JPH0612252B2 - 三次元形状の自動測定方法 - Google Patents
三次元形状の自動測定方法Info
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- JPH0612252B2 JPH0612252B2 JP59052226A JP5222684A JPH0612252B2 JP H0612252 B2 JPH0612252 B2 JP H0612252B2 JP 59052226 A JP59052226 A JP 59052226A JP 5222684 A JP5222684 A JP 5222684A JP H0612252 B2 JPH0612252 B2 JP H0612252B2
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- scanning
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/24—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
- G01B11/25—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures by projecting a pattern, e.g. one or more lines, moiré fringes on the object
- G01B11/2518—Projection by scanning of the object
- G01B11/2522—Projection by scanning of the object the position of the object changing and being recorded
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明は高速性と高精度を両立させた三次元形状の自動
測定方法に関する。
測定方法に関する。
従来、三次元形状を正確に測定するには触針式測定機が
実用に供せられている例が多く、分解能1μm程度の高
精度が得られるが、接触方式のためにコンピュータと連
動させても複雑な形状や大形対象物の全面測定にはきわ
めて長時間を必要とする。一方、光学的な非接触方式の
ものとしては、光切断、焦点合せ、三角測量、稜線測定
などの幾何光学的な諸方式が試験的に試みられている
が、高速度で走査して測定できる方式のものは精度が悪
く、高精度のものは、言はば光学的な触針法となるの
で、測定速度が接触式と同様に遅い。波動光学的な光波
干渉法、モアレトポグラフィ法、ホログラフィ法などは
実験室内での高精度の測定には適するが、装置が複雑、
高価でかつ操作上困難であったり、温度、湿度、振動、
雰囲気などの影響を受け易く、一般的には工業的な測定
には適さない。
実用に供せられている例が多く、分解能1μm程度の高
精度が得られるが、接触方式のためにコンピュータと連
動させても複雑な形状や大形対象物の全面測定にはきわ
めて長時間を必要とする。一方、光学的な非接触方式の
ものとしては、光切断、焦点合せ、三角測量、稜線測定
などの幾何光学的な諸方式が試験的に試みられている
が、高速度で走査して測定できる方式のものは精度が悪
く、高精度のものは、言はば光学的な触針法となるの
で、測定速度が接触式と同様に遅い。波動光学的な光波
干渉法、モアレトポグラフィ法、ホログラフィ法などは
実験室内での高精度の測定には適するが、装置が複雑、
高価でかつ操作上困難であったり、温度、湿度、振動、
雰囲気などの影響を受け易く、一般的には工業的な測定
には適さない。
以上のように現状では、高精度と高速の性能が両立して
いる工業的な三次元形状の測定方法の例は未だ見当ら
ず、また従来の方法では測定面を走査するには二次元送
りステージや回転テーブルによっているので、対象物を
大形化することは経済的にも物理的にも制限されて極め
て困難である。
いる工業的な三次元形状の測定方法の例は未だ見当ら
ず、また従来の方法では測定面を走査するには二次元送
りステージや回転テーブルによっているので、対象物を
大形化することは経済的にも物理的にも制限されて極め
て困難である。
本発明は、三次元形状の自動測定において、光学装置に
コンピュータを組合わせて使用し、対象物の設置テーブ
ルと45゜以下の角度をなす斜上方に固定した投光器よ
り光ビームを投射し、対象物表面にて拡散反射した投光
スポツトを対象物の高さ測定方向である鉛直上方より受
光レンズを介して結像し、該結像の水平方向変位量を光
電センサにより検出する光切断法にて対象物の高さを離
散的に検出し、コンピュータによって対象物の断面形状
の曲率急変点を検知して、曲率急変点近傍の断面高さを
特に入念に検出することによって、高精度と高速度測定
の性能を兼ね備え、かつ大形の対象物にも適用される工
業的三次元形状の測定方法を提供することを目的として
いる。
コンピュータを組合わせて使用し、対象物の設置テーブ
ルと45゜以下の角度をなす斜上方に固定した投光器よ
り光ビームを投射し、対象物表面にて拡散反射した投光
スポツトを対象物の高さ測定方向である鉛直上方より受
光レンズを介して結像し、該結像の水平方向変位量を光
電センサにより検出する光切断法にて対象物の高さを離
散的に検出し、コンピュータによって対象物の断面形状
の曲率急変点を検知して、曲率急変点近傍の断面高さを
特に入念に検出することによって、高精度と高速度測定
の性能を兼ね備え、かつ大形の対象物にも適用される工
業的三次元形状の測定方法を提供することを目的として
いる。
本発明に係わる三次元形状の自動測定方法の実施例を図
面を参照して説明する。
面を参照して説明する。
第1図は二次元送りステージ(以下X−Yステージと称
する)を使用した1実施例の説明図で、同図(a)は対
象物をY座標方向より見た機器配置を示す図、同図
(b)はX−Yステージ上の対象物の平面図、同図
(c)は対象物およびX−Yステージ上への光ビームの
投光スポットの軌跡を示す拡大説明図である。1は三次
元形状を測定すべき対象物である。第1図では二つの自
由曲面と平面である底面とから構成される例を示した
が、一般に平面または曲面の集まりから構成される任意
の形状であってもよい。1′は底面と上部曲面との交線
である輪郭線、1″は二つの曲面の交線をなす稜線であ
る。2はステップモータまたはサーボモータ(図示せ
ず)などによって送りねぢ機構等を介して駆動される公
