JPH06132200A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JPH06132200A JPH06132200A JP4280319A JP28031992A JPH06132200A JP H06132200 A JPH06132200 A JP H06132200A JP 4280319 A JP4280319 A JP 4280319A JP 28031992 A JP28031992 A JP 28031992A JP H06132200 A JPH06132200 A JP H06132200A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 露光装置に係り、窓部とマスク部材との相互
間隙を低減して、ＳＯＲ光の減衰の低減を図る。 【構成】 ビームラインに弾性部材を介して移動自在に
取り付けられる窓部と、被転写部材を支持する被転写部
材支持部と、これら被転写部材支持部と窓部との間に平
行間隔を空けて配置されマスク部材と、マスク部材と被
転写部材支持部とを連結する第１の連結手段と、マスク
部材と窓部とを連結する第２の連結手段と、連結された
窓部、マスク部材、被転写部材支持部を放射光に交差す
る方向に移動させる移動手段とを具備しており、マスク
部材と窓部とを連結してその間隔寸法を最小限に抑制す
る。
間隙を低減して、ＳＯＲ光の減衰の低減を図る。 【構成】 ビームラインに弾性部材を介して移動自在に
取り付けられる窓部と、被転写部材を支持する被転写部
材支持部と、これら被転写部材支持部と窓部との間に平
行間隔を空けて配置されマスク部材と、マスク部材と被
転写部材支持部とを連結する第１の連結手段と、マスク
部材と窓部とを連結する第２の連結手段と、連結された
窓部、マスク部材、被転写部材支持部を放射光に交差す
る方向に移動させる移動手段とを具備しており、マスク
部材と窓部とを連結してその間隔寸法を最小限に抑制す
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、シンクロトロン等の粒
子加速器のビームラインの端部に備えられ放射光（シン
クロトロン放射光、以下、ＳＯＲ光という）によりシリ
コンウェーハに超ＬＳＩ回路の回路パターンを転写する
ための露光装置に関するものである。
子加速器のビームラインの端部に備えられ放射光（シン
クロトロン放射光、以下、ＳＯＲ光という）によりシリ
コンウェーハに超ＬＳＩ回路の回路パターンを転写する
ための露光装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、直径が１０ｍ以下の比較的小型の
粒子加速器としてシンクロトロンが開発されつつあり、
そのようなシンクロトロンから放射される放射光である
ＳＯＲ光を利用して、例えば、超ＬＳＩ回路の製造、医
療分野における診断、分子解析、構造解析等の様々な分
野への適用が期待されている。
粒子加速器としてシンクロトロンが開発されつつあり、
そのようなシンクロトロンから放射される放射光である
ＳＯＲ光を利用して、例えば、超ＬＳＩ回路の製造、医
療分野における診断、分子解析、構造解析等の様々な分
野への適用が期待されている。
【０００３】図２は、シンクロトロンの概要を示すもの
であって、電子銃等の電子発生装置１で発生させた電子
ビームを直線加速器（ライナック）２で光速近くに加速
し、偏向電磁石３で偏向させてインフレクタ４を介して
真空ダクトからなる蓄積リング５に入射させる。蓄積リ
ング５に入射した電子ビームは高周波加速空洞６により
エネルギを与えられながら収束電磁石７で収束され、偏
向電磁石８で偏向されて蓄積リング５内を周回し続け
る。そして、偏向電磁石８で偏向される際にＳＯＲ光Ｓ
が放射され、それがＳＯＲ光取り出しラインであるビー
ムライン９を介して例えば露光装置１０に出射されて利
用されるのである。
であって、電子銃等の電子発生装置１で発生させた電子
ビームを直線加速器（ライナック）２で光速近くに加速
し、偏向電磁石３で偏向させてインフレクタ４を介して
