JPH06138403A - 画像装置 - Google Patents
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- JPH06138403A JPH06138403A JP15582893A JP15582893A JPH06138403A JP H06138403 A JPH06138403 A JP H06138403A JP 15582893 A JP15582893 A JP 15582893A JP 15582893 A JP15582893 A JP 15582893A JP H06138403 A JPH06138403 A JP H06138403A
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- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/0816—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements
- G02B26/0833—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD
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- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/04—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa
- H04N1/19—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa using multi-element arrays
- H04N1/191—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa using multi-element arrays the array comprising a one-dimensional array, or a combination of one-dimensional arrays, or a substantially one-dimensional array, e.g. an array of staggered elements
- H04N1/192—Simultaneously or substantially simultaneously scanning picture elements on one main scanning line
- H04N1/193—Simultaneously or substantially simultaneously scanning picture elements on one main scanning line using electrically scanned linear arrays, e.g. linear CCD arrays
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- H04N1/04—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa
- H04N1/12—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa using the sheet-feed movement or the medium-advance or the drum-rotation movement as the slow scanning component, e.g. arrangements for the main-scanning
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- Signal Processing (AREA)
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- Optics & Photonics (AREA)
- Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
- Printers Or Recording Devices Using Electromagnetic And Radiation Means (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 印刷データに従って、高コントラストの結像
光を形成する。 【構成】クリティカル照明変調器１０６は、複数の反射
素子つまり能動画素ミラーを含むＤＭＤチップとするこ
とが望ましい。各画素ミラー１０８は、印刷データを構
成する複数のデータビットの各データビットに従って、
個別にアドレス指定することができる。データビットが
第１状態のときには、画素ミラー１０８は、方向１２０
からの入射光を第１方向として方向１２２に沿って受光
体へ反射するように制御される。データビットが第２状
態のときには、画素ミラー１０８は、方向１２０からの
入射光を方向１２４に反射する。方向１２４に沿って反
射された光は投写レンズ１１０を含む投写システムを通
過しないので、方向１２４に沿って進む光は、画像形成
媒体１１２に照射しない。
光を形成する。 【構成】クリティカル照明変調器１０６は、複数の反射
素子つまり能動画素ミラーを含むＤＭＤチップとするこ
とが望ましい。各画素ミラー１０８は、印刷データを構
成する複数のデータビットの各データビットに従って、
