JPH06124793A

JPH06124793A - 真空チェンバー

Info

Publication number: JPH06124793A
Application number: JP29917192A
Authority: JP
Inventors: Tetsuya Nakanishi; 哲也中西
Original assignee: Mitsubishi Electric Corp
Current assignee: Mitsubishi Electric Corp
Priority date: 1992-10-13
Filing date: 1992-10-13
Publication date: 1994-05-06

Abstract

(57)【要約】【目的】多くの場所にイオン除去電極を設置可能に
し、かつパルス電磁石の渦電流に対する抵抗を大きくす
る。【構成】金属コーティング３，４を、一部を残して周
方向に複数に分割したイオン除去用の電極とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、荷電粒子を高エネル
ギーに加速するシンクロトロンあるいは荷電粒子を蓄積
する蓄積リングなどで利用される真空チェンバーに関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】図１３および図１４は例えば昭和５７年
１２月分子科学研究所発行”ＵＶＳＯＲストレージ
リングの設計”に示された従来のパルス電磁石用セラミ
ックス真空チェンバーを示す断面図であり、１は絶縁物
チェンバーとしてのセラミックス筒２の両端に設けたフ
ランジ、４はセラミックス筒２内面に形成された金属コ
ーティングである。また、図１５は昭和５６年３月分
子科学研究所発行”入射用のシンクロトロンの設計”
に示された偏向電磁石用真空チェンバーの断面図であ
り、これが両端にフランジ１を有する波状のベローズ８
からなる

【０００３】さらに、図１６は１９８７年のアイイーイ
ーイーパーティクルアクセレレータコンファレン
ス（ＩＥＥＥＰＡＲＴＩＣＬＥＡＣＣＥＬＥＲＡＴ
ＯＲＣＯＮＦＥＲＥＮＣＥ），ボリューム３の３に発表
された従来のイオン除去電極の断面図であり、９は除去
電極、１０はコネクタ、１１は真空チェンバーである。

【０００４】次に動作について説明する。荷電粒子を加
速するシンクロトロンあるいは荷電粒子を蓄積する蓄積
リングにおいては、ビームは金属でできたドーナツ状の
真空チェンバー内を周回する。

【０００５】また、ビームを偏向し円運動させるため
に、２極磁場を発生させる偏向電磁石が使われ、ビーム
を集束させるために４極電磁石が使われる。そして、こ
れらは真空チェンバーの外側に設置される。磁場強度は
ビームエネルギーに関係するが、ビームを加速するシン
クロトロンでは、ビームエネルギーの変化に応じて磁場
強度も時間的に変えられる。

【０００６】また、ビームを入射あるいは出射するため
にパルス電磁石が使用される。超高真空が要求されない
ようなシンクロトロンにおいては、パルス電磁石は真空
チェンバー内に設置される。しかし、蓄積リングでは超
高真空が要求されるため、アウトガスの大きいパルス電
磁石は真空外に設置される。つまり、真空チェンバーの
外側から磁場を発生させる。また、超高真空が要求され
る場合のシンクロトロンでも同様である。

【０００７】パルス電磁石においては、磁場強度の時間
的変化が大きい。そのため、通常の金属性真空チェンバ
ーを使うと大きな渦電流が流れ、磁場波形（時間的な変
化）が乱れる。渦電流の強度は真空チェンバーの導電率
が大きいため、パルス電磁石の真空チェンバーとして
は、一般に図１３に示すようにセラミックスが使われ
る。

【０００８】一方、真空チェンバー内を荷重粒子が通過
すると、真空チェンバー内壁には電荷が誘起され、等価
的には荷重粒子と同じ電流が真空チェンバー内壁を反対
方向に流れることになる。この電流に対して、真空チェ
ンバーの抵抗が大きいと、強い電界が発生するため、荷
重粒子に対して悪影響を与える。

【０００９】このため、特に蓄積リングでは、リング一
周に渡ってビームから見て金属面が滑らかに続くように
製作される。そして、その金属面はアースに短絡され
る。但し、電気的ノイズの低周波成分あるいは直流分に
対してはループを形成しないように、どこか１，２箇所
で切り離され、各々がアースに落される。

【００１０】また、セラミックス筒２の内周面は、図１
３，図１４に示すように金属コーティング４で一面コー
ティングされ、その厚みは、厚くすると渦電流に対する
抵抗が小さくなるため数ミクロンあるいは数十ミクロン
と非常に薄い。