真空ダクトからなる蓄積リング５に入射させる。蓄積リ
ング５に入射した電子ビームは高周波加速空洞６により
エネルギを与えられながら収束電磁石７で収束され、偏
向電磁石８で偏向されて蓄積リング５内を周回し続け
る。そして、偏向電磁石８で偏向される際にＳＯＲ光Ｓ
が放射され、それがＳＯＲ光取り出しラインであるビー
ムライン９を介して例えば露光装置１０に出射されて利
用されるのである。
【０００４】従来、露光装置１０としては、図３に示す
構造のものが知られている。この露光装置１０は、水平
状態に固定されたビームライン９の端部に配設された出
射用窓１１と、該出射用窓１１に平行間隔を空けて垂直
に配されるテーブル１２ａを有するウェーハ移動手段１
２と、該ウェーハ移動手段１２と前記出射用窓１１との
間に配されるマスク部材１３とを有している。
構造のものが知られている。この露光装置１０は、水平
状態に固定されたビームライン９の端部に配設された出
射用窓１１と、該出射用窓１１に平行間隔を空けて垂直
に配されるテーブル１２ａを有するウェーハ移動手段１
２と、該ウェーハ移動手段１２と前記出射用窓１１との
間に配されるマスク部材１３とを有している。
【０００５】前記出射用窓１１は、ビームライン９の端
部を閉塞状態に配される窓であって、超高真空状態のビ
ームライン９内部と大気圧または低真空状態の露光雰囲
気とを遮断しながら、ＳＯＲ光Ｓを透過させてビームラ
イン９外部に出射させる働きを有するものである。そし
て該出射用窓１１としては、ＳＯＲ光Ｓの透過率が高
く、かつ、機械的強度が高いベリリウム製等の薄板が一
般に使用されている。
部を閉塞状態に配される窓であって、超高真空状態のビ
ームライン９内部と大気圧または低真空状態の露光雰囲
気とを遮断しながら、ＳＯＲ光Ｓを透過させてビームラ
イン９外部に出射させる働きを有するものである。そし
て該出射用窓１１としては、ＳＯＲ光Ｓの透過率が高
く、かつ、機械的強度が高いベリリウム製等の薄板が一
般に使用されている。
【０００６】前記ウェーハ移動手段１２は、板状のシリ
コンウェーハＷを吸着し前記出射用窓１１に対して平行
状態に保持するテーブル１２ａと、該テーブル１２ａを
垂直平面内で移動させるテーブル移動機構１４とを具備
している。該テーブル移動機構１４は、テーブル１２ａ
を直交する２方向に独立に移動可能な２つの直線移動機
構１５よりなり、該直線移動機構１５は、例えば、モー
タ１５ａ、ボールネジ１５ｂ、および、これに螺合する
ナット１５ｃより構成されている。図３において、符号
１５ｄはボールネジ１５ｃを支持するホルダー、符号１
５ｅは直線ガイドである。
コンウェーハＷを吸着し前記出射用窓１１に対して平行
状態に保持するテーブル１２ａと、該テーブル１２ａを
垂直平面内で移動させるテーブル移動機構１４とを具備
している。該テーブル移動機構１４は、テーブル１２ａ
を直交する２方向に独立に移動可能な２つの直線移動機
構１５よりなり、該直線移動機構１５は、例えば、モー
タ１５ａ、ボールネジ１５ｂ、および、これに螺合する
ナット１５ｃより構成されている。図３において、符号
１５ｄはボールネジ１５ｃを支持するホルダー、符号１
５ｅは直線ガイドである。
【０００７】前記マスク部材１３は、例えば、シリコン
メンブレインとその表面に電解メッキ法等により形成さ
れるＡｕ吸収体パターン（回路パターン）とからなり、
該マスク部材１３を透過したＳＯＲ光Ｓは、該マスク部
材１３の回路パターンをシリコンウェーハＷ上に転写す
るようになっている。このマスク部材１３は、ウェーハ
移動手段１２のテーブル１２ａに、例えば、真空吸着手
段１６によって連結され、シリコンウェーハＷとの間隔
寸法を数１０μｍ程度に保持されるとともに、前記テー
ブル移動機構１４の作動によって、シリコンウェーハＷ
と一体的に移動させられるようになっている。
メンブレインとその表面に電解メッキ法等により形成さ
れるＡｕ吸収体パターン（回路パターン）とからなり、
該マスク部材１３を透過したＳＯＲ光Ｓは、該マスク部
材１３の回路パターンをシリコンウェーハＷ上に転写す
