗浄液射出口からの洗浄液射出量を変えること
で，洗浄液のフォトマスク表面での速度と圧を自由に変
化させることでき，パターンの脱落やシフタ−材の剥離
等パターンに大きなダメ−ジを与えることなく，洗浄す
るフォトマスクによってハ−ドからソフトな洗浄まで自
由に選択可能である。また，異物の再付着を発生させず
にフォトマスク表面の異物を効果的に除去することが可
能になる。
【００２０】
【図１】フォトマスクの洗浄方法の概念を説明する断面
図である。
図である。
【図２】フォトマスクの洗浄装置の実施例を示す主要部
の配置を説明する概念図である。
の配置を説明する概念図である。
【図３】フォトマスクの洗浄装置の実施例を示す洗浄前
の配置を説明する概念図である。
の配置を説明する概念図である。
【図４】ロールカバーを有するロールの平面図である。
【図５】フォトマスクとフォトマスク抑えを示す平面図
である。
である。
１ フォトマスク ２ ロール ３ 洗浄液射出口 ４ 洗浄液吸込口 ５ 洗浄液の流れ ６ ロールの回転方向 ７ 洗浄液面 ８ ロールカバー 100 ケース 101 フォトマスク抑え 102 カップ用洗浄液導入管 103 カップ用洗浄液排出管 104 カップ 105 フォトマスクホールダー
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成４年１１月１０日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は，半導体素子の製造に用
いるフォトマスク，特に照明の位相差を用いる位相シフ
トマスクの製造に関する。
いるフォトマスク，特に照明の位相差を用いる位相シフ
トマスクの製造に関する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００２】
【従来の技術】従来，ＶＬＳＩ等の固体素子における微
細パターンの形成は，主に，微小露光投影法により行わ
れてきた。上記の方法は投影光学系を用い，レジストを
塗布した基板上に，拡大した配線パターンを描画したフ
ォトマスクを透過した光を縮小結像させることにより，
配線パターンを転写するものである。
細パターンの形成は，主に，微小露光投影法により行わ
れてきた。上記の方法は投影光学系を用い，レジストを
塗布した基板上に，拡大した配線パターンを描画したフ
ォトマスクを透過した光を縮小結像させることにより，
配線パターンを転写するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００３】しかし，近年，パターンの高密度化が進む
につれ，配線パターンの間隔が小さくなり，光源の波長
と近接し，投影像の分解能，コントラストの低下のた
め，特開昭58-173744 号公報等に示されるように, 位相
シフトマスクが提案されてきた。
につれ，配線パターンの間隔が小さくなり，光源の波長
と近接し，投影像の分解能，コントラストの低下のた
め，特開昭58-173744 号公報等に示されるように, 位相
シフトマスクが提案されてきた。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００４】従来，異物除去には，様々な洗浄法が利用
されており，回転するブラシを基板表面にあてて異物を
こすり取るスクラブ法，高圧の水を基板表面に向けて射
出するハイプレッシャ−法等がある。しかし，位相シフ
トマスクは，位相差を導入するためのシフタ−材をフォ
トマスク上に形成するために，通常のフォトマスクに比
較して，パターンの段差が大きく，凹部に入り込んだ異
物は除去が困難である。さらに，位相シフトマスクは，
通常のフォトマスクに比較して，配線パターンが，より
微細になっている所があるために，洗浄時にスクラブや
ハイプレッシャ−等の強い力が加わると，シフター及び
配線パターンの欠けや脱落などのあらたな欠陥の原因と
なっていた。
されており，回転するブラシを基板表面にあてて異物を
こすり取るスクラブ法，高圧の水を基板表面に向けて射
出するハイプレッシャ−法等がある。しかし，位相シフ
トマスクは，位相差を導入するためのシフタ−材をフォ
トマスク上に形成するために，通常のフォトマスクに比
較して，パターンの段差が大きく，凹部に入り込んだ異
物は除去が困難である。さらに，位相シフトマスクは，
通常のフォトマスクに比較して，配線パターンが，より
微細になっている所があるために，洗浄時にスクラブや
ハイプレッシャ−等の強い力が加わると，シフター及び
配線パターンの欠けや脱落などのあらたな欠陥の原因と
なっていた。
Claims (7)
- 【請求項１】 フォトマスク(1) とロールカバー(8) を
持つロール(2) とを接近させ，その間隙に洗浄液を通過
させることを特徴とするフォトマスクの洗浄方法。 - 【請求項２】 洗浄液がロール(2) の回転によるもので
ある請求項１記載のフォトマスクの洗浄方法。 - 【請求項３】 洗浄液の流れ(5) をロール(2) の回転速
度及び／又は間隙寸法により可変させる請求項２記載の
フォトマスクの洗浄方法。 - 【請求項４】 間隙の前方の洗浄液射出口(3) より洗浄
液を射出させ，間隙の後方の洗浄液吸込口(4) より洗浄
液を吸込ませることを合わせて行うことを特徴とする請
求項１〜３いずれか１項記載のフォトマスクの洗浄方
法。 - 【請求項５】 フォトマスク(1) 全体を洗浄液中に沈め
て行う請求項１〜４いずれか１項記載のフォトマスクの
洗浄方法。 - 【請求項６】 フォトマスク(1) と間隙を介して接近可
能に，ロールカバー(8) を有する可変速のロール(2) を
設け，フォトマスク(1) の表面と上記可変速のロール
(2) とを相対的に移動させる手段とを設けたことを特徴
とするフォトマスクの洗浄装置。 - 【請求項７】 前記間隙の前後にそれぞれ洗浄液射出口
(3) および洗浄液吸込口(4) を設けたことを特徴とする
請求項６記載のフォトマスクの洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4312690A JPH06138649A (ja) | 1992-10-29 | 1992-10-29 | フォトマスクの洗浄方法及び洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4312690A JPH06138649A (ja) | 1992-10-29 | 1992-10-29 | フォトマスクの洗浄方法及び洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06138649A true JPH06138649A (ja) | 1994-05-20 |
Family
ID=18032256
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4312690A Withdrawn JPH06138649A (ja) | 1992-10-29 | 1992-10-29 | フォトマスクの洗浄方法及び洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06138649A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007517412A (ja) * | 2003-12-23 | 2007-06-28 | ラム リサーチ コーポレーション | 基板を洗浄するための装置および方法 |
| JP2014109670A (ja) * | 2012-11-30 | 2014-06-12 | Hoya Corp | リソグラフィー用部材の製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、マスクブランクの製造方法、反射型マスクの製造方法、マスクの製造方法、及び洗浄装置 |
-
1992
- 1992-10-29 JP JP4312690A patent/JPH06138649A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007517412A (ja) * | 2003-12-23 | 2007-06-28 | ラム リサーチ コーポレーション | 基板を洗浄するための装置および方法 |
| JP2014109670A (ja) * | 2012-11-30 | 2014-06-12 | Hoya Corp | リソグラフィー用部材の製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、マスクブランクの製造方法、反射型マスクの製造方法、マスクの製造方法、及び洗浄装置 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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