個別にアドレス指定することができる。データビットが
第１状態のときには、画素ミラー１０８は、方向１２０
からの入射光を第１方向として方向１２２に沿って受光
体へ反射するように制御される。データビットが第２状
態のときには、画素ミラー１０８は、方向１２０からの
入射光を方向１２４に反射する。方向１２４に沿って反
射された光は投写レンズ１１０を含む投写システムを通
過しないので、方向１２４に沿って進む光は、画像形成
媒体１１２に照射しない。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、画像形成（イメージン
グ）印刷装置に関する。さらに詳しくは、本発明は、ア
ドレス指定可能なミラー技術、特に例えばディジタルミ
ラーデバイスとしても知られる変形可能なミラーデバイ
スなどの顕微機械的（マイクロ機械）空間光変調器に基
づく、印刷装置用の結像光（画像形成光）の形成に関す
る。
グ）印刷装置に関する。さらに詳しくは、本発明は、ア
ドレス指定可能なミラー技術、特に例えばディジタルミ
ラーデバイスとしても知られる変形可能なミラーデバイ
スなどの顕微機械的（マイクロ機械）空間光変調器に基
づく、印刷装置用の結像光（画像形成光）の形成に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】研究者らは、顕微機械的空間光変調器
（ＳＬＭ）を開発した。ＳＬＭの１つの種類は、「変形
可能なミラーデバイス（ＤＭＤ）」と呼ばれている。し
かし、ミラーデバイスは実際に変形するわけではない。
そうではなく、ミラーデバイスはヒンジ構造で、反射面
またはミラーが傾斜するようになっている。あるいは別
の形態として、ミラーの反射面が、選択的に回転するね
じりビーム（梁）上に形成されている。
（ＳＬＭ）を開発した。ＳＬＭの１つの種類は、「変形
可能なミラーデバイス（ＤＭＤ）」と呼ばれている。し
かし、ミラーデバイスは実際に変形するわけではない。
そうではなく、ミラーデバイスはヒンジ構造で、反射面
またはミラーが傾斜するようになっている。あるいは別
の形態として、ミラーの反射面が、選択的に回転するね
じりビーム（梁）上に形成されている。
【０００３】ＤＭＤ変調器は、標準的材料を用いて従来
のＣＭＯＳプロセスによって製造される、シリコンをベ
ースとするモノリシック集積デバイスである。この変調
器は１列または複数列の画素ミラーから成り、各画素ミ
ラーは個別にアドレス指定可能である。
のＣＭＯＳプロセスによって製造される、シリコンをベ
ースとするモノリシック集積デバイスである。この変調
器は１列または複数列の画素ミラーから成り、各画素ミ
ラーは個別にアドレス指定可能である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、印刷
データに従って高コントラストの結像光を形成する画像
形成装置（イメージャ）を提供することである。さらに
別の目的は、結像光を効率的に安価に最小限のコンポー
ネント数で形成することである。
データに従って高コントラストの結像光を形成する画像
形成装置（イメージャ）を提供することである。さらに
別の目的は、結像光を効率的に安価に最小限のコンポー
ネント数で形成することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】ＤＭＤ変調器またはその
他の形態の顕微機械的空間光変調器は、複数のデータビ
ットを含む印刷データに従って結像光を形成するための
画像形成装置に、有利に組み込むことができる。このよ
うな画像形成装置は、光源光で目標面を照明する照明装
置、光源光によって照明されるように目標面に配置され
たクリティカル照明変調器、および投射システムを備え
ている。クリティカル照明変調器は複数の反射素子を有
し、複数の反射素子の各反射素子は、複数のデータビッ
トのそれぞれのデータビットに対応する。各反射素子は
対応するデータビットによって制御され、対応するデー
タビットが第１状態のときに、光源光の対応する部分を
それぞれの反射素子からの第１光として第１方向に反射
する。投射システムは、反射素子からの第１光だけを結
像光として画像形成媒体上に集束する。
他の形態の顕微機械的空間光変調器は、複数のデータビ
ットを含む印刷データに従って結像光を形成するための
画像形成装置に、有利に組み込むことができる。このよ
うな画像形成装置は、光源光で目標面を照明する照明装
置、光源光によって照明されるように目標面に配置され
たクリティカル照明変調器、および投射システムを備え
ている。クリティカル照明変調器は複数の反射素子を有
し、複数の反射素子の各反射素子は、複数のデータビッ
トのそれぞれのデータビットに対応する。各反射素子は
対応するデータビットによって制御され、対応するデー
タビットが第１状態のときに、光源光の対応する部分を
それぞれの反射素子からの第１光として第１方向に反射
する。投射システムは、反射素子からの第１光だけを結
像光として画像形成媒体上に集束する。
【０００６】上記およびその他の目的は、目標面を光源
光で照明する段階と、目標面に照明された光源光を変調
する段階と、目標面の結像を画像形成媒体上に集束する
段階から成る、印刷データに従って結像（画像形成）光
を形成する方法によって達成される。光源光を変調する
段階は、複数のデータビットのそれぞれのデータビット
に対し、対応するデータビットが第１状態のときに、光
源光の対応部分を第１光として第１方向に反射すること
を含む。集束段階は、各データビットに対応する第１光
だけを、結像光として画像形成媒体上に集束する。本発
明の一態様は、複数のデータビットを含む印刷データに
従って、結像光を形成する画像形成装置であって、光源
光で目標面を照明する照明手段と、光源光で照明するよ