【００１１】従って、加工も難しいが、これでも高速パ
ルス電磁石に対しては渦電流が磁場に影響を与える。ま
た、コーティング面はフランジ１と導通するように製作
され、他の真空チェンバーと電気的に接続される。

【００１２】上記偏向電磁石や４極電磁石の真空チェン
バーは、それらが交流運転される場合は上記渦電流が問
題となる。しかし、パルス電磁石ほどは磁場の時間的変
化が大きくないため、金属面の厚みを数μｍという厚さ
にする必要はなく、一般には図１５に示すようなベロー
ズ８を持ったベローズチェンバーが使われる。

【００１３】これは０．２ｍｍ程度の厚みの金属ででき
たチェンバーである。この厚みで通常の平坦な真空チェ
ンバーを作ると、強度的に弱いため、ベローズ型として
ある。また、ベローズ型とすることにより、ビーム起動
に沿った単位長当りの抵抗が大きくなるため、渦電流対
策を兼ねられる。しかし、ベローズチェンバーも製造コ
ストが高いため、パルス電磁石用真空チェンバーのよう
にセラミックスで作ることも検討されている。

【００１４】次にイオン除去電極について説明する。蓄
積リングあるいはシンクロトロン中を例えば電子ビーム
が周回すると、電子が残留ガスと衝突し、残留ガスは正
の電荷を持つイオンとなる。そのイオンはクーロン力で
電子ビームに引き寄せられ、電子ビームの周辺に集まる
ことになる。

【００１５】このイオンは周回ビームに様々な悪影響を
与えるために、それを取り除く対策が一般に施される。
図１６はその一例である。これによれば、真空チェンバ
ー１１に除去電極９が取り付けられ、その電極に電圧を
かけてイオンを除去することができ、この除去電極９は
リング全体に取り付けられる。

【００１６】しかし、偏向電磁石では、イオン除去電極
を取り付けると上下方向のギャップを広げなければなら
ないため、そのコスト増を考慮して一般には用いられて
いない。横方向に付けると、磁場の影響でイオンを取り
除くことができない。

【００１７】

【発明が解決しようとする課題】従来の真空チェンバー
は以上のように構成されているので、イオン除去電極に
ついて設置場所が限られ、さらにリング周長の多くを占
める偏向電磁石中には設置できないばかりか、高速のパ
ルス電磁石に対しては、渦電流に対する抵抗を小さくで
きないなどの問題点があった。

【００１８】請求項１の発明は上記のような問題点を解
消するためになされたもので、より多くの場所にイオン
除去電極を取り付けられ、また、パルス電磁石の渦電流
に対する抵抗を大きくすることができる真空チェンバー
を得ることを目的とする。

【００１９】請求項２の発明は渦電流に対する抵抗を十
分に大きくすることができる真空チェンバーを得ること
を目的とする。

【００２０】請求項３の発明はビーム軸付近で任意かつ
効率的に電界を発生させることができる真空チェンバー
を得ることを目的とする。

【００２１】請求項４の発明は周回ビームにより生じる
壁電流が電源側に流れるのを防止できる真空チェンバー
を得ることを目的とする。

【００２２】請求項５の発明は金属コーティング作業を
容易化できる真空チェンバーを得ることを目的とする。

【００２３】請求項６の発明は金属コーティングや金属
板が外部部材と接触するのを防止できる真空チェンバー
を得ることを目的とする。

【００２４】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明に係る真
空チェンバーは、金属コーティングを、一部を残して周
方向に複数に分割したイオン除去用の電極としたもので
ある。

【００２５】請求項２の発明に係る真空チェンバーは、
金属コーティングを、一部を残して周方向に櫛状または
格子状に複数に分割したイオン除去用の電極としたもの
である。

【００２６】請求項３の発明に係る真空チェンバーは、
金属コーティングを、周方向に複数に分離したイオン除
去用の電極を設けて、これらの電極に独立した電源から
電圧を各別に印加するようにしたものである。

【００２７】請求項４の発明に係る真空チェンバーは、
金属コーティングを、一部残して周方向に複数に分割し
または周方向に複数に分離したイオン除去用の電極を設
け、電源からこれらの電極にコイルを介して電圧を印加
するようにしたものである。

【００２８】請求項５の発明に係る真空チェンバーは、
絶縁物チェンバーの外側に金属板または金属コーティン
グを設け、上記金属板または金属コーティングを、一部
を残して周方向に複数に分割しまたは周方向に複数に分
離してイオン除去用の電極としたものである。