知のX−Yステージであり、固定された架台(図示せ
ず)に対してX−Yステージ2がXまたはY方向にステ
ップ送りされ、その各方向の送り量の信号が出力され
る。3はレーザや発光ダイホードなどにより細い光ビー
ム4を発生する投光器で架台(図示せず)に固定されて
いる。5は光ビーム4のY方向走査による対象物1の表
面またはX−Yステージ上への投光スポットの軌跡、
5′はY方向の粗いステップ送りによる各ステップの投
光スポット、5″は同細かいステップ送りによる各ステ
ップの投光スポット、6は投光スポットのX方向の位置
を検出する光電位置検出器であって架台(図示せず)に
固定されている。7は光電位置検出器6の対物レンズ、
8は対物レンズ7による投光スポットのX方向の光学像
位置を検出するための、例えば一次元フォトダイオード
アレイやCCDなどの一次元ディジタルアレイの光電セ
ンサである。なお、Pi は光ビーム4の投光スポット、
Po は各Y方向走査の始点であるX−Yステージ2上へ
の投光スポットを示す。投光器3と光電位置検出器6と
はそれぞれ架台に固定されているから、X−Yステージ
2のY方向の走査を行なってもX−Yステージ2と共に
対象物1が移動するのみで、投光スポットPi のY方向
の位置は一定である。したがって、光電位置検出器6は
投光スポットPi のX方向のみの位置を検出するもので
あり、光電センサ8は一次元の検出素子でよい。9はコ
ンピュータで、光電センサ8とX−Yステージ2とから
の信号および各種設定値等を入力し、各種の演算処理と
X−Yステージ2を制御する動作を行なう。9′はコン
ピユータ9の一部である記憶部であり、対物1の表面の
各点の三次元座標値その他を記憶する。10は記憶部
9′に記憶された内容を数値または立体図形で表示する
ための。例えばCRT方式の表示器であり、11は記憶
部9′の内容を表示・記録するためのプロッタ・プリン
タ等の記録器である。
する)を使用した1実施例の説明図で、同図(a)は対
象物をY座標方向より見た機器配置を示す図、同図
(b)はX−Yステージ上の対象物の平面図、同図
(c)は対象物およびX−Yステージ上への光ビームの
投光スポットの軌跡を示す拡大説明図である。1は三次
元形状を測定すべき対象物である。第1図では二つの自
由曲面と平面である底面とから構成される例を示した
が、一般に平面または曲面の集まりから構成される任意
の形状であってもよい。1′は底面と上部曲面との交線
である輪郭線、1″は二つの曲面の交線をなす稜線であ
る。2はステップモータまたはサーボモータ(図示せ
ず)などによって送りねぢ機構等を介して駆動される公
知のX−Yステージであり、固定された架台(図示せ
ず)に対してX−Yステージ2がXまたはY方向にステ
ップ送りされ、その各方向の送り量の信号が出力され
る。3はレーザや発光ダイホードなどにより細い光ビー
ム4を発生する投光器で架台(図示せず)に固定されて
いる。5は光ビーム4のY方向走査による対象物1の表
面またはX−Yステージ上への投光スポットの軌跡、
5′はY方向の粗いステップ送りによる各ステップの投
光スポット、5″は同細かいステップ送りによる各ステ
ップの投光スポット、6は投光スポットのX方向の位置
を検出する光電位置検出器であって架台(図示せず)に
固定されている。7は光電位置検出器6の対物レンズ、
8は対物レンズ7による投光スポットのX方向の光学像
位置を検出するための、例えば一次元フォトダイオード
アレイやCCDなどの一次元ディジタルアレイの光電セ
ンサである。なお、Pi は光ビーム4の投光スポット、
Po は各Y方向走査の始点であるX−Yステージ2上へ
の投光スポットを示す。投光器3と光電位置検出器6と
はそれぞれ架台に固定されているから、X−Yステージ
2のY方向の走査を行なってもX−Yステージ2と共に
対象物1が移動するのみで、投光スポットPi のY方向
の位置は一定である。したがって、光電位置検出器6は
投光スポットPi のX方向のみの位置を検出するもので
あり、光電センサ8は一次元の検出素子でよい。9はコ
ンピュータで、光電センサ8とX−Yステージ2とから
の信号および各種設定値等を入力し、各種の演算処理と
X−Yステージ2を制御する動作を行なう。9′はコン
ピユータ9の一部である記憶部であり、対物1の表面の
各点の三次元座標値その他を記憶する。10は記憶部
9′に記憶された内容を数値または立体図形で表示する
ための。例えばCRT方式の表示器であり、11は記憶
部9′の内容を表示・記録するためのプロッタ・プリン
タ等の記録器である。
次に本実施例の動作を説明する。
X−Yステージ2上に対象物1を設置し、投光器3を点
灯して、レーザなどの細い光ビームをX−Yステージ2
の上面と45゜以下の角度θをもって投光する。この際
に第1図(b)に示すようにX−Yステージ2上の最初
の投光スポットの位置Qo をX,Y座標の原点0とし、
この位置からX−Yステージ2をY方向に送り、粗い例
えば1mmのステップで高速にて走査し、Y方向の全幅の
走査を終るとX−Yステージ2をX座標方向と逆に移動
させてX方向に1ステップ送り、次に図示するようにY
方向に逆向きに走査し、同様の矩形波状走査を続ける。
この場合にX方向の走査はステップ送りをせずに連続送
りとして矩形波状走査ではなく鋸歯波状走査としたり、
または逆向きの走査は全幅を一気に戻し、テレビジョン
方式の帰線消去方式としてもよい。投光スポットを一般
的にPi (i=0,1,2,・・・)と表わすとPi の
X方向位置は光電位置検出器6で検出される。X−Yス
テージ2のX方向の送りステップの原点からの値をxom
とすると、光ビーム4が当初X−Yステージ2の上面の
みを走査して対象物1に投射していない間は、投光スポ
ットの位置Po と各直交座標値xj ,yk ,zl は次のよ
うに表わされる。
灯して、レーザなどの細い光ビームをX−Yステージ2
の上面と45゜以下の角度θをもって投光する。この際
に第1図(b)に示すようにX−Yステージ2上の最初
の投光スポットの位置Qo をX,Y座標の原点0とし、
この位置からX−Yステージ2をY方向に送り、粗い例
えば1mmのステップで高速にて走査し、Y方向の全幅の
走査を終るとX−Yステージ2をX座標方向と逆に移動
させてX方向に1ステップ送り、次に図示するようにY
方向に逆向きに走査し、同様の矩形波状走査を続ける。
この場合にX方向の走査はステップ送りをせずに連続送
りとして矩形波状走査ではなく鋸歯波状走査としたり、
または逆向きの走査は全幅を一気に戻し、テレビジョン