うに目標面に配置したクリティカル照明変調器であっ
て、複数の反射素子を有しており、複数の反射素子の各
反射素子が複数のデータビットのそれぞれのデータビッ
トに対応し、各反射素子が対応するデータビットによっ
て、対応するデータビットが第１状態のときには、光源
光の対応部分をそれぞれの反射素子から第１光として第
１方向に反射するように制御されるようにしたクリティ
カル照明変調器と、各反射素子からの第１光だけを結像
光として画像形成媒体に集束するための投写システム
と、から成る画像形成装置である。
光で照明する段階と、目標面に照明された光源光を変調
する段階と、目標面の結像を画像形成媒体上に集束する
段階から成る、印刷データに従って結像（画像形成）光
を形成する方法によって達成される。光源光を変調する
段階は、複数のデータビットのそれぞれのデータビット
に対し、対応するデータビットが第１状態のときに、光
源光の対応部分を第１光として第１方向に反射すること
を含む。集束段階は、各データビットに対応する第１光
だけを、結像光として画像形成媒体上に集束する。本発
明の一態様は、複数のデータビットを含む印刷データに
従って、結像光を形成する画像形成装置であって、光源
光で目標面を照明する照明手段と、光源光で照明するよ
うに目標面に配置したクリティカル照明変調器であっ
て、複数の反射素子を有しており、複数の反射素子の各
反射素子が複数のデータビットのそれぞれのデータビッ
トに対応し、各反射素子が対応するデータビットによっ
て、対応するデータビットが第１状態のときには、光源
光の対応部分をそれぞれの反射素子から第１光として第
１方向に反射するように制御されるようにしたクリティ
カル照明変調器と、各反射素子からの第１光だけを結像
光として画像形成媒体に集束するための投写システム
と、から成る画像形成装置である。
【０００７】
【実施例】次に、本発明を、図に示す好適実施例に基づ
いて詳細に説明する。図１では、光源１０２および集光
レンズ１０４が、クリティカル照明変調器１０６を照明
するための照明システムを構成する。光源１０２からの
光は方向１２０に沿って伝搬し、目標面１０７でクリテ
ィカル照明変調器１０６を照明する。投射システムは、
目標面１０７と画像形成媒体１１２、例えば印刷装置の
受光体（例えば、感光体）との間に配置された投写レン
ズ１１０を含む。目標面１０７の物体は、画像形成媒体
上１１２に集束される。特に、目標面１０７で物体から
反射する光は、１２２の方向に伝搬し、画像形成媒体１
１２上に集束する。
いて詳細に説明する。図１では、光源１０２および集光
レンズ１０４が、クリティカル照明変調器１０６を照明
するための照明システムを構成する。光源１０２からの
光は方向１２０に沿って伝搬し、目標面１０７でクリテ
ィカル照明変調器１０６を照明する。投射システムは、
目標面１０７と画像形成媒体１１２、例えば印刷装置の
受光体（例えば、感光体）との間に配置された投写レン
ズ１１０を含む。目標面１０７の物体は、画像形成媒体
上１１２に集束される。特に、目標面１０７で物体から
反射する光は、１２２の方向に伝搬し、画像形成媒体１
１２上に集束する。
【０００８】光源１０２は、可視光または赤外光を生成
するガスレーザまたはダイオードレーザが望ましい。レ
ーザは、単独または複数のスポットを生成することがで
きる。光源１０２はまた、白熱光のタングステンフィラ
メントでもよい。変調器１０６が照明システムによって
均等に照明されることが望ましい。
するガスレーザまたはダイオードレーザが望ましい。レ
ーザは、単独または複数のスポットを生成することがで
きる。光源１０２はまた、白熱光のタングステンフィラ
メントでもよい。変調器１０６が照明システムによって
均等に照明されることが望ましい。
【０００９】画像形成媒体は、矢印１１３で示すように
回転する受光体ベルトまたは受光体ドラムが望ましい。
したがって、目標面１０７の物体は、投写レンズ１１０
によって方向１２２に沿って投写され、受光体の表面が
回転するときに受光体表面に結像する。物体が変化する
と、画像形成媒体１１２に形成される画像も同様に変化
する。こうして２次元画像が受光体１１２に投写され
る。
回転する受光体ベルトまたは受光体ドラムが望ましい。
したがって、目標面１０７の物体は、投写レンズ１１０
によって方向１２２に沿って投写され、受光体の表面が
回転するときに受光体表面に結像する。物体が変化する
と、画像形成媒体１１２に形成される画像も同様に変化
する。こうして２次元画像が受光体１１２に投写され
る。
【００１０】クリティカル照明変調器１０６は、複数の
反射素子つまり能動画素ミラーを含むＤＭＤチップとす
ることが望ましい。各画素ミラー１０８は、印刷データ
を構成する複数のデータビットの各データビットに従っ
て、個別にアドレス指定することができる。データビッ
トが第１状態のときには、画素ミラー１０８は、方向１
２０からの入射光を第１方向として方向１２２に沿って
受光体へ反射するように制御される。データビットが第
２状態のときには、画素ミラー１０８は、方向１２０か
らの入射光を方向１２４に反射する。方向１２４に沿っ
て反射された光は投写レンズ１１０を含む投写システム
を通過しないので、方向１２４に沿って進む光は、画像
形成媒体１１２に照射しない。方向１２４に沿って進む
光は、暗視野投写と呼ばれる。このように、画素ミラー
を制御することによって、光を投写システムを通過する
ように反射して画像形成媒体１１２に照射させるか、あ
るいは光を方向１２４に沿って暗視野へ反射させること
ができる。
反射素子つまり能動画素ミラーを含むＤＭＤチップとす
ることが望ましい。各画素ミラー１０８は、印刷データ
を構成する複数のデータビットの各データビットに従っ