【００２９】請求項６の発明に係る真空チェンバーは、
絶縁物チェンバーの壁内部に金属板または金属コーティ
ングを設け、上記金属板または金属コーティングを、一
部を残して周方向に複数に分割しまたは周方向に複数に
分離してイオン除去用の電極としたものである。

【００３０】

【作用】請求項１の発明における真空チェンバーは、金
属コーティングの分割によりイオン除去用の電極を多数
形成し、パルス電磁石の渦電流の流れを分断することに
より、渦電流に対する抵抗を大きくできるようにする。

【００３１】請求項２の発明における真空チェンバー
は、金属コーティングを櫛状または格子状に複数に分割
することで、渦電流に対する抵抗をさらに大きくできる
ようにする。

【００３２】請求項３の発明における真空チェンバー
は、分散した各電極に、独自レベルの電圧を印加するこ
とで、ビームが存在する付近の電界の強さを任意に選択
できるようにする。

【００３３】請求項４の発明における真空チェンバー
は、コイルのインピーダンス特性によって各電極から直
流電源への高周波壁電流の流入を防止し、直流電源の破
壊を未然に防止する。

【００３４】請求項５における真空チェンバーは、絶縁
物チェンバーの外側に金属板や金属コーティングを設け
ることで、これらの取り付けやコーティングを容易化
し、さらに保守，管理の作業を容易化する。

【００３５】請求項６における真空チェンバーは、絶縁
物チェンバーの内部に金属板や金属コーティングを設け
ることで、これらの外部部材との電気的，機械的干渉を
確実に防止する。

【００３６】

【実施例】

実施例１．以下、この発明の一実施例を図について説明
する。図１および図２はパルス電磁石または４極電磁石
に用いられるイオン除去電極付の真空チェンバーを示
し、図３および図４は偏向電磁石に用いられるイオン除
去電極付の真空チェンバーを示し、また、図５および図
６はパルス電磁石に用いられるイオン除去電極付の真空
チェンバーの他の実施例を示す。

【００３７】図１において、１は絶縁物チェンバーとし
てのセラミックス筒２の両端に設けられたフランジ、３
は金属コーティング面である電極面、４はフランジ１と
電気的に短絡している金属コーティング面であるアース
面、５は電極端子であり、図１６に示した従来例のコネ
クタ１０に相当するものである。フランジ１の材質は、
一般にＳＵＳまたはアルミである。

【００３８】次に動作について説明する。シンクロトロ
ンあるいは蓄積リングでは、ビームを入射あるいは出射
するためにパルス電磁石を使用する。蓄積リングでは超
高真空が要求されるために、パルス電磁石は真空チェン
バーを囲むように外側に設置される。

【００３９】また、パルス電磁石は磁場の時間的変化が
大きいため、それによる渦電流を小さくするために真空
チェンバーはセラミックス筒２のような絶縁体で作られ
る。

【００４０】一方、ビームにより生じる壁電流をスムー
スに流すために、セラミックス筒２の内面は金属でコー
ティングされる。金属の種類は銅のように導電率のよい
ものであれば何でもよい。

【００４１】図１に示す真空チェンバーでは、電極面３
およびアース面４としての金属コーティング面を厚く描
いているが、実際は数μｍの厚みであり、フランジ１の
開口面とほぼ面一である。また、コーティングを図１に
示すようにチェンバーの周方向に４分割するように行
う。

【００４２】そして、左右コーティング面であるアース
面４はフランジ１と導通するようにし、上下のコーティ
ング面である電極面３はフランジ１とは絶縁するように
コーティングする。ここで、一般にフランジ１は電気的
にはアースに落ちている。これにより、例えば３は電極
として使え、電極面３まで延びた電極端子５に高電極を
かけ、例えば、上側にプラスの電圧をかけるならば下側
にはマイナスの電圧をかける。

【００４３】この電圧によりできるチェンバー中心付近
の電位が、ビームの電位よりも高ければ、ビームにより
イオン化された残留ガスはビーム周辺に留まることなく
電極に引き寄せられる。従って、ビームイオンの影響を
受けることなく安定に周回できることになる。４分割さ
れたことによる金属面の不連続性は、全面積からすれば
僅かであり、さらに壁電流の流れる方向には不連続面は
両端部だけであるため、問題ない。

【００４４】図１〜図４に示したセラミックスチェンバ
ーは、セラミックス筒２とフランジ１が直接接続された
構造となっているが、実際にはそれらの間には接続を容
易にするコバールのような金属が介在する。従って、そ
の場合は電極面３はコバールから切り離される。