るようになっている。このマスク部材１３は、ウェーハ
移動手段１２のテーブル１２ａに、例えば、真空吸着手
段１６によって連結され、シリコンウェーハＷとの間隔
寸法を数１０μｍ程度に保持されるとともに、前記テー
ブル移動機構１４の作動によって、シリコンウェーハＷ
と一体的に移動させられるようになっている。
【０００８】このように、構成された露光装置１０によ
って、マスク部材１３の回路パターンをシリコンウェー
ハＷ上に転写（露光）するには、蓄積リング５から発せ
られるＳＯＲ光Ｓをビームライン９の先端の出射用窓１
１から出射させる。これとともに、真空吸着手段１６を
作動させて負圧によりマスク部材１３とシリコンウェー
ハＷとを一体的に連結したものを、テーブル移動機構１
４を作動させることにより、垂直面内で移動させる。こ
れにより、固定されたＳＯＲ光Ｓに対してマスク部材１
３・シリコンウェーハＷが移動させられ、ＳＯＲ光Ｓが
マスク部材１３を全面に亘って走査することになるとと
もに、マスク部材１３を透過したＳＯＲ光Ｓがシリコン
ウェーハＷに照射され、回路パターンがシリコンウェー
ハＷ上に転写されることになる。
って、マスク部材１３の回路パターンをシリコンウェー
ハＷ上に転写（露光）するには、蓄積リング５から発せ
られるＳＯＲ光Ｓをビームライン９の先端の出射用窓１
１から出射させる。これとともに、真空吸着手段１６を
作動させて負圧によりマスク部材１３とシリコンウェー
ハＷとを一体的に連結したものを、テーブル移動機構１
４を作動させることにより、垂直面内で移動させる。こ
れにより、固定されたＳＯＲ光Ｓに対してマスク部材１
３・シリコンウェーハＷが移動させられ、ＳＯＲ光Ｓが
マスク部材１３を全面に亘って走査することになるとと
もに、マスク部材１３を透過したＳＯＲ光Ｓがシリコン
ウェーハＷに照射され、回路パターンがシリコンウェー
ハＷ上に転写されることになる。
【０００９】また、露光を終了したシリコンウェーハＷ
を次なるシリコンウェーハＷに交換するときには、前記
真空吸着手段１６に正圧を送り込んで、ウェーハ移動手
段１２のテーブル１２ａからマスク部材１３を切り離
し、かつ、空気ベアリングとして使用することにより、
マスク部材１３とテーブル１２ａとの相対変位が容易な
ものとなるようにしている。
を次なるシリコンウェーハＷに交換するときには、前記
真空吸着手段１６に正圧を送り込んで、ウェーハ移動手
段１２のテーブル１２ａからマスク部材１３を切り離
し、かつ、空気ベアリングとして使用することにより、
マスク部材１３とテーブル１２ａとの相対変位が容易な
ものとなるようにしている。
【００１０】
【発明が解決しようとする問題点】しかしながら、上記
のようにして、露光を行う露光装置１０にあっては、固
定されたビームライン９に対して、マスク部材１３とシ
リコンウェーハＷとを一体的に連結したものを移動させ
るために、出射用窓１１とマスク部材１３との相互間隙
を小さくすること、例えば、マスク部材１３とシリコン
ウェーハＷとの相互間隙（数１０μｍ）程度に近接させ
ることが困難であった。このため、出射用窓１１から出
射したＳＯＲ光Ｓは、該出射用窓１１とマスク部材１３
との相互間隙において減衰し、特に、露光雰囲気が大気
状態である場合にはその減衰が大きいために、露光強度
が不足して、精密な回路パターンの転写を実施すること
が困難になるという問題点があった。
のようにして、露光を行う露光装置１０にあっては、固
定されたビームライン９に対して、マスク部材１３とシ
リコンウェーハＷとを一体的に連結したものを移動させ
るために、出射用窓１１とマスク部材１３との相互間隙
を小さくすること、例えば、マスク部材１３とシリコン
ウェーハＷとの相互間隙（数１０μｍ）程度に近接させ
ることが困難であった。このため、出射用窓１１から出
射したＳＯＲ光Ｓは、該出射用窓１１とマスク部材１３
との相互間隙において減衰し、特に、露光雰囲気が大気
状態である場合にはその減衰が大きいために、露光強度
が不足して、精密な回路パターンの転写を実施すること
が困難になるという問題点があった。
【００１１】本発明は、上述した事情に鑑みてなされた