方式の帰線消去方式としてもよい。投光スポットを一般
的にPi (i=0,1,2,・・・)と表わすとPi の
X方向位置は光電位置検出器6で検出される。X−Yス
テージ2のX方向の送りステップの原点からの値をxom
とすると、光ビーム4が当初X−Yステージ2の上面の
みを走査して対象物1に投射していない間は、投光スポ
ットの位置Po と各直交座標値xj ,yk ,zl は次のよ
うに表わされる。
xj =xom yk =0,1,2,3,・・・ zl =0 Y方向の走査がX方向に進行すると、遂に光ビーム4が
対象物1に投射するようになるが、その際の状態を一般
的に第1図(a)に示してある。そして、Y方向の各走
査による対象物1への投光スポットの始点位置Po (以
下単に始点位置と称す)と対象物1への投光スポットP
i とはそれぞれ光電位置検出器6によって検出される。
これらの検出値をコンピユータ9に入力して、該始点位
置Po と投光スポットPi とのX方向の投影距離(以
下、「距離」という。)liを算出する。すなはち該距離
li は光切断法によって対象物1の断面の高さであるZ
座標値がX方向に変換されたものであり、投光スポット
Pi の各直交座標値xj,yk,zlは次のように表わされ
る。
対象物1に投射するようになるが、その際の状態を一般
的に第1図(a)に示してある。そして、Y方向の各走
査による対象物1への投光スポットの始点位置Po (以
下単に始点位置と称す)と対象物1への投光スポットP
i とはそれぞれ光電位置検出器6によって検出される。
これらの検出値をコンピユータ9に入力して、該始点位
置Po と投光スポットPi とのX方向の投影距離(以
下、「距離」という。)liを算出する。すなはち該距離
li は光切断法によって対象物1の断面の高さであるZ
座標値がX方向に変換されたものであり、投光スポット
Pi の各直交座標値xj,yk,zlは次のように表わされ
る。
もしθ=45゜なら,zl =li となり、θ<45゜ではZ
l<liとなり、対象物高さZlは光点の水平方向距離li
として常に拡大変換される。
l<liとなり、対象物高さZlは光点の水平方向距離li
として常に拡大変換される。
したがって、Y方向の全幅の走査を終ると、次にX方向
に1ステップ送って同様のY方向高速走査を繰返し、対
象物1の全表面の投光スポットPi の直交座標値が高速
度で(1)式に基づいてコンピユータ9によって算出さ
れ、これらの値は記憶部9′に記憶される。ただし、投
光角度θによっては対象物1の表面に陰になって投光で
きない部分を生ずることがあるが、この場合には対象物
1を180゜回転するか、または投光器3をさらに1台
180゜逆向きの方向に設置して対象物1の全表面を隈
なく走査するようにする。
に1ステップ送って同様のY方向高速走査を繰返し、対
象物1の全表面の投光スポットPi の直交座標値が高速
度で(1)式に基づいてコンピユータ9によって算出さ
れ、これらの値は記憶部9′に記憶される。ただし、投
光角度θによっては対象物1の表面に陰になって投光で
きない部分を生ずることがあるが、この場合には対象物
1を180゜回転するか、または投光器3をさらに1台
180゜逆向きの方向に設置して対象物1の全表面を隈
なく走査するようにする。
次に、対象物1の輪郭線1′と、稜線1″の自動検知機
能について説明する。
能について説明する。
上述したY方向の粗いステップ、例えば1mmの高速走査
において、各ステップ毎に算出される投光スポットPi
と始点位置Po とのX方向の距離liを利用して、さらに
各ステップ毎にコンピユータ9によって次の演算を行な
う。
において、各ステップ毎に算出される投光スポットPi
と始点位置Po とのX方向の距離liを利用して、さらに
各ステップ毎にコンピユータ9によって次の演算を行な
う。
(2)式によって算出される△liの値はY方向ステップ
に対するli の差分値であり、li は(1)式より対象物
1断面のZ方向高さに比例するから、△liの値は各投光
スポットPi におけるY−Z断面形状の勾配を表してい
る。△2liは同様にliの2階差分値であるから、各投光
スポットPi におけるY−Z断面形状の勾配変化率を表
わす。この△2liの値を、外部からコンピユータ9に任
意の値で入力できるようにした設定値rと比較して、X
−Yステージ2のY方向走査を、次のように駆動モータ
たるステップモータまたはサーボモータによって制御す
る。
に対するli の差分値であり、li は(1)式より対象物
1断面のZ方向高さに比例するから、△liの値は各投光
スポットPi におけるY−Z断面形状の勾配を表してい
る。△2liは同様にliの2階差分値であるから、各投光
スポットPi におけるY−Z断面形状の勾配変化率を表
わす。この△2liの値を、外部からコンピユータ9に任
意の値で入力できるようにした設定値rと比較して、X
−Yステージ2のY方向走査を、次のように駆動モータ
たるステップモータまたはサーボモータによって制御す
る。
(イ)|△2li|−r<0の場合は、勾配変化率が設定
値よりも小さいことを表すので、次のY方向の粗いステ
ップ、例えば1mmの高速走査を続行する。
値よりも小さいことを表すので、次のY方向の粗いステ
ップ、例えば1mmの高速走査を続行する。
(ロ)|△2li|−r≧0の場合は、当該投光スポット
Pi が含まれる粗いステップの走査区間に勾配変化率の
大きい曲率急変点、すなわち、輪郭線1′か稜線1″の
あることを示すので、まづ、駆動モータを逆回転させて
Y方向の粗いステップ走査を1ステップ分だけ逆方向に
後退した後に、Y方向を細かいステップ、例えば0.1
mm,0.01mmなどのステップで精密走査し、この場合
も各投光スポットPi の(1)式で計算される各直交座
標値を記憶部9′に記憶させる。この精密走査区間での
投光スポットPi と始点位置Po とのX方向の距離を投
影距離lfi(i=0,1,2,・・・)と表わし、このl
fiの値を用いて前と同様にコンピュータ9によって次の
演算を行なう。
Pi が含まれる粗いステップの走査区間に勾配変化率の
大きい曲率急変点、すなわち、輪郭線1′か稜線1″の
あることを示すので、まづ、駆動モータを逆回転させて
Y方向の粗いステップ走査を1ステップ分だけ逆方向に
後退した後に、Y方向を細かいステップ、例えば0.1
mm,0.01mmなどのステップで精密走査し、この場合
も各投光スポットPi の(1)式で計算される各直交座
標値を記憶部9′に記憶させる。この精密走査区間での
投光スポットPi と始点位置Po とのX方向の距離を投