【００４５】実施例２．次に、図３および図４に示す実
施例について説明する。シンクロトロンではビームを加
速するために、偏向電磁石の磁場強度が時間的に変化す
る。そのため、上記実施例と同様に、渦電流を小さくす
るために、絶縁体チェンバーによるセラミックス筒２の
内面に金属コーティングをしたチェンバーを使い、一般
にはベローズチェンバーを使う。

【００４６】偏向電磁石はシンクロトロンの主要機器で
あり、コスト的に全体に占める割合は大きい。偏向電磁
石のコストは磁場が発生するギャップに大きく依存する
ため、一般にはできるだけギャップ長を短くするように
設計する。そのため、通常ギャップ長は真空チェンバー
よりも僅かに大きい程度に設計される。

【００４７】従って、従来例の図１６に示したようなイ
オン除去電極９を偏向電磁石の真空チェンバーに取り付
けようとすると、ギャップ長を大きく広げねばならず、
コスト増となるため、これまでは偏向電磁石でのイオン
除去はなされていなかった。

【００４８】そこで、絶縁体チェンバーとした場合、コ
ーティング面を上記実施例と同じように分割し電極を形
作ることにより、偏向電磁石のギャップ長を広げずして
イオン除去電極付の真空チェンバーとすることができ
る。

【００４９】なお、電極端子５の位置はどこでもよい
が、電磁石ギャップの外側にした方が磁極設計に影響を
与えないためよい。また、４極電磁石の真空チェンバー
についても渦電流の問題が同様にあるが、この場合は直
線のチェンバーであるため、図１および図２に示したチ
ェンバーが好適である。

【００５０】実施例３．なお、上記実施例では上側と下
側の電極端子５を直接電源に接続する方式としたが、上
側または下側どちらか一方の電極端子５をアースに接続
し、残りの電極端子にマイナスの電圧をかけ、電源側の
プラス側をアースに接続する方式でも同様の効果が得ら
れる。

【００５１】実施例４．上記実施例では左右のコーティ
ング面であるアース面４はフランジ１と導通するように
コーティングするとしたが、フランジ１とは離して上下
のコーティング面である電極面３と同様に電極端子を設
け、アースに短絡する構造でも同様の効果が得られる。
フランジ１は一般にアースに短絡されているため、アー
ス面をフランジ１に短絡させただけである。

【００５２】実施例５．なお、上記実施例では左右のコ
ーティング面をアース面４とし、上下を電極面３とした
が、これらを逆にしても同様の効果が得られる。但し、
この逆の場合には、より高い電圧が必要となり、偏向電
磁石では効果がない。磁場の向きと垂直方向にはイオン
を除去できないためである。

【００５３】パルス電磁石でも磁場が発生している間は
同様にイオンを除去できないが、一般に磁場が発生して
いる時間は、その繰り返し時間に対して非常に短いため
効果がある。

【００５４】実施例６．また、コーティング面の分割方
法は上記実施例に限定されず、図５に示すように上側だ
けを電極面３とし、左右下側面はフランジ１に短絡する
アース面４としても同様の効果が得られ、また、フラン
ジ１とは切り離して電極端子５を設け、電源出力を直接
上側電極端子５と下側電極端子５にかけるようにして
も、上記実施例と同様の効果が得られる。また、その逆
でも同様の効果が得られる。

【００５５】実施例７．また、図６に示すように、上下
２つに分割する方法でも同様の効果がえられる。この場
合も、どちらか一方をフランジ１に短絡する構造でもよ
い。分割方法を上下ではなく左右にする方法でもよい
が、一般にチェンバーは左右が広いため、左右に分割し
た場合、電圧をより高くしなければならない。

【００５６】実施例８．次に、図５に示す実施例につい
て説明する。図７は渦電流に対する抵抗を大きくするた
めの櫛状電極面の平面図である。なお、金属コーティン
グを薄くする目的は渦電流対策であるが、高速パルス電
磁石では数μｍという薄さでも問題になる。渦電流は磁
束を取り巻くように流れる。つまり、真空チェンバーを
上から見た場合、渦を巻いているように流れる。従っ
て、金属コーティング面をさらに分割すると渦電流に対
する抵抗を大きくできる。

【００５７】図７はビーム進行方向に対して直角方向に
櫛状に４分割しているが、分割数は限定されない。多く
分割すれば渦電流に対する抵抗はより大きくなるが、壁
電流に対する抵抗も大きくなる欠点がある。