ものであって、出射用窓１１とマスク部材１３との相互
間隙を低減して、ＳＯＲ光Ｓの減衰を低減する露光装置
を提供することを目的としている。
ものであって、出射用窓１１とマスク部材１３との相互
間隙を低減して、ＳＯＲ光Ｓの減衰を低減する露光装置
を提供することを目的としている。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、シンクロトロン等の粒子加速器における
ビームラインの端部に配置され蓄積リングから出射され
てくる放射光により被転写部材に露光パターンを転写す
る露光装置であって、前記ビームラインに弾性部材を介
して移動自在に取り付けられ前記放射光を透過させる窓
部と、該窓部に間隔を空けて平行に配置され前記被転写
部材を支持する被転写部材支持部と、該被転写部材支持
部と窓部との間に平行間隔を空けて配置され窓部から出
射される放射光を露光パターンに合わせて透過させるマ
スク部材と、該マスク部材と被転写部材支持部とを連結
する第１の連結手段と、マスク部材と窓部とを連結する
第２の連結手段と、これら連結手段によって連結された
窓部、マスク部材、被転写部材支持部を放射光に交差す
る方向に移動させる移動手段とを具備する露光装置を提
案している。
に、本発明は、シンクロトロン等の粒子加速器における
ビームラインの端部に配置され蓄積リングから出射され
てくる放射光により被転写部材に露光パターンを転写す
る露光装置であって、前記ビームラインに弾性部材を介
して移動自在に取り付けられ前記放射光を透過させる窓
部と、該窓部に間隔を空けて平行に配置され前記被転写
部材を支持する被転写部材支持部と、該被転写部材支持
部と窓部との間に平行間隔を空けて配置され窓部から出
射される放射光を露光パターンに合わせて透過させるマ
スク部材と、該マスク部材と被転写部材支持部とを連結
する第１の連結手段と、マスク部材と窓部とを連結する
第２の連結手段と、これら連結手段によって連結された
窓部、マスク部材、被転写部材支持部を放射光に交差す
る方向に移動させる移動手段とを具備する露光装置を提
案している。
【００１３】
【作用】本発明の露光装置によれば、マスク部材と被転
写部材支持部とが第１の連結手段によって連結され、か
つ、窓部とマスク部材とが第２の連結手段によって連結
されており、窓部は、弾性部材を介してビームラインに
取り付けられているので、移動手段を作動させることに
より、弾性部材が弾性変形して、窓部、マスク部材、被
転写部材が一体的に移動させられる。したがって、窓部
とマスク部材との間に相対速度が発生しないので、これ
ら窓部とマスク部材との相互間隙を低減させることが可
能となる。
写部材支持部とが第１の連結手段によって連結され、か
つ、窓部とマスク部材とが第２の連結手段によって連結
されており、窓部は、弾性部材を介してビームラインに
取り付けられているので、移動手段を作動させることに
より、弾性部材が弾性変形して、窓部、マスク部材、被
転写部材が一体的に移動させられる。したがって、窓部
とマスク部材との間に相対速度が発生しないので、これ
ら窓部とマスク部材との相互間隙を低減させることが可
能となる。
【００１４】
【実施例】以下、本発明に係る露光装置の一実施例につ
いて、図１を参照して説明する。なお、本実施例の露光
装置２０にあって、図３に示した従来の露光装置１０と
構成を共通とする箇所に同一符号を付し、説明を簡略化
する。
いて、図１を参照して説明する。なお、本実施例の露光
装置２０にあって、図３に示した従来の露光装置１０と
構成を共通とする箇所に同一符号を付し、説明を簡略化
する。
【００１５】本実施例の露光装置２０は、水平なビーム
ライン９の端部に配される出射用窓１１（窓部）と、該
出射用窓１１に平行間隔を空けて配されるテーブル１２
ａ（被転写部材支持部）に取り付けられたシリコンウェ
ーハＷ（被転写部材）を垂直面内で移動させるウェーハ
移動手段１２（移動手段）と、シリコンウェーハＷと出
射用窓１１との相互間隙に、両者に平行間隔を空けて配
されるマスク部材１３と、該マスク部材１３とテーブル