て、個別にアドレス指定することができる。データビッ
トが第１状態のときには、画素ミラー１０８は、方向１
２０からの入射光を第１方向として方向１２２に沿って
受光体へ反射するように制御される。データビットが第
２状態のときには、画素ミラー１０８は、方向１２０か
らの入射光を方向１２４に反射する。方向１２４に沿っ
て反射された光は投写レンズ１１０を含む投写システム
を通過しないので、方向１２４に沿って進む光は、画像
形成媒体１１２に照射しない。方向１２４に沿って進む
光は、暗視野投写と呼ばれる。このように、画素ミラー
を制御することによって、光を投写システムを通過する
ように反射して画像形成媒体１１２に照射させるか、あ
るいは光を方向１２４に沿って暗視野へ反射させること
ができる。
【００１１】図２では、クリティカル照明変調器が目標
面１０７に配置されている。方向１２０に沿って進行す
る光源光は、クリティカル照明変調器１２０から投写レ
ンズ１１０を経て画像形成媒体１１２へ反射する。特
に、クリティカル照明変調器は複数の制御可能な画素ミ
ラー１０８を有する。各画素ミラー１０８は、対応する
データビットに従って個別にアドレス指定することがで
きる。対応するデータビットが第１状態のときに、光が
投写レンズ１１０を通過するように反射させるために、
各個別の画素ミラー１０８は、第１光が対応する方向１
２２に沿って伝搬し、画像形成媒体１１２の対応部分に
投写するように反射する。このように、線形配列の制御
可能なミラー１０８でクリティカル照明変調器１０６を
構成することにより、対応するデータビットが第１状態
のときに、光源光からの光を投写レンズ１１０を経て画
像形成媒体１１２に反射させる。様々なデータビットが
第１状態または他の状態のとき、対応する様々な投写方
向１２２または１２４に沿って投写される光は、それぞ
れのデータビットによって、それぞれ明るいか暗いかの
どちらかとなる。こうして、線形配列の「ドット」が画
像形成媒体１１２上に投写される。画像形成媒体１１２
は回転するので、様々な印刷データがクリティカル照明
変調器１０６を制御し、画像形成媒体１１２上に集束さ
れた様々な線形配列の結像光（ドットの配列）を生成す
る。画像形成媒体１１２が回転するので、線形配列の結
像光は２次元の画像が掃引される。
面１０７に配置されている。方向１２０に沿って進行す
る光源光は、クリティカル照明変調器１２０から投写レ
ンズ１１０を経て画像形成媒体１１２へ反射する。特
に、クリティカル照明変調器は複数の制御可能な画素ミ
ラー１０８を有する。各画素ミラー１０８は、対応する
データビットに従って個別にアドレス指定することがで
きる。対応するデータビットが第１状態のときに、光が
投写レンズ１１０を通過するように反射させるために、
各個別の画素ミラー１０８は、第１光が対応する方向１
２２に沿って伝搬し、画像形成媒体１１２の対応部分に
投写するように反射する。このように、線形配列の制御
可能なミラー１０８でクリティカル照明変調器１０６を
構成することにより、対応するデータビットが第１状態
のときに、光源光からの光を投写レンズ１１０を経て画
像形成媒体１１２に反射させる。様々なデータビットが
第１状態または他の状態のとき、対応する様々な投写方
向１２２または１２４に沿って投写される光は、それぞ
れのデータビットによって、それぞれ明るいか暗いかの
どちらかとなる。こうして、線形配列の「ドット」が画
像形成媒体１１２上に投写される。画像形成媒体１１２
は回転するので、様々な印刷データがクリティカル照明
変調器１０６を制御し、画像形成媒体１１２上に集束さ
れた様々な線形配列の結像光（ドットの配列）を生成す
る。画像形成媒体１１２が回転するので、線形配列の結
像光は２次元の画像が掃引される。
【００１２】図１では、クリティカル照明変調器１０６
を構成する線形配列の画素ミラーが、方向１２０からの
光源光光を第１方向１２２または暗視野方向１２４に選
択的に反射する。画像形成媒体１１２に生成される画像
は、光源光光が第１方向１２２に沿って反射すると明る
く見え、光源光光が方向１２４（暗視野投写）に沿って
反射すると暗く見える。
を構成する線形配列の画素ミラーが、方向１２０からの
光源光光を第１方向１２２または暗視野方向１２４に選
択的に反射する。画像形成媒体１１２に生成される画像
は、光源光光が第１方向１２２に沿って反射すると明る
く見え、光源光光が方向１２４（暗視野投写）に沿って
反射すると暗く見える。
【００１３】図３（Ａ）では、線形配列の変形可能なミ
ラーデバイス１６０が、対応するデータビットに基づ
き、ピボット部材１６２に沿って旋回する。画素ミラー
１６０は、最小限の間隙１６４により相互に分離されて
いる。画素ミラーは全体として線形配列１４０を形成す
る。
ラーデバイス１６０が、対応するデータビットに基づ
き、ピボット部材１６２に沿って旋回する。画素ミラー
１６０は、最小限の間隙１６４により相互に分離されて
いる。画素ミラーは全体として線形配列１４０を形成す
る。
【００１４】図３（Ｂ）では、クリティカル照明変調器
１０６が、ピボット部材１６２を中心に選択的に旋回可
能な画素ミラー１６０の２列配列１５０を有する。第１
列の画素ミラー１６０は、第２列の対応する画素ミラー
１６０にオーバーラップ分１６６だけオーバーラップし
ている。対照的に、図３（Ａ）の線形配列１４０の画素
ミラーの場合、画素ミラー１６０は間隙１６４の分だけ
離れている。このように、ＤＭＤ設計者は、光学系設計
者のオーバーラップ要求に応えることができる。最小間
隙は、製造工程によって制限される。ＤＭＤまたは同様
のデバイスの能動変調器表面の周囲の領域におけるわず
かな光エネルギーの「オーバフィル（overfill）」は、
照明システムの位置合わせの精度要求を緩和する。
