JPH06136584A - 高純度ニッケルの製造方法 - Google Patents
高純度ニッケルの製造方法Info
- Publication number
- JPH06136584A JPH06136584A JP4311078A JP31107892A JPH06136584A JP H06136584 A JPH06136584 A JP H06136584A JP 4311078 A JP4311078 A JP 4311078A JP 31107892 A JP31107892 A JP 31107892A JP H06136584 A JPH06136584 A JP H06136584A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- nickel
- stage
- electrolytic cell
- purity
- electrolytic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
Landscapes
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 塩素浸出、電解採取による高純度ニッケルの
製造工程を大きく変更することなく、又新たな設備を殆
ど付加することなく、高純度ニッケルと共に超高純度ニ
ッケルをも製造し得る方法を提供する。 【構成】 高純度ニッケルを得る第１段電解槽にはＮｉ
濃度６５ｇ／ｌ以上、Ｃｏ濃度１．５ｍｇ／ｌ以下の塩
化ニッケル水溶液を７０〜１００ｍｌ／Ａ・時宛給液
し、超高純度ニッケルを得る第２段電解槽にはＣｏ濃度
０．２５ｍｇ／ｌ以下の第１段電解廃液を溶存塩素量
０．０１ｇ／ｌ以下に脱気し、かつｐＨ１．１〜１．８
に調整して１００〜１５０ｍｌ／Ａ・時宛給液して電解
する。
製造工程を大きく変更することなく、又新たな設備を殆
ど付加することなく、高純度ニッケルと共に超高純度ニ
ッケルをも製造し得る方法を提供する。 【構成】 高純度ニッケルを得る第１段電解槽にはＮｉ
濃度６５ｇ／ｌ以上、Ｃｏ濃度１．５ｍｇ／ｌ以下の塩
化ニッケル水溶液を７０〜１００ｍｌ／Ａ・時宛給液
し、超高純度ニッケルを得る第２段電解槽にはＣｏ濃度
０．２５ｍｇ／ｌ以下の第１段電解廃液を溶存塩素量
０．０１ｇ／ｌ以下に脱気し、かつｐＨ１．１〜１．８
に調整して１００〜１５０ｍｌ／Ａ・時宛給液して電解
する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は純塩化ニッケル水溶液か
ら電解採取により高純度ニッケルを得る共に超高純度ニ
ッケルも同時に得ることが出来る新規な高純度ニッケル
の製造方法に関する。
ら電解採取により高純度ニッケルを得る共に超高純度ニ
ッケルも同時に得ることが出来る新規な高純度ニッケル
の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】硫化ニッケルを主成分とし、コバルト、
銅等を不純物として含有するニッケルマットから金属ニ
ッケルを回収する方法の一つに、該マットを溶融し、ア
ノードに整形して直接電解に供する電解精製法がある。
しかしながらこの方法は、マット溶融炉とアノード鋳造
設備、電解設備及び電解液中の不純物を除去し且つ液組
成を調整する浄液設備が必要で、現在では経済的に必ず
しも有利な方法でなく、又コバルト含有量が５０ｐｐｍ
以下の高純度ニッケルを得ることも困難であった。
銅等を不純物として含有するニッケルマットから金属ニ
ッケルを回収する方法の一つに、該マットを溶融し、ア
ノードに整形して直接電解に供する電解精製法がある。
しかしながらこの方法は、マット溶融炉とアノード鋳造
設備、電解設備及び電解液中の不純物を除去し且つ液組
成を調整する浄液設備が必要で、現在では経済的に必ず
しも有利な方法でなく、又コバルト含有量が５０ｐｐｍ
以下の高純度ニッケルを得ることも困難であった。
【０００３】ニッケルマットを酸化浸出し、該浸出液を
溶媒抽出に供して不純物金属を分離し、得られた純ニッ
ケル塩水溶液を不溶性アノードを用いて電解採取に供す
れば、高純度ニッケルのみならず、コバルト含有量が１
０ｐｐｍ以下の超高純度ニッケルを得ることも可能であ
るが、溶媒抽出設備の投資額が大きく、特にコバルト回