影距離lfi(i=0,1,2,・・・)と表わし、このl
fiの値を用いて前と同様にコンピュータ9によって次の
演算を行なう。
(3)式によって算出される2階差分値△2lfiは、Y−
Z断面形状の勾配変化率を(2)式の場合よりもさらに
微細な範囲で表わす。
Z断面形状の勾配変化率を(2)式の場合よりもさらに
微細な範囲で表わす。
この△2lfiの値を外部から可変設定する設定値rfと比較
して、前と同様にコンピユータ9によってY方向走査を
次のように制御する。
して、前と同様にコンピユータ9によってY方向走査を
次のように制御する。
(ハ)|△2lfi |−rf <0の場合は、Y方向の細かい
ステップ、例えば0.1mmの走査を続ける。
ステップ、例えば0.1mmの走査を続ける。
(ニ)|△2lfi |−rf ≧0の場合は、この細かいステ
ップ区間に曲率急変点、すなわち輪郭線か稜線のあるこ
とを示すので、そのときの(1)式で計算される投光ス
ポットPi の各直交座標値に加えて曲率急変点であるこ
とを記憶部9′に記憶させる。そして、|△2lfi|−rf
<0に戻ったら(ハ)項と同様の細かいステップ走査を
続行する。細かいステップ走査の全合計長が、ちょうど
粗いステップの1ステップ分に達したら、細かいステッ
プ送りを終了して、再び粗いステップの高速走査に戻
る。上述の動作はX方向の各ステップ毎のY方向走査に
ついて行なわれるので、対象物1の全表面にわたって輪
郭線1′と稜線1″の自動検知が行なわれることとな
る。
ップ区間に曲率急変点、すなわち輪郭線か稜線のあるこ
とを示すので、そのときの(1)式で計算される投光ス
ポットPi の各直交座標値に加えて曲率急変点であるこ
とを記憶部9′に記憶させる。そして、|△2lfi|−rf
<0に戻ったら(ハ)項と同様の細かいステップ走査を
続行する。細かいステップ走査の全合計長が、ちょうど
粗いステップの1ステップ分に達したら、細かいステッ
プ送りを終了して、再び粗いステップの高速走査に戻
る。上述の動作はX方向の各ステップ毎のY方向走査に
ついて行なわれるので、対象物1の全表面にわたって輪
郭線1′と稜線1″の自動検知が行なわれることとな
る。
以上は、第1図に示すX−Yステージ2を図外のステッ
プモータまたはサーボモータによってデジタル送りし、
各ステップの投光スポットPi と始点位置Po とのX方
向の距離li を離散的に検出する場合について説明し、
光切断法によって走査・検出された対象物1のY−Z断
面曲線をY方向に微分する代りにデジタル的に2階差分
を行なうことにより断面曲線の勾配変化点、すなわち対
象物1の輪郭線1′または稜線1″を自動検知する機能
を述べた。この場合には対象物1は、その稜線1″がな
るべく第1図のX軸方向に平行かまたはこれと鋭角をな
すような姿勢でX−Yステージ2上に設置されるのが自
動検知上から好ましい。
プモータまたはサーボモータによってデジタル送りし、
各ステップの投光スポットPi と始点位置Po とのX方
向の距離li を離散的に検出する場合について説明し、
光切断法によって走査・検出された対象物1のY−Z断
面曲線をY方向に微分する代りにデジタル的に2階差分
を行なうことにより断面曲線の勾配変化点、すなわち対
象物1の輪郭線1′または稜線1″を自動検知する機能
を述べた。この場合には対象物1は、その稜線1″がな
るべく第1図のX軸方向に平行かまたはこれと鋭角をな
すような姿勢でX−Yステージ2上に設置されるのが自
動検知上から好ましい。
以上のようにして、X−Yステージ2の二次元送りによ
り対象物1の全表面を光ビーム4で走査し、通常は、粗
いステップで表面上の各点の直交座標値が、Y−Z断面
曲線の曲率急変点すなはち輪郭線1′または稜線1″付
近は、細かいステップで同様に各点の直交座標値が、そ
れぞれ記憶部9′に記憶される。これらの記憶された各
X,Y,Z座標値をコンピユータ9を利用して必要な処
理を施した後にCRT表示器10に必要とする各点の三
次元座数値または等高線、透視図または輪郭稜線図など
の立体グラフィック表示をし、または必要に応じて記録
器11にプロットまたはプリントアウトする。なお、対
象物1の表面形状の特性を調べるため等の必要に応じ
て、各点のX,Y,Z座標値のほかに(2)式または
(3)式で示される各点の断面高さの1階または2階の
差分値あるいは1次または2次の微分値をも記憶部9′
に貯えておき、これらの等高線表示することによって、
対象物1の表面曲線の等勾配曲線や等勾配変化率曲線な
ども表示・記録しうる。また、CRT表示器10と記録
器11の公知の立体図表示機能を利用して、例えば輪郭
線・稜線等の曲率急変点近傍などを必要に応じて拡大表
示したり、表示図形の回転・記録などもできることは言
うまでもない。
り対象物1の全表面を光ビーム4で走査し、通常は、粗
いステップで表面上の各点の直交座標値が、Y−Z断面
曲線の曲率急変点すなはち輪郭線1′または稜線1″付
近は、細かいステップで同様に各点の直交座標値が、そ
れぞれ記憶部9′に記憶される。これらの記憶された各
X,Y,Z座標値をコンピユータ9を利用して必要な処
理を施した後にCRT表示器10に必要とする各点の三
次元座数値または等高線、透視図または輪郭稜線図など
の立体グラフィック表示をし、または必要に応じて記録
器11にプロットまたはプリントアウトする。なお、対
象物1の表面形状の特性を調べるため等の必要に応じ
て、各点のX,Y,Z座標値のほかに(2)式または
(3)式で示される各点の断面高さの1階または2階の
差分値あるいは1次または2次の微分値をも記憶部9′
に貯えておき、これらの等高線表示することによって、
対象物1の表面曲線の等勾配曲線や等勾配変化率曲線な
ども表示・記録しうる。また、CRT表示器10と記録
器11の公知の立体図表示機能を利用して、例えば輪郭
線・稜線等の曲率急変点近傍などを必要に応じて拡大表
示したり、表示図形の回転・記録などもできることは言
うまでもない。
本実施例にあっては、上述の説明のように、X−Yステ
ージを利用する光切断による形状測定方式において、Y
−Z断面曲線の形状がゆるやかで勾配変化の少ない部分
では粗いステップで高速の走査を行ない、勾配変化の大
きい輪郭や稜線部を自動検知して、この付近のみを細か
いステップで精密走査する、言はばズーム検出機能をも
たせることにより、対象物の全表面に亘って三次元形状
を高速かつ精密に自動測定するものである。
ージを利用する光切断による形状測定方式において、Y
−Z断面曲線の形状がゆるやかで勾配変化の少ない部分