１０６が、ピボット部材１６２を中心に選択的に旋回可
能な画素ミラー１６０の２列配列１５０を有する。第１
列の画素ミラー１６０は、第２列の対応する画素ミラー
１６０にオーバーラップ分１６６だけオーバーラップし
ている。対照的に、図３（Ａ）の線形配列１４０の画素
ミラーの場合、画素ミラー１６０は間隙１６４の分だけ
離れている。このように、ＤＭＤ設計者は、光学系設計
者のオーバーラップ要求に応えることができる。最小間
隙は、製造工程によって制限される。ＤＭＤまたは同様
のデバイスの能動変調器表面の周囲の領域におけるわず
かな光エネルギーの「オーバフィル（overfill）」は、
照明システムの位置合わせの精度要求を緩和する。
【００１５】図４Ａでは、画像形成装置（イメージャ）
の光学系の略図に、集光レンズ１０４を通して画素ミラ
ー１０８に光を投写する光源光を示しており、画素ミラ
ーは光を投写レンズを経て画像形成媒体１１２へ反射す
る。画像形成装置は、ミラーを照射する光の部分が最大
限になるように設計することが望ましい。図４（Ｂ）に
示すように、クリティカル照明変調器１０６に照射する
光源光光は、線形配列または多重列配列に配置された画
素ミラー１０８の配列の形状に厳密に従う形状１１６に
制限する。目的は、最大百分率の光を画素ミラー１０８
に集束させ、最小百分率の光をクリティカル照明変調器
１０６の背景に集束させることである。長尺状形状１１
６が、白熱灯の長尺状タングステンフィラメントや長尺
状レーザダイオードの形状によく一致することに注目さ
れたい。
の光学系の略図に、集光レンズ１０４を通して画素ミラ
ー１０８に光を投写する光源光を示しており、画素ミラ
ーは光を投写レンズを経て画像形成媒体１１２へ反射す
る。画像形成装置は、ミラーを照射する光の部分が最大
限になるように設計することが望ましい。図４（Ｂ）に
示すように、クリティカル照明変調器１０６に照射する
光源光光は、線形配列または多重列配列に配置された画
素ミラー１０８の配列の形状に厳密に従う形状１１６に
制限する。目的は、最大百分率の光を画素ミラー１０８
に集束させ、最小百分率の光をクリティカル照明変調器
１０６の背景に集束させることである。長尺状形状１１
６が、白熱灯の長尺状タングステンフィラメントや長尺
状レーザダイオードの形状によく一致することに注目さ
れたい。
【００１６】慎重な設計にも拘らず、光源光によって
は、クリティカル照明変調器の画素ミラー１０８でカバ
ーされていない部分を照射する場合がある。画像形成装
置は、このような光を方向１２４（図１参照）に沿って
反射するように構成されており、それを暗視野投写と呼
ぶ。第１状態のデータビットでアドレス指定された画素
ミラー１０８だけが、光を方向１２２に沿って投写レン
ズを通過するように反射する。したがって、高いコント
ラストが達成される。
は、クリティカル照明変調器の画素ミラー１０８でカバ
ーされていない部分を照射する場合がある。画像形成装
置は、このような光を方向１２４（図１参照）に沿って
反射するように構成されており、それを暗視野投写と呼
ぶ。第１状態のデータビットでアドレス指定された画素
ミラー１０８だけが、光を方向１２２に沿って投写レン
ズを通過するように反射する。したがって、高いコント
ラストが達成される。
【００１７】図２から分かるように、投写システムは、
画像形成媒体の幅、例えば８−１／２インチの受光体１
１２に比べて、クリティカル照明変調器の幅が小さく、
例えば２インチとなるように設計することができる。さ
らに、投写レンズ１１０は、各画素ミラー１０８を物体
として、画像形成媒体１１２の対応部分に正確に集束す
る。したがって、画素ミラー１０８が、対応するデータ
ビットよって、光源光光を投写レンズ１１０を経て画像
形成媒体１１２に反射するように制御された場合、投写
された画像は非常に明るくなる。対照的に、画素ミラー
１０８が、対応するデータビットの制御によって、光源
光光を方向１２４（図１参照）に沿って反射するように
制御された場合、画素ミラー１０８の画像は、画像形成
媒体１１２に集束されたときに非常に暗く見える。
画像形成媒体の幅、例えば８−１／２インチの受光体１
１２に比べて、クリティカル照明変調器の幅が小さく、
例えば２インチとなるように設計することができる。さ
らに、投写レンズ１１０は、各画素ミラー１０８を物体
として、画像形成媒体１１２の対応部分に正確に集束す
る。したがって、画素ミラー１０８が、対応するデータ
ビットよって、光源光光を投写レンズ１１０を経て画像
形成媒体１１２に反射するように制御された場合、投写
された画像は非常に明るくなる。対照的に、画素ミラー
１０８が、対応するデータビットの制御によって、光源
光光を方向１２４（図１参照）に沿って反射するように
制御された場合、画素ミラー１０８の画像は、画像形成
媒体１１２に集束されたときに非常に暗く見える。
【００１８】画素ミラー１０８は固定位置を持つので、
画像形成媒体１１２における画素ミラーの画像もまた固
定され、画像形成媒体１１２上の画素位置決め誤差が最
小化される。本発明は固有の高コントラストを持ってお
り、この変調器を利用して正確な画素位置決めおよび多
層の適正な見当合わせが達成されるので、カラー印刷に
特に適している。
画像形成媒体１１２における画素ミラーの画像もまた固
定され、画像形成媒体１１２上の画素位置決め誤差が最
小化される。本発明は固有の高コントラストを持ってお
り、この変調器を利用して正確な画素位置決めおよび多
層の適正な見当合わせが達成されるので、カラー印刷に
特に適している。
【００１９】本発明は、受光体の露光に適した充分なパ
ワーを生成するために、高エネルギー密度の光源光光を
経済的かつ効果的にミラー表面に向かわせることができ