【００５８】ここで、図７では完全に４分割せずに櫛状
にしているのは、電圧を与える場合、電極が１個でよい
ためである。従って、完全に分割し、各々の電極面に電
極を取り付け、同じ電圧をかけても同様の効果が得られ
る。

【００５９】実施例９．また、上記実施例では電極を櫛
状したが、図８に示すように格子状にしてもよく、上記
実施例と同様の効果が得られる。

【００６０】実施例１０．次に図９に示す実施例につい
て説明する。図９は分割型電極面の平面図である。図に
おいて、６は電圧を発生する電源である。電極の大きさ
が対向する電極間距離に比べて十分に大きい場合は、電
極間には一様な電界が発生し、電圧を電極間距離で割っ
た大きさになる。しかし、十分に大きくない場合は、ビ
ームが存在する付近の電界は小さくなる。

【００６１】このため、電極面３を図９に示すように完
全分離し、各々の電極に電源６を設け、ビームが存在す
る付近に強い電界が発生するように各々異った電圧をか
ける。同図では電源６のプラス側はアースに落ちている
ため、この場合は対向する電極面は分割せずにアース面
としてよい。また、対向する電極面も同様に分割し、電
源６のプラス側を接続するとより効果が大きい。

【００６２】実施例１１．なお、上記実施例では各々の
電極面３に電源６を接続したものを示したが、電源６は
一台にし、抵抗により分圧する方式でも、上記実施例と
同様の効果が得られる。

【００６３】実施例１２．次に図１０に示す実施例につ
いて説明する。壁電流はビームによるものであるため、
ビームと同様高周波である。ビームは加速するため高周
波空洞によりバンチされており、通常数十ＭＨz の周波
数成分となっている。壁電流も同じ周波数成分を持つ。
従って、その壁電流が流れるイオン除去用の電極面３に
電源６を接続すると、壁電流の一部が電源に流れ込み、
電源を壊す恐れがある。

【００６４】その対策として、電極端子５と電源６の間
にコイル７を設ける。コイルのインピーダンスは周波数
に比例するため、小さなコイルでも高周波の壁電流に対
しては大きな抵抗となり、電源６への流入を防ぐ効果が
ある。

【００６５】実施例１３．なお、図１０に示す実施例で
は、コイル電極端子５に直接接続しているが、設置場所
は限定されず、電源６内に設置してもよい。

【００６６】実施例１４．次に図１１に示す実施例につ
いて説明する。図１１は金属コーティング面である電極
面３およびアース面４を絶縁物であるセラミックス筒２
の外側に設けた真空チェンバーの断面図である。これま
での実施例では、真空チェンバーの内側に金属コーティ
ングしたものを電極として使った。しかし、図１１に示
すように絶縁物チェンバーの外側に金属コーティングし
ても上記同様の効果が得られるほか、上記金属コーティ
ングの作業の容易化を図ることができる。

【００６７】実施例１５．なお、上記実施例では電極面
３およびアース面４を金属コーティングとしたが、金属
板でもよく、上記実施例と同様の効果を奏する。

【００６８】実施例１６．また、図１１の上記実施例で
は金属コーティングあるいは金属板を絶縁物であるセラ
ミックス筒２の外側に設けたが、図１２に示すように、
セラミックス筒２の壁２Ｐの中に埋め込んだり、挟み込
むようにしてもよく、上記実施例と同様の効果が得られ
る。これにより、電極面３やアース面４が外部と接触す
る問題はなくなる。金属コーティングあるいは金属板の
形状は、これまで述べてきたものが全て適用できる。

【００６９】

【発明の効果】以上のように、請求項１の発明によれ
ば、金属コーティングを、一部を残して周方向に複数に
分割したイオン除去用の電極とするように構成したの
で、絶縁チェンバーをイオン除去電極として使用でき、
従来イオン除去電極を設置できなかったような場所、例
えば偏向磁石中でも設置できるようになり、低コストで
より多くのイオンが除去できるほか、高速パルス電磁石
による渦電流を少なくできるものが得られる効果があ
る。

【００７０】請求項２の発明によれば、金属コーティン
グを、一部を残して周方向に複数に分割したイオン除去
用の電極とするように構成したので、高速パルス電磁石
による渦電流をさらに十分に少なくできるものが得られ
る効果がある。

【００７１】請求項３の発明によれば、金属コーティン
グを、周方向に複数に分離したイオン除去用の電極を設
けて、これらの電極に独立の電極から電圧を各別に印加
するように構成したので、ビーム軸付近で任意かつ効率
的に電界を発生させられるものが得られる効果がある。