収量が多くない場合は経済的な方法ではない。
溶媒抽出に供して不純物金属を分離し、得られた純ニッ
ケル塩水溶液を不溶性アノードを用いて電解採取に供す
れば、高純度ニッケルのみならず、コバルト含有量が１
０ｐｐｍ以下の超高純度ニッケルを得ることも可能であ
るが、溶媒抽出設備の投資額が大きく、特にコバルト回
収量が多くない場合は経済的な方法ではない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記事情により近年、
ニッケルマットを塩素浸出し、該浸出液を電解採取する
方法が注目され、浸出液を残渣硫黄と分離した後脱銅電
解に供して銅を電着除去し、該脱銅電解廃液を新たなニ
ッケルマットと接触せしめて液中の残存銅イオンを置換
沈殿せしめ、得られたろ液、即ち粗塩化ニッケル水溶
液、に炭酸ニッケルを添加してコバルトを沈殿除去し、
得られた純塩化ニッケル水溶液を不溶性アノードを用い
て電解採取する方法をほぼ確立出来た。
ニッケルマットを塩素浸出し、該浸出液を電解採取する
方法が注目され、浸出液を残渣硫黄と分離した後脱銅電
解に供して銅を電着除去し、該脱銅電解廃液を新たなニ
ッケルマットと接触せしめて液中の残存銅イオンを置換
沈殿せしめ、得られたろ液、即ち粗塩化ニッケル水溶
液、に炭酸ニッケルを添加してコバルトを沈殿除去し、
得られた純塩化ニッケル水溶液を不溶性アノードを用い
て電解採取する方法をほぼ確立出来た。
【０００５】この方法によれば高純度ニッケルを比較的
低コストで得られるが、金属ニッケルの用途によっては
超高純度ニッケルを要する場合があり、この超高純度ニ
ッケルをいかに低コストで得るかが課題として残されて
いた。
低コストで得られるが、金属ニッケルの用途によっては
超高純度ニッケルを要する場合があり、この超高純度ニ
ッケルをいかに低コストで得るかが課題として残されて
いた。
【０００６】その方策として例えば、前記電解採取廃液
に更に炭酸ニッケルを添加してコバルトを沈殿除去する
ことが考えられるが、コバルトと共にニッケルも沈殿さ
せることになり、その処理が新たに課題となるし、溶媒
抽出法の適用は前記した通りコスト高となるのが避けら
れない。
に更に炭酸ニッケルを添加してコバルトを沈殿除去する
ことが考えられるが、コバルトと共にニッケルも沈殿さ
せることになり、その処理が新たに課題となるし、溶媒
抽出法の適用は前記した通りコスト高となるのが避けら
れない。
【０００７】本発明の目的は、上記塩素浸出、電解採取
による高純度ニッケルの製造工程を大きく変更すること
なく、又新たな設備を殆ど付加することなく、高純度ニ
ッケルと共に超高純度ニッケルをも製造し得る方法を提
供することにある。
による高純度ニッケルの製造工程を大きく変更すること
なく、又新たな設備を殆ど付加することなく、高純度ニ
ッケルと共に超高純度ニッケルをも製造し得る方法を提
供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明者等は、高純度ニッケル製造の電解条件をコバル
ト電着量を増すように選択すれば、その電解廃液の電解
により低コバルト含有量のニッケルが製造できるのでは
ないかと考え、種々実験の結果本発明に到達した。即ち
本発明の方法は、電解槽に純塩化ニッケル水溶液を給液
し、該電解液中に不溶性アノードとニッケルカソードを
吊り下げて通電し、該電解液から金属ニッケルをカソー
ド上に電着せしめる高純度ニッケルの製造方法におい
て、電解槽を第１段電解槽と第２段電解槽とに分け、第
１段電解槽にはニッケル濃度が６５ｇ／ｌ以上、コバル
ト濃度が１．５ｍｇ／ｌ以下の塩化ニッケル水溶液を７
０〜１００ｍｌ／Ａ・時の割合で給液し、第２段電解槽
にはコバルト濃度が０．２５ｍｇ／ｌ以下となった第１
段電解槽の廃液を真空脱気して溶存塩素量を０．０１ｇ
／ｌ以下とし、ｐＨを１．１〜１．８に調整して１００
〜１５０ｍｌ／Ａ・時の割合で給液して夫々電解し、第
１段電解槽では高純度の金属ニッケルを、第２段電解槽
では超高純度の金属ニッケルを得る点に特徴がある。
本発明者等は、高純度ニッケル製造の電解条件をコバル
ト電着量を増すように選択すれば、その電解廃液の電解
により低コバルト含有量のニッケルが製造できるのでは
ないかと考え、種々実験の結果本発明に到達した。即ち
本発明の方法は、電解槽に純塩化ニッケル水溶液を給液