る。この高エネルギー密度は、使用する光源光光の種類
とは関係なく、達成することができる。したがって、受
光体が回転するときに、印刷データを高速で変化させ
て、受光体上で高密度の画像形成を達成することができ
る。光源光を変調器で結像させるこのクリティカル照明
法を用いることによって、ミラーからの全ての光を投写
システムへ反射させる。
ワーを生成するために、高エネルギー密度の光源光光を
経済的かつ効果的にミラー表面に向かわせることができ
る。この高エネルギー密度は、使用する光源光光の種類
とは関係なく、達成することができる。したがって、受
光体が回転するときに、印刷データを高速で変化させ
て、受光体上で高密度の画像形成を達成することができ
る。光源光を変調器で結像させるこのクリティカル照明
法を用いることによって、ミラーからの全ての光を投写
システムへ反射させる。
【００２０】印刷データに従って結像光を形成する新規
の方法および装置の好適実施例について説明してきたが
（これらは理解を助けることを意図したものであって、
発明を制限するものではない）、当業者が上記の教示に
照らして変化例や変形例を形成できることは明白であ
る。例えば、照明システムは、クリティカル照明変調器
に投写される光の密度を整えるために、中性フィルタを
含めることができる。したがって、請求の範囲に規定す
る本発明の範囲および精神から逸脱することなく、開示
した本発明の特定の実施例に変更を加えることが可能な
ことは、理解されるであろう。
の方法および装置の好適実施例について説明してきたが
（これらは理解を助けることを意図したものであって、
発明を制限するものではない）、当業者が上記の教示に
照らして変化例や変形例を形成できることは明白であ
る。例えば、照明システムは、クリティカル照明変調器
に投写される光の密度を整えるために、中性フィルタを
含めることができる。したがって、請求の範囲に規定す
る本発明の範囲および精神から逸脱することなく、開示
した本発明の特定の実施例に変更を加えることが可能な
ことは、理解されるであろう。
【図１】本発明の画像形成装置の光学系のサジタル光線
図である。
図である。
【図２】画像形成装置の光学系の子午的光線図である。
【図３】（Ａ）は、ＤＭＤを使用した単列変調器を示す
図であり、（Ｂ）はＤＭＤを使用した２列変調器を示す
図である。
図であり、（Ｂ）はＤＭＤを使用した２列変調器を示す
図である。
【図４】（Ａ）は本発明の光学系の略図であり、（Ｂ）
はクリティカル照明変調器を含む目標面の図である。
はクリティカル照明変調器を含む目標面の図である。
１０２ 光源光 １０４ 集光レンズ １０６ クリティカル照明変調器 １０７ 目標面 １０８ 画素ミラー １１２ 画像形成媒体
Claims (1)
- 【請求項１】 複数のデータビットを含む印刷データ
に従って、結像光を形成する画像形成装置であって、 光源光で目標面を照明する照明手段と、 光源光で照明するように目標面に配置したクリティカル
照明変調器であって、複数の反射素子を有しており、複
数の反射素子の各反射素子が複数のデータビットのそれ
ぞれのデータビットに対応し、各反射素子が対応するデ
ータビットによって、対応するデータビットが第１状態
のときには、光源光の対応部分をそれぞれの反射素子か
ら第１光として第１方向に反射するように制御されるよ
うにしたクリティカル照明変調器と、 各反射素子からの第１光だけを結像光として画像形成媒
体に集束するための投写システムと、から成る画像形成
装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US96424692A | 1992-10-21 | 1992-10-21 | |
| US964246 | 1992-10-21 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06138403A true JPH06138403A (ja) | 1994-05-20 |
Family
ID=25508313
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15582893A Pending JPH06138403A (ja) | 1992-10-21 | 1993-06-25 | 画像装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5479289A (ja) |
| JP (1) | JPH06138403A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6900915B2 (en) | 2001-11-14 | 2005-05-31 | Ricoh Company, Ltd. | Light deflecting method and apparatus efficiently using a floating mirror |
| US6947195B2 (en) | 2001-01-18 | 2005-09-20 | Ricoh Company, Ltd. | Optical modulator, optical modulator manufacturing method, light information processing apparatus including optical modulator, image formation apparatus including optical modulator, and image projection and display apparatus including optical modulator |