【００７２】請求項４の発明によれば、金属コーティン
グを、一部残して周方向に複数に分割しまたは周方向に
複数に分離したイオン除去用の電極を設け、電源からこ
れらの電極にコイルを介して電圧を印加するように構成
したので、壁電流が電源側に流れ込むのを防止でき、こ
れにより、電源が破壊するのを未然に防止できるものが
得られる効果がある。

【００７３】請求項５の発明によれば、絶縁物チェンバ
ーの外側に金属板または金属コーティングを設け、上記
金属または金属コーティングを、一部を残して周方向に
複数に分割しまたは周方向に複数に分離してイオン除去
用の電極とするように構成したので、金属コーティング
作業や金属板の設置作業が容易になるとともに、これら
の各部材の点検，修理を容易に行えるものが得られる効
果がある。

【００７４】請求項６の発明によれば、絶縁物チェンバ
ーの内部に金属板または金属コーティングを設け、上記
金属または金属コーティングを、一部を残して周方向に
複数に分割しまたは周方向に複数に分離してイオン除去
用の電極とするように構成したので、金属コーティング
や金属板が外部部材と接触するのを防止できるものが得
られる効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】請求項１の発明の一実施例による真空チェンバ
ーを示す縦断正面図である。

【図２】図１における真空チェンバーを示す縦断側面図
である。

【図３】請求項１の発明の他の実施例による真空チェン
バーを示す正面図である。

【図４】図２における真空チェンバーを示す縦断側面図
である。

【図５】図１における電極の設置構造の一実施例を示す
縦断正面図である。

【図６】図１における電極の設置構造の他の実施例を示
す縦断正面図である。

【図７】請求項２の発明の一実施例による金属コーティ
ングを示す平面図である。

【図８】請求項２の発明の他の実施例による金属コーテ
ィングを示す平面図である。

【図９】請求項３の発明の一実施例による金属コーティ
ングを示す平面図である。

【図１０】請求項４の発明の一実施例による真空チェン
バーを示す斜視図である。

【図１１】請求項５の発明の一実施例による真空チェン
バーを示す斜視図である。

【図１２】請求項６の発明の一実施例による真空チェン
バーを示す斜視図である。

【図１３】従来の真空チェンバーを示す縦断正面図であ
る。

【図１４】図１３における真空チェンバーを示す縦断側
面図である。

【図１５】従来の他の真空チェンバーを示す側面図であ
る。

【図１６】従来のイオン除去電極装置を示す縦断正面図
である。

【符号の説明】

２セラミックス筒（絶縁物チェンバー）２Ｐ壁３電極面（金属コーティング）４アース面（金属コーティング）６電源７コイル

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】絶縁物チェンバーの内面に金属コーティ
ングを施した真空チェンバーにおいて、上記金属コーテ
ィングを、一部を残して周方向に複数に分割したイオン
除去用の電極としたことを特徴とする真空チェンバー。
【請求項２】絶縁物チェンバーの内面に金属コーティ
ングを施した真空チェンバーにおいて、上記金属コーテ
ィングを、一部を残して周方向に櫛状または格子状に周
方向に複数に分割したイオン除去用の電極としたことを
特徴とする真空チェンバー。
【請求項３】絶縁物チェンバーの内面に金属コーティ
ングを施した真空チェンバーにおいて、上記金属コーテ
ィングを、周方向に複数に分離したイオン除去用の電極
と、該電極のそれぞれに電圧を印加する各一の電源とを
設けたことを特徴とする真空チェンバー。
【請求項４】絶縁物チェンバーの内面に金属コーティ
ングを施した真空チェンバーにおいて、上記金属コーテ
ィングを、一部残して周方向に複数に分割しまたは周方
向に複数に分離したイオン除去用の電極と、該電極にコ
イルを介して電圧を印加する電源とを設けたことを特徴
とする真空チェンバー。
【請求項５】絶縁物チェンバーの外側に設けた金属板
または金属コーティングと、上記金属板または金属コー
ティングを、一部を残して周方向に複数に分割しまたは
周方向に複数に分離したイオン除去用の電極とを備えた
真空チェンバー。
【請求項６】絶縁物チェンバーの壁内部に設けた金属
板または金属コーティングと、上記金属板または金属コ
ーティングを、一部を残して周方向に複数に分割しまた
は周方向に複数に分離したイオン除去用の電極とを備え
た真空チェンバー。