し、該電解液中に不溶性アノードとニッケルカソードを
吊り下げて通電し、該電解液から金属ニッケルをカソー
ド上に電着せしめる高純度ニッケルの製造方法におい
て、電解槽を第１段電解槽と第２段電解槽とに分け、第
１段電解槽にはニッケル濃度が６５ｇ／ｌ以上、コバル
ト濃度が１．５ｍｇ／ｌ以下の塩化ニッケル水溶液を７
０〜１００ｍｌ／Ａ・時の割合で給液し、第２段電解槽
にはコバルト濃度が０．２５ｍｇ／ｌ以下となった第１
段電解槽の廃液を真空脱気して溶存塩素量を０．０１ｇ
／ｌ以下とし、ｐＨを１．１〜１．８に調整して１００
〜１５０ｍｌ／Ａ・時の割合で給液して夫々電解し、第
１段電解槽では高純度の金属ニッケルを、第２段電解槽
では超高純度の金属ニッケルを得る点に特徴がある。
【０００９】
【作用】本発明の基本は塩化ニッケル水溶液の電解採取
であり、カソードではニッケルが電着し、アノードにお
いては塩素ガスを発生する。このため不溶性アノードは
ろ布を張ったボックスに入れて塩素ガスを完全に回収で
きるようにする。回収した塩素ガスはニッケルマットの
塩素浸出に繰り返し使用出来る。不溶性アノードは何れ
であっても良いが、金属チタン等の基体上に白金族金属
酸化物等を含有する活性被膜を設けた不溶性電極が適当
である。
であり、カソードではニッケルが電着し、アノードにお
いては塩素ガスを発生する。このため不溶性アノードは
ろ布を張ったボックスに入れて塩素ガスを完全に回収で
きるようにする。回収した塩素ガスはニッケルマットの
塩素浸出に繰り返し使用出来る。不溶性アノードは何れ
であっても良いが、金属チタン等の基体上に白金族金属
酸化物等を含有する活性被膜を設けた不溶性電極が適当
である。
【００１０】カソードは電着物と共に製品となるので所
定の品質が要求され、高純度ニッケルを得る場合は高純
度品を、超高純度ニッケルを得る場合は超高純度品を用
いる必要がある。電解スタート時のカソードとなる種板
は、チタン等の耐食性金属の母板をカソードとして、以
下に述べる本発明法に準じて種板電解を行い、所定の厚
さに電着すればこれを母板から剥離して得ると良い。
定の品質が要求され、高純度ニッケルを得る場合は高純
度品を、超高純度ニッケルを得る場合は超高純度品を用
いる必要がある。電解スタート時のカソードとなる種板
は、チタン等の耐食性金属の母板をカソードとして、以
下に述べる本発明法に準じて種板電解を行い、所定の厚
さに電着すればこれを母板から剥離して得ると良い。
【００１１】この種板に吊り手を付してニッケルカソー
ドとし、該カソードと前記ボックスに収容した不溶性ア
ノードとを電解槽内に交互に吊り下げ、純塩化ニッケル
水溶液から成る電解液を供給して通電する。
ドとし、該カソードと前記ボックスに収容した不溶性ア
ノードとを電解槽内に交互に吊り下げ、純塩化ニッケル
水溶液から成る電解液を供給して通電する。
【００１２】工業的には電解槽は複数設置するのが通常
であり、本発明においてはこれら電解槽を第１段電解槽
と第２段電解槽とに分け、第１段電解槽にはニッケル濃
度が６５ｇ／ｌ以上、コバルト濃度が１．５ｍｇ／ｌ以
下の塩化ニッケル水溶液を７０〜１００ｍｌ／Ａ・時の
割合で給液する。
であり、本発明においてはこれら電解槽を第１段電解槽
と第２段電解槽とに分け、第１段電解槽にはニッケル濃
度が６５ｇ／ｌ以上、コバルト濃度が１．５ｍｇ／ｌ以
下の塩化ニッケル水溶液を７０〜１００ｍｌ／Ａ・時の
割合で給液する。
【００１３】本発明はコバルトの電着率が給液速度に依
存することを見出だしたことに基づいている。即ち給液
速度が１００ｍｌ／Ａ・時以下でコバルトの電着率は８
０％以上となり、１００ｍｌ／Ａ・時以上では５０％以
下となる。この結果第１段電解におけるコバルト濃度が
１．５ｍｇ／ｌ以下であれば、第２段電解給液コバルト
濃度は概ね０．２５ｍｇ／ｌ以下となり、超高純度ニッ
ケルの製造が可能となる。第２段電解給液コバルト濃度
が０．２５ｍｇ／ｌ以上となる場合は第１段電解給液速
度を少なめに設定すれば良い。
存することを見出だしたことに基づいている。即ち給液
速度が１００ｍｌ／Ａ・時以下でコバルトの電着率は８
０％以上となり、１００ｍｌ／Ａ・時以上では５０％以
下となる。この結果第１段電解におけるコバルト濃度が
１．５ｍｇ／ｌ以下であれば、第２段電解給液コバルト
濃度は概ね０．２５ｍｇ／ｌ以下となり、超高純度ニッ