１２ａとを連結する真空吸着手段１６（第１の連結手
段）とを具備している点で、従来の露光装置１０と共通
している。しかし、本実施例の露光装置２０は、マスク
部材１３と出射用窓１１とを連結する真空吸着手段２１
（第２の連結手段）を有し、出射用窓１１が、ベローズ
２２（弾性部材）を介してビームライン９に取り付けら
れている点で、従来の露光装置１０と相違している。
ライン９の端部に配される出射用窓１１（窓部）と、該
出射用窓１１に平行間隔を空けて配されるテーブル１２
ａ（被転写部材支持部）に取り付けられたシリコンウェ
ーハＷ（被転写部材）を垂直面内で移動させるウェーハ
移動手段１２（移動手段）と、シリコンウェーハＷと出
射用窓１１との相互間隙に、両者に平行間隔を空けて配
されるマスク部材１３と、該マスク部材１３とテーブル
１２ａとを連結する真空吸着手段１６（第１の連結手
段）とを具備している点で、従来の露光装置１０と共通
している。しかし、本実施例の露光装置２０は、マスク
部材１３と出射用窓１１とを連結する真空吸着手段２１
（第２の連結手段）を有し、出射用窓１１が、ベローズ
２２（弾性部材）を介してビームライン９に取り付けら
れている点で、従来の露光装置１０と相違している。
【００１６】該真空吸着手段２１は、前記真空吸着手段
１６と同様、負圧によって出射用窓１１とマスク部材１
３とを連結するようになっている。そして、該真空吸着
手段２１を作動させることによって、出射用窓１１とマ
スク部材１３との相互間隙が数１０μｍ程度となるよう
に構成されている。
１６と同様、負圧によって出射用窓１１とマスク部材１
３とを連結するようになっている。そして、該真空吸着
手段２１を作動させることによって、出射用窓１１とマ
スク部材１３との相互間隙が数１０μｍ程度となるよう
に構成されている。
【００１７】前記ベローズ２２は、ビームライン９の端
部に、図１に示すように２つ直列に配設され、該ベロー
ズ２２を介してビームライン９に取り付けられた出射用
窓１１を、少なくとも露光範囲内において移動自在に配
するとともに、ビームライン９内の超高真空状態を保持
することができるようになっている。
部に、図１に示すように２つ直列に配設され、該ベロー
ズ２２を介してビームライン９に取り付けられた出射用
窓１１を、少なくとも露光範囲内において移動自在に配
するとともに、ビームライン９内の超高真空状態を保持
することができるようになっている。
【００１８】このように構成された露光装置２０を使用
して、マスク部材１３の回路パターン（露光パターン）
をシリコンウェーハＷに転写するには、テーブル１２ａ
にシリコンウェーハＷを吸着させるとともに、テーブル
１２ａとマスク部材１３、マスク部材１３と出射用窓１
１とをそれぞれ真空吸着手段１６・２１によって固定す
る。このとき、テーブル１２ａとマスク部材１３間、マ
スク部材１３と出射用窓１１間の相互間隙寸法は、それ
ぞれ数１０μｍ程度に設定される。
して、マスク部材１３の回路パターン（露光パターン）
をシリコンウェーハＷに転写するには、テーブル１２ａ
にシリコンウェーハＷを吸着させるとともに、テーブル
１２ａとマスク部材１３、マスク部材１３と出射用窓１
１とをそれぞれ真空吸着手段１６・２１によって固定す
る。このとき、テーブル１２ａとマスク部材１３間、マ
スク部材１３と出射用窓１１間の相互間隙寸法は、それ
ぞれ数１０μｍ程度に設定される。
【００１９】この状態で、ビームライン９の出射用窓１
１からＳＯＲ光Ｓを出射させるとともに、ウェーハ移動
手段１２を作動させ、露光範囲の全面に亘ってマスク部
材１３にＳＯＲ光Ｓを透過させることにより、マスク部
材１３の回路パターンがシリコンウェーハＷの表面に転
写されることになる。
１からＳＯＲ光Ｓを出射させるとともに、ウェーハ移動
手段１２を作動させ、露光範囲の全面に亘ってマスク部
材１３にＳＯＲ光Ｓを透過させることにより、マスク部
材１３の回路パターンがシリコンウェーハＷの表面に転
写されることになる。
【００２０】また、シリコンウェーハＷを交換すると
き、または、マスク部材１３を交換するときには、それ