では粗いステップで高速の走査を行ない、勾配変化の大
きい輪郭や稜線部を自動検知して、この付近のみを細か
いステップで精密走査する、言はばズーム検出機能をも
たせることにより、対象物の全表面に亘って三次元形状
を高速かつ精密に自動測定するものである。
次に光ビームを対象物1に対してY方向に移動させると
きに、上記実施例の技術的思想を適用した場合を第2図
を参照して説明する。第2図は一方向のみの送りステー
ジによりX方向走査を行ない、Y方向はレーザなどの光
ビームをステップモータまたはサーボモータを使用して
対象物に相対移動させることによって本実施例よりもY
方向の走査速度を高め、したがって全測定時間をさらに
大幅に短縮するときの説明図であり、第2図(a)は−
部を透視図で示した機器配置図であり、第2図(b)は
動作説明図で、第1図(a)と同一符号は同一部分を示
し、同一機能をもつものである。12は一方向(X方
向)のみの送りステージで、Y方向走査が一回終る毎に
X方向に1ステップ送るもので、ステップモータによる
ディジタル送りまたはサーボモータや直流モータによる
連続送りであってもよい(以下Xステージと称する)。
13は光ビーム4を回転走査させるための回転鏡であ
り、図上では6面鏡によって1回転に6回のY方向走査
を行なうようになっているが、再現性を向上するために
多面鏡と限らず1回転に1回だけ走査するような構造の
ものでもよい。14は回転鏡13をステップ駆動させる
ための駆動モータで、ステップモータまたはサーボモー
タである。15は一定の微小な回転角毎にパルスを発生
するロータリエンコーダであり、駆動モータ14によっ
て回転鏡13と同期して回転されるが、駆動モータ14
がステップモータの場合はモータのステップパルスを代
用してロータリエンコーダを省略することもできる。1
6は回転鏡13によって回転走査された光ビーム4をX
ステージ12の上面に対し常に一定角度をもってY方向
に揃えて走査し、投光スポットPi の軌跡5が直線状と
なるようにするための抛物円筒面状の平行走査鏡であ
る。6は第1図(a)と同様な光電位置検出器である
が、この場合はY方向には対象物1が固定されていて光
ビーム4がY方向に走向に走査されるため、投光スポッ
トPi のY方向位置が移動することとなる。光電位置検
出器6は投光スポットPi のX方向の位置のみを検出す
るためのものであるから、この場合には光電センサ8と
して、二次元の光電変換素子を使用してそのX方向検出
値のみを取出すこともできるが、本出願人の出願になる
特願昭58−186006号「物体の座標投影成分の測
定方法」公報に記載の円筒レンズを光学系に適用するこ
とによって、光電センサ8として一次元の光電センサを
使用して測定精度を向上できる。
きに、上記実施例の技術的思想を適用した場合を第2図
を参照して説明する。第2図は一方向のみの送りステー
ジによりX方向走査を行ない、Y方向はレーザなどの光
ビームをステップモータまたはサーボモータを使用して
対象物に相対移動させることによって本実施例よりもY
方向の走査速度を高め、したがって全測定時間をさらに
大幅に短縮するときの説明図であり、第2図(a)は−
部を透視図で示した機器配置図であり、第2図(b)は
動作説明図で、第1図(a)と同一符号は同一部分を示
し、同一機能をもつものである。12は一方向(X方
向)のみの送りステージで、Y方向走査が一回終る毎に
X方向に1ステップ送るもので、ステップモータによる
ディジタル送りまたはサーボモータや直流モータによる
連続送りであってもよい(以下Xステージと称する)。
13は光ビーム4を回転走査させるための回転鏡であ
り、図上では6面鏡によって1回転に6回のY方向走査
を行なうようになっているが、再現性を向上するために
多面鏡と限らず1回転に1回だけ走査するような構造の
ものでもよい。14は回転鏡13をステップ駆動させる
ための駆動モータで、ステップモータまたはサーボモー
タである。15は一定の微小な回転角毎にパルスを発生
するロータリエンコーダであり、駆動モータ14によっ
て回転鏡13と同期して回転されるが、駆動モータ14
がステップモータの場合はモータのステップパルスを代
用してロータリエンコーダを省略することもできる。1
6は回転鏡13によって回転走査された光ビーム4をX
ステージ12の上面に対し常に一定角度をもってY方向
に揃えて走査し、投光スポットPi の軌跡5が直線状と
なるようにするための抛物円筒面状の平行走査鏡であ
る。6は第1図(a)と同様な光電位置検出器である
が、この場合はY方向には対象物1が固定されていて光
ビーム4がY方向に走向に走査されるため、投光スポッ
トPi のY方向位置が移動することとなる。光電位置検
出器6は投光スポットPi のX方向の位置のみを検出す
るためのものであるから、この場合には光電センサ8と
して、二次元の光電変換素子を使用してそのX方向検出
値のみを取出すこともできるが、本出願人の出願になる
特願昭58−186006号「物体の座標投影成分の測
定方法」公報に記載の円筒レンズを光学系に適用するこ
とによって、光電センサ8として一次元の光電センサを
使用して測定精度を向上できる。
次に上記の構成例の動作を説明する。Y方向の光ビーム
4の走査がXステージ12の表面上を一定間隔のステッ
プ送りとなるように駆動モータ14を動作させれば、本
実施例の場合にY方向送りの信号がX−Yステージ2か
ら発せられた代りにロータリエンコーダ15から発せら
れるだけの違いで、基本的には全く同様の動作が実施で
きる。駆動モータ14が一定回転角のステップモータま
たはサーボモータであっても、もし回転鏡13の一回走
査当りの回転角を大きくとるように設計すると、投光ス
ポットPi のXステージ12の表面上でのY方向の走査
軌跡5は必ずしも一定間隔ステップ送りとならず、不等
間隔または不等速度(以下これを非線形と称する)の走
査を行なうようになる。この非線形走査はY座標値測定
上の誤差となるので、これを補正して誤差を消去するた
めに、あらかじめ第2図(b)に示すような較正動作を
行なっておく。すなはち、図中(イ)は、駆動モータ1
4にステップモータを使用した場合の回転鏡13の一定
回転角ごとの各ステップ送りを表わし、この回転角はロ
ータリエンコーダ15によって各走査毎に始点位置AS
からの値が読取られ、該読取り値をn0 ,n1 ,n2 ,・
・・・とし、一般にni と表わす。同図中(ロ)は、回
転走査された光ビーム4が平行走査鏡16によって平行
走査され、Xステージ12に対象物1がない場合のそれ