ケルの製造が可能となる。第２段電解給液コバルト濃度
が０．２５ｍｇ／ｌ以上となる場合は第１段電解給液速
度を少なめに設定すれば良い。
【００１４】第１段電解におけるコバルト濃度が１．５
ｍｇ／ｌを超えると第２段電解におけるコバルト濃度が
０．２５ｍｇ／ｌを超え、超高純度ニッケルが得られな
くなる。又、第１段電解におけるコバルト濃度を０．５
ｍｇ／ｌ以下とするには炭酸ニッケル使用量が増し、ニ
ッケル沈殿量も増すので好ましくなく、０．５〜１．５
ｍｇ／ｌが適当である。
ｍｇ／ｌを超えると第２段電解におけるコバルト濃度が
０．２５ｍｇ／ｌを超え、超高純度ニッケルが得られな
くなる。又、第１段電解におけるコバルト濃度を０．５
ｍｇ／ｌ以下とするには炭酸ニッケル使用量が増し、ニ
ッケル沈殿量も増すので好ましくなく、０．５〜１．５
ｍｇ／ｌが適当である。
【００１５】一方電解操作においてカソード電流効率も
重要で、このカソード電流効率は電解液中のニッケル濃
度に比例する。この電解液中のニッケル濃度は、給液速
度が小さい程速かに低下するので給液速度をあまり小さ
くするのは好ましくない。このためニッケル濃度低下量
が１５ｇ／ｌを超えないように給液速度を７０ｍｌ／Ａ
・時以上とするのが望ましく、従って第１段電解におけ
る給液速度は７０〜１００ｍｌ／Ａ・時とするのが良
い。
重要で、このカソード電流効率は電解液中のニッケル濃
度に比例する。この電解液中のニッケル濃度は、給液速
度が小さい程速かに低下するので給液速度をあまり小さ
くするのは好ましくない。このためニッケル濃度低下量
が１５ｇ／ｌを超えないように給液速度を７０ｍｌ／Ａ
・時以上とするのが望ましく、従って第１段電解におけ
る給液速度は７０〜１００ｍｌ／Ａ・時とするのが良
い。
【００１６】第１段電解における給液速度を７０〜１０
０ｍｌ／Ａ・時とすると、電解液中のニッケル濃度が６
０ｇ／ｌ以下ではカソード電流効率は９０％以下に急激
に低下し、６０ｇ／ｌ以上ではカソード電流効率は９０
〜９２％の範囲で漸増する。従って高純度ニッケルのみ
を製造する場合はニッケル濃度を６０ｇ／ｌ以上に維持
すれば十分である。しかしながら、その廃液を用いる第
２段の電解ではニッケル濃度が４５〜５０ｇ／ｌとな
り、給液速度を１００ｍｌ／Ａ・時以上としてもカソー
ド電流効率は８０％程度に低下することになる。この第
２段の電解におけるカソード電流効率を８５％以上に維
持するにはニッケル濃度は最低５５ｇ／ｌは必要で、こ
のため第１段電解槽給液ニッケル濃度は６５ｇ／ｌ以上
とする必要がある。ニッケル濃度は高い方がカソード電
流効率の点から好ましいが、無闇に高くする必要はな
く、８０ｇ／ｌ程度を上限とするのが良い。
０ｍｌ／Ａ・時とすると、電解液中のニッケル濃度が６
０ｇ／ｌ以下ではカソード電流効率は９０％以下に急激
に低下し、６０ｇ／ｌ以上ではカソード電流効率は９０
〜９２％の範囲で漸増する。従って高純度ニッケルのみ
を製造する場合はニッケル濃度を６０ｇ／ｌ以上に維持
すれば十分である。しかしながら、その廃液を用いる第
２段の電解ではニッケル濃度が４５〜５０ｇ／ｌとな
り、給液速度を１００ｍｌ／Ａ・時以上としてもカソー
ド電流効率は８０％程度に低下することになる。この第
２段の電解におけるカソード電流効率を８５％以上に維
持するにはニッケル濃度は最低５５ｇ／ｌは必要で、こ
のため第１段電解槽給液ニッケル濃度は６５ｇ／ｌ以上
とする必要がある。ニッケル濃度は高い方がカソード電
流効率の点から好ましいが、無闇に高くする必要はな
く、８０ｇ／ｌ程度を上限とするのが良い。
【００１７】第２段電解槽には第１段電解槽の廃液を真
空脱気して溶存塩素量を０．０１ｇ／ｌ以下とし、ｐＨ
を１．１〜１．８に調整して１００〜１５０ｍｌ／Ａ・
時の割合で給液する。第２段電解槽への給液溶存塩素量
を０．０１ｇ／ｌ以下とするのは、カソードにおける塩
素の還元反応による電流効率の低下を防止するためであ
る。
空脱気して溶存塩素量を０．０１ｇ／ｌ以下とし、ｐＨ
を１．１〜１．８に調整して１００〜１５０ｍｌ／Ａ・
時の割合で給液する。第２段電解槽への給液溶存塩素量
を０．０１ｇ／ｌ以下とするのは、カソードにおける塩
素の還元反応による電流効率の低下を防止するためであ
る。
【００１８】又、カソード電流効率は電解液のｐＨに正