ぞれ真空吸着手段１６・２１に正圧を送ることにより、
マスク部材１３とシリコンウェーハＷ、マスク部材１３
と出射用窓１１とを切り離し、相互に相対移動すること
ができるようにすればよい。
き、または、マスク部材１３を交換するときには、それ
ぞれ真空吸着手段１６・２１に正圧を送ることにより、
マスク部材１３とシリコンウェーハＷ、マスク部材１３
と出射用窓１１とを切り離し、相互に相対移動すること
ができるようにすればよい。
【００２１】このように、本実施例の露光装置２０によ
れば、ＳＯＲ光Ｓに対して移動させられるマスク部材１
３と出射用窓１１とを連結しているので、該マスク部材
１３と出射用窓１１との相互間隙寸法を最小限に設定す
ることが可能となり、出射用窓１１から出射させられる
ＳＯＲ光Ｓの減衰を最低限に抑制することができる。そ
の結果、露光強度の高いＳＯＲ光Ｓがマスク部材１３を
透過してシリコンウェーハＷに照射されるので、より精
密な回路パターンをも転写することができるという効果
がある。
れば、ＳＯＲ光Ｓに対して移動させられるマスク部材１
３と出射用窓１１とを連結しているので、該マスク部材
１３と出射用窓１１との相互間隙寸法を最小限に設定す
ることが可能となり、出射用窓１１から出射させられる
ＳＯＲ光Ｓの減衰を最低限に抑制することができる。そ
の結果、露光強度の高いＳＯＲ光Ｓがマスク部材１３を
透過してシリコンウェーハＷに照射されるので、より精
密な回路パターンをも転写することができるという効果
がある。
【００２２】なお、本発明の露光装置２０にあっては、
以下の技術を採用することができる。 弾性部材としてベローズ２２を使用したが、これに
代えて、ビームライン９内部の超高真空を保持しつつ出
射用窓１１を移動させることができる他の弾性部材、例
えば、ゴム製の筒状部材とすること。 マスク部材１３と出射用窓１１とを連結する第２の
連結手段として、着脱可能な真空吸着手段２１を使用し
たが、これに代えて、他の連結手段を使用すること。例
えば、マスク部材１３の交換が頻繁に行われない場合に
は、マスク部材１３と出射用窓１１とを確実に固定する
ボルト・ナット等の締結具とすること。 移動手段として、シリコンウェーハＷを固定したテ
ーブル１２ａを移動させる直線移動機構１５を使用した
が、これに代えて、または、これとは別の移動手段を設
けること。 直線移動機構１５としてモータ１５ａ、ボールネジ
１５ｂ、ナット１５ｃ等からなるものを採用したが、こ
れに代えて、シリンダ等、他のアクチュエータを採用す
ること。 ベローズ２２を２つ直列に配することとしたが、該
ベローズ２２の数を任意に設定すること。 ベローズ２２として、多層ベローズを使用するこ
と。
以下の技術を採用することができる。 弾性部材としてベローズ２２を使用したが、これに
代えて、ビームライン９内部の超高真空を保持しつつ出
射用窓１１を移動させることができる他の弾性部材、例
えば、ゴム製の筒状部材とすること。 マスク部材１３と出射用窓１１とを連結する第２の
連結手段として、着脱可能な真空吸着手段２１を使用し
たが、これに代えて、他の連結手段を使用すること。例
えば、マスク部材１３の交換が頻繁に行われない場合に
は、マスク部材１３と出射用窓１１とを確実に固定する
ボルト・ナット等の締結具とすること。 移動手段として、シリコンウェーハＷを固定したテ
ーブル１２ａを移動させる直線移動機構１５を使用した
が、これに代えて、または、これとは別の移動手段を設
けること。 直線移動機構１５としてモータ１５ａ、ボールネジ
１５ｂ、ナット１５ｃ等からなるものを採用したが、こ
れに代えて、シリンダ等、他のアクチュエータを採用す
ること。 ベローズ２２を２つ直列に配することとしたが、該
ベローズ２２の数を任意に設定すること。 ベローズ２２として、多層ベローズを使用するこ
と。
【００２３】
【発明の効果】以上、詳述したように、本発明に係る露
光装置は、ビームラインに弾性部材を介して移動自在に
取り付けられる窓部と、被転写部材を支持する被転写部
材支持部と、これら被転写部材支持部と窓部との間に平
行間隔を空けて配置されマスク部材と、マスク部材と被