の表面上での投光スポットのY方向位置を示し、P
00 ,P01 ,P02 ,・・・・とし、一般にPoi と表わ
す。該Poi の値は、光電位置検出器6を通常のX方向
の位置検出の状態からX座標方向に対して90゜回転し
て設置することによって、Y方向の投光スポットの位置
としてPoi が測定される。同図中の(ハ)はこのPoi
の測定値をm0 ,m1 ,m2 ,・・・・とし一般にmi と表
わす。Y方向の投光スポットの位置Poi の別の測定法
として、Xステージ12上に直接投光スポットを検出す
る例えばリニヤエンコーダなどの光電検出素子をY方向
に設置して測定するか、または一定間隔に微細な反射性
の細線を並べた反射素子をY方向に設置して投光スポッ
トの反射光を光電位置検出器6または別に設ける対物レ
ンズと光ダイオードなどに光電検出器(図示せず)によ
って検出し、検出光電パルスを計数する方法によっても
Poi が測定される。以上のような方法によって第2図
(b)に示すni 値に対するPoi 値の真の値mi 値が得
られるので、これらの対比関係をコンピユータ9に入力
しておいてY方向座標値を補正演算する。また、別法と
して、回転鏡13による光ビーム4の回転半径と平行走
査鏡16との光学系の諸数値を用い、あらかじめ数式に
よって投光スポットの不等間隔または不等速度の非線形
成分の補正値を算出しておき、この補正値をコンピュー
タ9に入力しておいて検出値を演算補正してもよい。以
上の処理によって補正されたY方向座標値をyk′と表わ
すと、第2図(a)に示す対象物1の投光スポットPi
の各直交座標値は(1)式のyk の代りにyk′を用いて
表わされる。また、対象物1の輪郭線と稜線との自動検
知機能については、本実施例の場合と全く同様に実施す
る。即ち、Y方向の走査の各ステツプ毎に、(2)式の演
算を行うことによつて勾配変化率を求め、その値が設定
値γを超えた場合には、まづY方向の走査を、1ステッ
プ分だけ駆動モータ14たるステップモータまたはサー
ボモータを逆回転させることによつて、逆方向に後退さ
せた後に、細かいステツプでY方向に精密走査し、勾配
変化率演算を行うことにより、細かいステツプにおける
曲率急変点を求め、以上の細かいステツプ走査が粗い1
ステツプ分に達したら細かいステツプ送りを終了して、
再び粗いステツプの高速走査に戻ることによつて、輪郭
線と稜線との精密な自動検知が行なわれる。
4の走査がXステージ12の表面上を一定間隔のステッ
プ送りとなるように駆動モータ14を動作させれば、本
実施例の場合にY方向送りの信号がX−Yステージ2か
ら発せられた代りにロータリエンコーダ15から発せら
れるだけの違いで、基本的には全く同様の動作が実施で
きる。駆動モータ14が一定回転角のステップモータま
たはサーボモータであっても、もし回転鏡13の一回走
査当りの回転角を大きくとるように設計すると、投光ス
ポットPi のXステージ12の表面上でのY方向の走査
軌跡5は必ずしも一定間隔ステップ送りとならず、不等
間隔または不等速度(以下これを非線形と称する)の走
査を行なうようになる。この非線形走査はY座標値測定
上の誤差となるので、これを補正して誤差を消去するた
めに、あらかじめ第2図(b)に示すような較正動作を
行なっておく。すなはち、図中(イ)は、駆動モータ1
4にステップモータを使用した場合の回転鏡13の一定
回転角ごとの各ステップ送りを表わし、この回転角はロ
ータリエンコーダ15によって各走査毎に始点位置AS
からの値が読取られ、該読取り値をn0 ,n1 ,n2 ,・
・・・とし、一般にni と表わす。同図中(ロ)は、回
転走査された光ビーム4が平行走査鏡16によって平行
走査され、Xステージ12に対象物1がない場合のそれ
の表面上での投光スポットのY方向位置を示し、P
00 ,P01 ,P02 ,・・・・とし、一般にPoi と表わ
す。該Poi の値は、光電位置検出器6を通常のX方向
の位置検出の状態からX座標方向に対して90゜回転し
て設置することによって、Y方向の投光スポットの位置
としてPoi が測定される。同図中の(ハ)はこのPoi
の測定値をm0 ,m1 ,m2 ,・・・・とし一般にmi と表
わす。Y方向の投光スポットの位置Poi の別の測定法
として、Xステージ12上に直接投光スポットを検出す
る例えばリニヤエンコーダなどの光電検出素子をY方向
に設置して測定するか、または一定間隔に微細な反射性
の細線を並べた反射素子をY方向に設置して投光スポッ
トの反射光を光電位置検出器6または別に設ける対物レ
ンズと光ダイオードなどに光電検出器(図示せず)によ
って検出し、検出光電パルスを計数する方法によっても
Poi が測定される。以上のような方法によって第2図
(b)に示すni 値に対するPoi 値の真の値mi 値が得
られるので、これらの対比関係をコンピユータ9に入力
しておいてY方向座標値を補正演算する。また、別法と
して、回転鏡13による光ビーム4の回転半径と平行走
査鏡16との光学系の諸数値を用い、あらかじめ数式に
よって投光スポットの不等間隔または不等速度の非線形
成分の補正値を算出しておき、この補正値をコンピュー
タ9に入力しておいて検出値を演算補正してもよい。以
上の処理によって補正されたY方向座標値をyk′と表わ
すと、第2図(a)に示す対象物1の投光スポットPi
の各直交座標値は(1)式のyk の代りにyk′を用いて
表わされる。また、対象物1の輪郭線と稜線との自動検
知機能については、本実施例の場合と全く同様に実施す
る。即ち、Y方向の走査の各ステツプ毎に、(2)式の演
算を行うことによつて勾配変化率を求め、その値が設定
値γを超えた場合には、まづY方向の走査を、1ステッ
プ分だけ駆動モータ14たるステップモータまたはサー
ボモータを逆回転させることによつて、逆方向に後退さ
せた後に、細かいステツプでY方向に精密走査し、勾配
変化率演算を行うことにより、細かいステツプにおける
曲率急変点を求め、以上の細かいステツプ走査が粗い1
ステツプ分に達したら細かいステツプ送りを終了して、
再び粗いステツプの高速走査に戻ることによつて、輪郭
線と稜線との精密な自動検知が行なわれる。
なお、この実施例においても、第1実施例と同様に、対
象物1はその稜線1″がX軸方向に平行かまたはこれと
鋭角をなすことが好ましく、また光ビームの投射角θに
よっては対象物1の表面に陰になって投光できない部分
を生ずることがある場合には、対象物1を180゜回転
するか、または投光器3をさらに1台180゜逆向きの
方向に設置して、対象物1の全表面を隈なく走査するよ