比例の関係にあり、カソード電流効率を９０％以上に維
持するにはｐＨを１．１以上にする必要がある。但しｐ
Ｈが１．８を超えるとアノードにおける塩素発生効率が
著しく悪化する恐れがあり、ｐＨの適当な範囲は１．１
〜１．８である。
比例の関係にあり、カソード電流効率を９０％以上に維
持するにはｐＨを１．１以上にする必要がある。但しｐ
Ｈが１．８を超えるとアノードにおける塩素発生効率が
著しく悪化する恐れがあり、ｐＨの適当な範囲は１．１
〜１．８である。
【００１９】第２段電解槽への給液速度は、前記のよう
にコバルト電着率を抑制するため、１００ｍｌ／Ａ・時
以上とされる。給液速度は大きい程好ましいが、必要以
上に大きくするのは経済的でなく、１５０ｍｌ／Ａ・時
程度を上限とするのが良い。第１段電解槽と第２段電解
槽の給液速度のアンバランスは、第１段電解槽の数を第
２段電解槽の数より多くすることにより容易に解消す
る。
にコバルト電着率を抑制するため、１００ｍｌ／Ａ・時
以上とされる。給液速度は大きい程好ましいが、必要以
上に大きくするのは経済的でなく、１５０ｍｌ／Ａ・時
程度を上限とするのが良い。第１段電解槽と第２段電解
槽の給液速度のアンバランスは、第１段電解槽の数を第
２段電解槽の数より多くすることにより容易に解消す
る。
【００２０】第１段電解槽及び第２段電解槽の廃液はニ
ッケルマットの塩素浸出に繰り返し、又はコバルト除去
用の炭酸ニッケル製造原料に用いることもできる。
ッケルマットの塩素浸出に繰り返し、又はコバルト除去
用の炭酸ニッケル製造原料に用いることもできる。
【００２１】
【実施例】容積７立方メートルの電解槽を２槽用意して
第１段電解槽及び第２段電解槽とし、２槽夫々にチタン
製の網に白金族金属の導電性酸化物を被覆した、７４０
ｍｍ幅、９４０ｍｍ長さの不溶性アノード３７枚を、通
気度０．５ｍｌ／秒・ｃｍ2 のテトロンろ布を張ったア
ノードボックスに収容してセットし、第１段の電解槽に
は高純度ニッケルのカソード３６枚をセットし、第２段
の電解槽には超高純度ニッケルのカソード３６枚をセッ
トして電解採取実験に供した。ニッケルカソードの寸法
は何れも７８７ｍｍ幅、９８７ｍｍ長さとした。
第１段電解槽及び第２段電解槽とし、２槽夫々にチタン
製の網に白金族金属の導電性酸化物を被覆した、７４０
ｍｍ幅、９４０ｍｍ長さの不溶性アノード３７枚を、通
気度０．５ｍｌ／秒・ｃｍ2 のテトロンろ布を張ったア
ノードボックスに収容してセットし、第１段の電解槽に
は高純度ニッケルのカソード３６枚をセットし、第２段
の電解槽には超高純度ニッケルのカソード３６枚をセッ
トして電解採取実験に供した。ニッケルカソードの寸法
は何れも７８７ｍｍ幅、９８７ｍｍ長さとした。
【００２２】実験は表１に示すように第１段電解槽及び
第２段電解槽の給液速度、ニッケル濃度、コバルト濃度
等を種々変えて行った。尚第１段電解給液のｐＨは１．
１５で一定とし、第１段電解の廃液は−６００ｍｍＨｇ
で１分間滞留する脱塩素処理を行い、溶存塩素量を０．
０１ｇ／ｌとした。電解温度は５０〜５５℃、電解電流
は各槽共１４，０００Ａ・時とした。
第２段電解槽の給液速度、ニッケル濃度、コバルト濃度
等を種々変えて行った。尚第１段電解給液のｐＨは１．
１５で一定とし、第１段電解の廃液は−６００ｍｍＨｇ
で１分間滞留する脱塩素処理を行い、溶存塩素量を０．
０１ｇ／ｌとした。電解温度は５０〜５５℃、電解電流
は各槽共１４，０００Ａ・時とした。
【００２３】
【表１】
【００２４】実験結果を表１にまとめて示す。表１にお
いて、実験Ｎｏ．１は第１段電解給液速度が１００ｍｌ
／Ａ・時ではコバルト濃度１．５ｍｇ／ｌに対して除去
率が８０％を下回り、その結果第２段電解給液のコバル
ト濃度が０．２５ｍｇ／ｌを超え、電着ニッケル中のコ
バルトが１０ｐｐｍを超えたことを示している。
いて、実験Ｎｏ．１は第１段電解給液速度が１００ｍｌ
／Ａ・時ではコバルト濃度１．５ｍｇ／ｌに対して除去
率が８０％を下回り、その結果第２段電解給液のコバル
ト濃度が０．２５ｍｇ／ｌを超え、電着ニッケル中のコ
バルトが１０ｐｐｍを超えたことを示している。
【００２５】実験Ｎｏ．２はこの第１段電解給液速度を
７０ｍｌ／Ａ・時とすることでコバルト除去率が上昇
し、第２段電解給液のコバルト濃度が０．２５ｍｇ／ｌ
以下となり、電着ニッケル中のコバルトが１０ｐｐｍ以