転写部材支持部とを連結する第１の連結手段と、マスク
部材と窓部とを連結する第２の連結手段と、連結された
窓部、マスク部材、被転写部材支持部を放射光に交差す
る方向に移動させる移動手段とを具備しているので、マ
スク部材と窓部とが相対的に移動しないように連結され
て、両者の間隔寸法が最小限に抑えられ、窓部から出射
されるＳＯＲ光の減衰を最低限に抑制することが可能と
なって、精密な露光パターンの転写を実施することがで
きるという効果がある。
光装置は、ビームラインに弾性部材を介して移動自在に
取り付けられる窓部と、被転写部材を支持する被転写部
材支持部と、これら被転写部材支持部と窓部との間に平
行間隔を空けて配置されマスク部材と、マスク部材と被
転写部材支持部とを連結する第１の連結手段と、マスク
部材と窓部とを連結する第２の連結手段と、連結された
窓部、マスク部材、被転写部材支持部を放射光に交差す
る方向に移動させる移動手段とを具備しているので、マ
スク部材と窓部とが相対的に移動しないように連結され
て、両者の間隔寸法が最小限に抑えられ、窓部から出射
されるＳＯＲ光の減衰を最低限に抑制することが可能と
なって、精密な露光パターンの転写を実施することがで
きるという効果がある。
【図１】本発明に係る露光装置の一実施例を示す縦断面
図である。
図である。
【図２】シンクロトロンの概要を示す図である。
【図３】露光装置の従来例を示す縦断面図である。
Ｓ ＳＯＲ光（放射光） Ｗ シリコンウェーハ（被転写部材） ５ 蓄積リング ９ ビームライン １１ 出射用窓（窓部） １２ テーブル移動手段（移動手段） １２ａ テーブル（被転写部材支持部） １３ マスク部材 １６ 真空吸着手段（第１の連結手段） ２０ 露光装置 ２１ 真空吸着手段（第２の連結手段） ２２ ベローズ（弾性部材）
Claims (1)
- 【請求項１】 シンクロトロン等の粒子加速器における
ビームラインの端部に配置され蓄積リングから出射され
てくる放射光により被転写部材に露光パターンを転写す
る露光装置であって、前記ビームラインに弾性部材を介
して移動自在に取り付けられ前記放射光を透過させる窓
部と、該窓部に間隔を空けて平行に配置され前記被転写
部材を支持する被転写部材支持部と、該被転写部材支持
部と窓部との間に平行間隔を空けて配置され窓部から出
射される放射光を露光パターンに合わせて透過させるマ
スク部材と、該マスク部材と被転写部材支持部とを連結
する第１の連結手段と、マスク部材と窓部とを連結する
第２の連結手段と、これら連結手段によって連結された
窓部、マスク部材、被転写部材支持部を放射光に交差す
る方向に移動させる移動手段とを具備することを特徴と
する露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4280319A JPH06132200A (ja) | 1992-10-19 | 1992-10-19 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4280319A JPH06132200A (ja) | 1992-10-19 | 1992-10-19 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06132200A true JPH06132200A (ja) | 1994-05-13 |
Family
ID=17623343
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4280319A Withdrawn JPH06132200A (ja) | 1992-10-19 | 1992-10-19 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06132200A (ja) |
-
1992
- 1992-10-19 JP JP4280319A patent/JPH06132200A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000104 |