うにすることは勿論である。
象物1はその稜線1″がX軸方向に平行かまたはこれと
鋭角をなすことが好ましく、また光ビームの投射角θに
よっては対象物1の表面に陰になって投光できない部分
を生ずることがある場合には、対象物1を180゜回転
するか、または投光器3をさらに1台180゜逆向きの
方向に設置して、対象物1の全表面を隈なく走査するよ
うにすることは勿論である。
本発明になる三次元形状の自動測定方法は、1.X,
Y,Zを三次元直交座標として、対象の設置テーブルと
45゜以下の角度をなす斜上方に固定した投光器より光
ビームを投射し、対象物表面にて拡散反射した投光スポ
ットを対象物の高さ測定方向である鉛直上より受光レン
ズを介して結像し、該結像の水平方向変位量を光電セン
サにより検出する光切断法にて対象物の高さを離散的に
検出する際に、光ビームと対象物との相対移動にステツ
プモータまたはサーボモータを使用し、 (イ)光ビーム走査方向たるY座標に対して粗いステツ
プで高速走査し、各ステップに対する対象物への光ビー
ムの投光スポツトのX座標方向の変位を光電センサによ
つて投影距離として検出し、該投影距離から光ビームの
投射角に基づいてZ座標値を求め、設置テーブルのX座
標方向の送り量から該投影距離を差引いてX座標値を求
め、設置テーブルのY座標方向の送り量からY座標値を
求め各ステップにおけるX,Y,Z座標値をコンピュー
タの記憶部に記憶し、 (ロ)該投影距離を検出しつつ、これをY方向に対して
デイジタル的に2階差分し、該2階差分値をあらかじめ
設定した値と比較してY方向に対する断面形状の曲率急
変点の有無を検知し、 (ハ)曲率急変点の検知に基づいて、一旦Y進行方向と
逆方向に粗い1ステップ分だけ後退した後に、Y進行方
向に細かいステップで精密走査し、 (ニ)細かいステップでの精密走査中もX,Y,Z座標
値を求めつつ(ロ)項の演算による断面形状の曲率急変
点を検知し、X,Y,Z座標値及び該曲率急変点を記憶
部に記憶し、 (ホ)前記精密走査完了後に粗いステップによる高速走
査に戻り、 (ヘ)Y座標方向の走査完了後にX座標方向に1ステッ
プ送って次ぎのY座標方向の走査を行なう、 前記(イ),(ロ),(ハ),(ニ),(ホ),及び
(ヘ)項を順次にくりかえし行なって対象物の形状を求
める方法であり、また、光電センサを一次元デジタルア
レイ光電センサとするものである。
Y,Zを三次元直交座標として、対象の設置テーブルと
45゜以下の角度をなす斜上方に固定した投光器より光
ビームを投射し、対象物表面にて拡散反射した投光スポ
ットを対象物の高さ測定方向である鉛直上より受光レン
ズを介して結像し、該結像の水平方向変位量を光電セン
サにより検出する光切断法にて対象物の高さを離散的に
検出する際に、光ビームと対象物との相対移動にステツ
プモータまたはサーボモータを使用し、 (イ)光ビーム走査方向たるY座標に対して粗いステツ
プで高速走査し、各ステップに対する対象物への光ビー
ムの投光スポツトのX座標方向の変位を光電センサによ
つて投影距離として検出し、該投影距離から光ビームの
投射角に基づいてZ座標値を求め、設置テーブルのX座
標方向の送り量から該投影距離を差引いてX座標値を求
め、設置テーブルのY座標方向の送り量からY座標値を
求め各ステップにおけるX,Y,Z座標値をコンピュー
タの記憶部に記憶し、 (ロ)該投影距離を検出しつつ、これをY方向に対して
デイジタル的に2階差分し、該2階差分値をあらかじめ
設定した値と比較してY方向に対する断面形状の曲率急
変点の有無を検知し、 (ハ)曲率急変点の検知に基づいて、一旦Y進行方向と
逆方向に粗い1ステップ分だけ後退した後に、Y進行方
向に細かいステップで精密走査し、 (ニ)細かいステップでの精密走査中もX,Y,Z座標
値を求めつつ(ロ)項の演算による断面形状の曲率急変
点を検知し、X,Y,Z座標値及び該曲率急変点を記憶
部に記憶し、 (ホ)前記精密走査完了後に粗いステップによる高速走
査に戻り、 (ヘ)Y座標方向の走査完了後にX座標方向に1ステッ
プ送って次ぎのY座標方向の走査を行なう、 前記(イ),(ロ),(ハ),(ニ),(ホ),及び
(ヘ)項を順次にくりかえし行なって対象物の形状を求
める方法であり、また、光電センサを一次元デジタルア
レイ光電センサとするものである。
したがって、対象物の断面形状変化が最も大きい曲率急
変点近傍の断面高さや高精度に測定でき、その他の部分
は高速測定される。
変点近傍の断面高さや高精度に測定でき、その他の部分
は高速測定される。
また、コンピュータの記憶部にCRT表示器、記録器が
容易に接続できて、対象物の形状を数値または立体グラ
フィック表示あるいは印字・図形記録などがなされる。
容易に接続できて、対象物の形状を数値または立体グラ
フィック表示あるいは印字・図形記録などがなされる。
第1図は、本発明に係わる1実施例の説明図であり、第
1図(a)は、対象物をY座標方向より見た機器配置
図、第1図(b)は、X−Yステージの対象物の平面
図、第1図(c)は、対象物およびX−Yステージ上へ
の光ビームの投光スポットの軌跡を示す拡大説明図、第
2図は、光ビームを移動させる例の説明図であり、第2
図(a)は、一部を透視図で示した機器配置図、第2図
(b)は、動作説明図である。 1:対象物 1′:(変曲点を含む)輪郭線 1″:(変曲点を含む)稜線 2:X−Yステージ 3:投光器 4:光ビーム 5:投光スポットの軌跡 5′:粗いステップ送りによる投光スポット 5″:細かいステップ送りによる投光スポット 5a:扇形軌跡 6:光電位置検出器 8:光電センサ 9:コンピユータ 9′:記憶部 10:CRT方式の表示器 11:記録器 12:(一方向送りの)Xステージ 13:回転鏡 15:ロータリエンコーダ 16:平行走査鏡
1図(a)は、対象物をY座標方向より見た機器配置
図、第1図(b)は、X−Yステージの対象物の平面
図、第1図(c)は、対象物およびX−Yステージ上へ
の光ビームの投光スポットの軌跡を示す拡大説明図、第
2図は、光ビームを移動させる例の説明図であり、第2
図(a)は、一部を透視図で示した機器配置図、第2図
(b)は、動作説明図である。 1:対象物 1′:(変曲点を含む)輪郭線 1″:(変曲点を含む)稜線 2:X−Yステージ 3:投光器 4:光ビーム 5:投光スポットの軌跡 5′:粗いステップ送りによる投光スポット 5″:細かいステップ送りによる投光スポット 5a:扇形軌跡 6:光電位置検出器 8:光電センサ 9:コンピユータ 9′:記憶部 10:CRT方式の表示器 11:記録器 12:(一方向送りの)Xステージ 13:回転鏡 15:ロータリエンコーダ 16:平行走査鏡