下になることを示している。
７０ｍｌ／Ａ・時とすることでコバルト除去率が上昇
し、第２段電解給液のコバルト濃度が０．２５ｍｇ／ｌ
以下となり、電着ニッケル中のコバルトが１０ｐｐｍ以
下になることを示している。
【００２６】実験Ｎｏ．３〜６では何れも第２段電解で
超高純度ニッケルが得られており、実験Ｎｏ．１〜６を
通じてカソード電流効率は９０％以上であることが判
る。
超高純度ニッケルが得られており、実験Ｎｏ．１〜６を
通じてカソード電流効率は９０％以上であることが判
る。
【００２７】
【発明の効果】本発明により設備に格別の投資をするこ
となく、又浄液コストを大幅に上昇させることなく、経
済的に高純度ニッケルと超高純度ニッケルを製造するこ
とが可能になった。
となく、又浄液コストを大幅に上昇させることなく、経
済的に高純度ニッケルと超高純度ニッケルを製造するこ
とが可能になった。
Claims (1)
- 【請求項１】 電解槽に純塩化ニッケル水溶液を給液
し、該電解液中に不溶性アノードとニッケルカソードを
吊り下げて通電し、該電解液から金属ニッケルをカソー
ド上に電着せしめる高純度ニッケルの製造方法におい
て、電解槽を第１段電解槽と第２段電解槽とに分け、第
１段電解槽にはニッケル濃度が６５ｇ／ｌ以上、コバル
ト濃度が１．５ｍｇ／ｌ以下の塩化ニッケル水溶液を７
０〜１００ｍｌ／Ａ・時の割合で給液し、第２段電解槽
にはコバルト濃度が０．２５ｍｇ／ｌ以下となった第１
段電解槽の廃液を真空脱気して溶存塩素量を０．０１ｇ
／ｌ以下とし、ｐＨを１．１〜１．８に調整して１００
〜１５０ｍｌ／Ａ・時の割合で給液して夫々電解し、第
１段電解槽では高純度の金属ニッケルを、第２段電解槽
では超高純度の金属ニッケルを得る高純度ニッケルの製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4311078A JP2570076B2 (ja) | 1992-10-28 | 1992-10-28 | 高純度ニッケルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4311078A JP2570076B2 (ja) | 1992-10-28 | 1992-10-28 | 高純度ニッケルの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06136584A true JPH06136584A (ja) | 1994-05-17 |
| JP2570076B2 JP2570076B2 (ja) | 1997-01-08 |
Family
ID=18012859
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4311078A Expired - Fee Related JP2570076B2 (ja) | 1992-10-28 | 1992-10-28 | 高純度ニッケルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2570076B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006010305A1 (fr) * | 2004-07-28 | 2006-02-02 | Jinchuan Group Ltd. | Procede d'obtention d'un nickel de grande purete |
| CN105441974A (zh) * | 2015-11-20 | 2016-03-30 | 金川集团股份有限公司 | 一种生产电积镍的方法 |
-
1992
- 1992-10-28 JP JP4311078A patent/JP2570076B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006010305A1 (fr) * | 2004-07-28 | 2006-02-02 | Jinchuan Group Ltd. | Procede d'obtention d'un nickel de grande purete |