| US7050217B2 (en) | 2003-06-27 | 2006-05-23 | Ricoh Company, Ltd. | Method for driving light deflector, light deflector, light deflection array, image forming device, and image projection display apparatus |
| US7113321B2 (en) | 2003-04-15 | 2006-09-26 | Ricoh Company, Ltd. | Optical deflection apparatus and manufacturing method thereof, optical deflection array, imaging apparatus, and image projection display apparatus |
| US7167290B2 (en) | 2004-01-06 | 2007-01-23 | Ricoh Company, Ltd. | Optical deflection device |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US7253794B2 (en) * | 1995-01-31 | 2007-08-07 | Acacia Patent Acquisition Corporation | Display apparatus and method |
| US5684566A (en) * | 1995-05-24 | 1997-11-04 | Svg Lithography Systems, Inc. | Illumination system and method employing a deformable mirror and diffractive optical elements |
| TW508653B (en) | 2000-03-24 | 2002-11-01 | Asml Netherlands Bv | Lithographic projection apparatus and integrated circuit manufacturing method |
| JP2010085194A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Sysmex Corp | 試料分析装置 |
Family Cites Families (7)
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|---|---|---|---|---|
| US3922085A (en) * | 1974-08-22 | 1975-11-25 | Tamarack Scient Co Inc | Illuminator for microphotography |
| US4571603A (en) * | 1981-11-03 | 1986-02-18 | Texas Instruments Incorporated | Deformable mirror electrostatic printer |
| US4492435A (en) * | 1982-07-02 | 1985-01-08 | Xerox Corporation | Multiple array full width electro mechanical modulator |
| US5096279A (en) * | 1984-08-31 | 1992-03-17 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator and method |
| JPH0750799B2 (ja) * | 1986-04-17 | 1995-05-31 | 株式会社東芝 | 発光装置 |
| US5072239A (en) * | 1989-12-21 | 1991-12-10 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator exposure unit and method of operation |
| US5159485A (en) * | 1990-12-31 | 1992-10-27 | Texas Instruments Incorporated | System and method for uniformity of illumination for tungsten light |
-
1993
- 1993-06-25 JP JP15582893A patent/JPH06138403A/ja active Pending
-
1994
- 1994-07-20 US US08/277,813 patent/US5479289A/en not_active Expired - Lifetime
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| US7166486B2 (en) | 2001-01-18 | 2007-01-23 | Ricoh Company, Ltd. | Optical modulator, optical modulator manufacturing method, light information processing apparatus including optical modulator, image formation apparatus including optical modulator, and image projection and display apparatus including optical modulator |
| US6947195B2 (en) | 2001-01-18 | 2005-09-20 | Ricoh Company, Ltd. | Optical modulator, optical modulator manufacturing method, light information processing apparatus including optical modulator, image formation apparatus including optical modulator, and image projection and display apparatus including optical modulator |
| US7064878B2 (en) | 2001-11-14 | 2006-06-20 | Ricoh Company, Ltd. | Light deflecting method and apparatus efficiently using a floating mirror |
| US6900915B2 (en) | 2001-11-14 | 2005-05-31 | Ricoh Company, Ltd. | Light deflecting method and apparatus efficiently using a floating mirror |
| US7099060B2 (en) | 2001-11-14 | 2006-08-29 | Ricoh Company, Ltd. | Light deflecting method and apparatus efficiently using a floating mirror |
| US7215452B2 (en) | 2001-11-14 | 2007-05-08 | Ricoh Company, Ltd. | Light deflecting method and apparatus efficiently using a floating mirror |
| US7333256B2 (en) | 2001-11-14 | 2008-02-19 | Ricoh Company, Ltd. | Light deflecting method and apparatus efficiently using a floating mirror |
| US7342702B2 (en) | 2001-11-14 | 2008-03-11 | Ricoh Company, Ltd. | Light deflecting method and apparatus efficiently using a floating mirror |
| US7457019B2 (en) | 2001-11-14 | 2008-11-25 | Ricoh Company, Ltd. | Light deflecting method and apparatus efficiently using a floating mirror |
| US7538923B2 (en) | 2001-11-14 | 2009-05-26 | Ricoh Company, Ltd. | Light deflecting method and apparatus efficiently using a floating mirror |
| US7697179B2 (en) | 2001-11-14 | 2010-04-13 | Ricoh Company, Ltd. | Light deflecting method and apparatus efficiently using a floating mirror |
| US7113321B2 (en) | 2003-04-15 | 2006-09-26 | Ricoh Company, Ltd. | Optical deflection apparatus and manufacturing method thereof, optical deflection array, imaging apparatus, and image projection display apparatus |
| US7050217B2 (en) | 2003-06-27 | 2006-05-23 | Ricoh Company, Ltd. | Method for driving light deflector, light deflector, light deflection array, image forming device, and image projection display apparatus |
| US7391551B2 (en) | 2003-06-27 | 2008-06-24 | Ricoh Company, Ltd. | Method for driving light deflector, light deflector, light deflection array, image forming device, and image projection display apparatus |
| US7167290B2 (en) | 2004-01-06 | 2007-01-23 | Ricoh Company, Ltd. | Optical deflection device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5479289A (en) | 1995-12-26 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20020820 |