Claims (2)
- 【請求項1】X,Y,Zを三次元直交座標として、対象
物の設置テーブルと45゜以下の角度をなす斜上方に固
定した投光器より光ビームを投射し、対象物表面にて拡
散反射した投光スポツトを対象物の高さ測定方向である
鉛直上方より受光レンズを介して結像し、該結像の水平
方向変位量を光電センサにより検出する光切断法にて対
象物の高さを離散的に検出する際に、光ビームと対象物
との相対移動にステツプモータまたはサーボモータを使
用し、 (イ)光ビーム走査方向たるY座標に対して粗いステツ
プで高速走査し、各ステツプに対する対象物への光ビー
ムの投光スポツトのX座標方向の変位を光電センサによ
つて投影距離として検出し、該投影距離から光ビームの
投射角に基づいてZ座標値を求め、設置テーブルのX座
標方向の送り量から該投影距離を差引いてX座標値を求
め、設置テーブルのY座標方向の送り量からY座標値を
求め、各ステツプにおけるX,Y,Z座標値をコンピユ
ータの記憶部に記憶し、 (ロ)該投影距離を検出しつつ、これをY方向に対して
デイジタル的に2階差分し、該2階差分値をあらかじめ
設定した値と比較してY方向に対する断面形状の曲率急
変点の有無を検知し、 (ハ)曲率急変点の検知に基づいて、一旦Y進行方向と
逆方向に粗い1ステツプ分だけ後退した後に、Y進行方
向に細かいステツプで精密走査し、 (ニ)細かいステツプでの精密走査中もX,Y,Z座標
値を求めつつ、(ロ)項の演算による断面形状の曲率急
変点を検知し、X,Y,Z座標値及び該曲率急変点を記
憶部に記憶し、 (ホ)前記精密走査完了後に粗いステツプによる高速走
査に戻り、 (ヘ)Y座標方向の走査完了後にX座標方向に1ステツ
プ送つて次のY座標方向の走査を行う、 前記(イ)、(ロ)、(ハ)、(ニ)、(ホ)、及び
(ヘ)項を順次にくりかえし行つて対象物の形状を求め
ることを特徴とする三次元形状の自動測定方法。 - 【請求項2】光電センサを一次デイジタルアレイ光電セ
ンサとする特許請求の範囲第(1)項記載の三次元形状の
自動測定方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59052226A JPH0612252B2 (ja) | 1984-03-21 | 1984-03-21 | 三次元形状の自動測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59052226A JPH0612252B2 (ja) | 1984-03-21 | 1984-03-21 | 三次元形状の自動測定方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60196608A JPS60196608A (ja) | 1985-10-05 |
JPH0612252B2 true JPH0612252B2 (ja) | 1994-02-16 |
Family
ID=12908824
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59052226A Expired - Lifetime JPH0612252B2 (ja) | 1984-03-21 | 1984-03-21 | 三次元形状の自動測定方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0612252B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA1313040C (en) * | 1988-03-31 | 1993-01-26 | Mitsuaki Uesugi | Method and apparatus for measuring a three-dimensional curved surface shape |
JPH0641851B2 (ja) * | 1989-04-05 | 1994-06-01 | 日本鋼管株式会社 | 3次元曲面形状の測定装置 |
JP2597711B2 (ja) * | 1989-05-16 | 1997-04-09 | 住友電気工業株式会社 | 3次元位置測定装置 |
US4975770A (en) * | 1989-07-31 | 1990-12-04 | Troxell James D | Method for the enhancement of contours for video broadcasts |
WO1994015173A1 (en) * | 1992-12-18 | 1994-07-07 | 3D Scanners Ltd. | Scanning sensor |
JP3551667B2 (ja) * | 1996-12-04 | 2004-08-11 | 株式会社日立製作所 | はんだバンプの高さ測定方法 |
US7184150B2 (en) * | 2003-03-24 | 2007-02-27 | D4D Technologies, Llc | Laser digitizer system for dental applications |
AU2004273957B2 (en) * | 2003-09-17 | 2009-05-28 | D4D Technologies, Llc | High speed multiple line three-dimensional digitization |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5880510A (ja) * | 1981-11-10 | 1983-05-14 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 稜線座標自動測定用の稜頂点検出装置および稜線座標測定装置 |
JPS58201006A (ja) * | 1982-05-20 | 1983-11-22 | Hitachi Ltd | 立体形状検出装置 |
-
1984
- 1984-03-21 JP JP59052226A patent/JPH0612252B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS60196608A (ja) | 1985-10-05 |
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