| CN105441974A (zh) * | 2015-11-20 | 2016-03-30 | 金川集团股份有限公司 | 一种生产电积镍的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2570076B2 (ja) | 1997-01-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP2268852B1 (en) | Electrochemical process for the recovery of metallic iron and sulfuric acid values from iron-rich sulfate wastes, mining residues and pickling liquors | |
| JP2014501850A (ja) | チオ硫酸塩溶液からの金および銀の電気的回収 | |
| JP3913725B2 (ja) | 高純度電気銅及びその製造方法 | |
| JP6524973B2 (ja) | 高純度Ｉｎ及びその製造方法 | |
| JP2003247089A (ja) | インジウムの回収方法 | |
| CN107815540A (zh) | 一种湿法冶炼金属镍钴及其盐类产品的方法 | |
| JPS6327434B2 (ja) | ||
| JP3825983B2 (ja) | 金属の高純度化方法 | |
| JP6985678B2 (ja) | 低品位銅アノードの電解精錬方法およびそれに用いる電解液 | |
| JP4501726B2 (ja) | 酸性塩化物水溶液からの鉄の電解採取方法 | |
| JP3882608B2 (ja) | 高純度錫の電解精製方法とその装置 | |
| KR101397743B1 (ko) | 고순도 니켈의 제조 방법 | |
| JP2570076B2 (ja) | 高純度ニッケルの製造方法 | |
| JP2012172194A (ja) | 電解装置およびそれを用いた電解採取方法 | |
| JP3878402B2 (ja) | 金属の高純度化方法 | |
| JP3163612B2 (ja) | 塩化物浴からの脱銅電解法 | |
| US2839461A (en) | Electrolytic recovery of nickel | |
| JPH06192874A (ja) | コバルトの精製方法 | |
| JP2020055728A (ja) | 硫酸溶液の製造方法 | |
| JPS6363637B2 (ja) | ||
| JP2012092447A (ja) | コバルトの電解採取方法 | |
| JPH06322575A (ja) | 硫黄含有電気ニッケルの製造方法 | |
| CN114517309B (zh) | 一种镍电解生产系统中补镍、脱铜的方法 | |
| US2966407A (en) | Electrolytic recovery of nickel | |
| JP2010007133A (ja) | 金属インジウム製造方法及び装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081024 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081024 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091024 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091024 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101024 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111024 Year of fee payment: 15 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111024 Year of fee payment: 15 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121024 Year of fee payment: 16 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |