JPH0612003A - 光伝導装置 - Google Patents
光伝導装置Info
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- JPH0612003A JPH0612003A JP4234333A JP23433392A JPH0612003A JP H0612003 A JPH0612003 A JP H0612003A JP 4234333 A JP4234333 A JP 4234333A JP 23433392 A JP23433392 A JP 23433392A JP H0612003 A JPH0612003 A JP H0612003A
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- JP
- Japan
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- probe
- sensitive
- probe support
- photoconductive device
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01T—MEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
- G01T1/00—Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
- G01T1/29—Measurement performed on radiation beams, e.g. position or section of the beam; Measurement of spatial distribution of radiation
- G01T1/2914—Measurement of spatial distribution of radiation
- G01T1/2921—Static instruments for imaging the distribution of radioactivity in one or two dimensions; Radio-isotope cameras
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
- Radiography Using Non-Light Waves (AREA)
- Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
- Combination Of More Than One Step In Electrophotography (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は分布された感応プローブが光伝導体
の面から出来る限り等しい距離に位置する光伝導装置を
提供することを目的とする。 【構成】 電荷パターンを電気信号に変換し、光伝導装
置の面に平行に延在する直線接続ラインに沿って配置さ
れ、基部材で支持された多数の感応プローブからなる読
出装置からなるＸ線電荷パターンに変換する光伝導装置
である。感応プローブと光伝導装置の面間の距離は、基
部材が直線接続ラインに垂直な方向に光伝導装置に対し
て所定の位置を占めるよう光伝導装置と基部材を相互接
続する接続部材が設けられ、感応プローブは望ましくは
弾性的に曲げられうる接続部分を介して基部材に接続さ
れた少なくとも１つのプローブ支持体に接続され、基部
材及びプローブ支持体は少なくとも２つの位置で光伝導
体の面に対して感応プローブの位置の調整を可能にする
調整手段を設けられて調整されうる。
の面から出来る限り等しい距離に位置する光伝導装置を
提供することを目的とする。 【構成】 電荷パターンを電気信号に変換し、光伝導装
置の面に平行に延在する直線接続ラインに沿って配置さ
れ、基部材で支持された多数の感応プローブからなる読
出装置からなるＸ線電荷パターンに変換する光伝導装置
である。感応プローブと光伝導装置の面間の距離は、基
部材が直線接続ラインに垂直な方向に光伝導装置に対し
て所定の位置を占めるよう光伝導装置と基部材を相互接
続する接続部材が設けられ、感応プローブは望ましくは
弾性的に曲げられうる接続部分を介して基部材に接続さ
れた少なくとも１つのプローブ支持体に接続され、基部
材及びプローブ支持体は少なくとも２つの位置で光伝導
体の面に対して感応プローブの位置の調整を可能にする
調整手段を設けられて調整されうる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電荷パターンを電気信
号に変換し、光伝導装置の面に平行に延在する直線接続
ラインに沿って配置され、基部材で支持された多数の感
応プローブからなる読出装置からなる光伝導装置に係
る。
号に変換し、光伝導装置の面に平行に延在する直線接続
ラインに沿って配置され、基部材で支持された多数の感
応プローブからなる読出装置からなる光伝導装置に係
る。
【０００２】
【従来の技術】この種の光伝導装置はドイツ特許公開第
３５３４７６８号及び先のドイツ特許出願第４０１５１
１３．１号から公知である。そこで、光伝導装置は円筒
形外面が光伝導層、望ましくはセレンで被覆されたドラ
ムとに構成される。読出装置はドラム軸に平行に延在す
る直線接続ラインに沿って配置され、ドラムの長さに亘
って分布された多数の感応プローブからなる。
３５３４７６８号及び先のドイツ特許出願第４０１５１
１３．１号から公知である。そこで、光伝導装置は円筒
形外面が光伝導層、望ましくはセレンで被覆されたドラ
ムとに構成される。読出装置はドラム軸に平行に延在す
る直線接続ラインに沿って配置され、ドラムの長さに亘
って分布された多数の感応プローブからなる。
【０００３】感応プローブにより供給された電気信号か
らＸ線照射中に発生した電荷パターン又は放射像の再構
成の為、感応プローブの感度は出来る限り等しいことが
重要である。感応プローブの感度はなかんずくそれらの
面からの距離に依存する。従って、感応プローブの実際
の位置は直線接続ライン又は直線接続ラインを含む接続
面で決められる基準位置から略０．０１ｍｍ以上はずれ
るべきでない。
らＸ線照射中に発生した電荷パターン又は放射像の再構
成の為、感応プローブの感度は出来る限り等しいことが
重要である。感応プローブの感度はなかんずくそれらの
面からの距離に依存する。従って、感応プローブの実際
の位置は直線接続ライン又は直線接続ラインを含む接続
面で決められる基準位置から略０．０１ｍｍ以上はずれ
るべきでない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、要求される更
なる段階なしにこの状態を満足する読出装置を製造する
のに複雑な処理が必要とされる。本発明の目的は分布さ
れた感応プローブが光伝導体の面から出来る限り等しい
距離に位置するように前記の種類の光伝導装置を構成す
ることである。
なる段階なしにこの状態を満足する読出装置を製造する
のに複雑な処理が必要とされる。本発明の目的は分布さ
れた感応プローブが光伝導体の面から出来る限り等しい
距離に位置するように前記の種類の光伝導装置を構成す
ることである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本目的は、基部材が直線
接続ラインに垂直な方向に光伝導装置に対して所定の位
置を占めるよう光伝導装置と基部材を相互接続する接続
部材が設けられ、感応プローブは望ましくは弾性的に曲
げうる接続部分を介して基部材に接続された少なくとも
１つのプローブ支持体に接続され、基部材及びプローブ
支持体は少なくとも２つの位置で光伝導体の面に対して
感応プローブの位置の調整を可能にする調整手段を設け
る本発明により達成される。
接続ラインに垂直な方向に光伝導装置に対して所定の位
置を占めるよう光伝導装置と基部材を相互接続する接続
部材が設けられ、感応プローブは望ましくは弾性的に曲
げうる接続部分を介して基部材に接続された少なくとも
１つのプローブ支持体に接続され、基部材及びプローブ
支持体は少なくとも２つの位置で光伝導体の面に対して
感応プローブの位置の調整を可能にする調整手段を設け
る本発明により達成される。
【０００６】本発明により感応プローブの位置は基部材
の位置により単に略予め決定される。基部材に対してプ
ローブ支持体の位置の調整を可能にする調整手段により
所定の期限内で変更されうる。次に接続部分は多少曲げ
られる。全ての感応プローブが単一プローブ支持体に配
置される時、調整の可能性は比較的に小さい。調整のよ
り良い可能性は、いくつかのプローブ支持体からなる本
発明の更なる実施例で得られ、調整手段は各プローブ支
持体に設けられる。
の位置により単に略予め決定される。基部材に対してプ
ローブ支持体の位置の調整を可能にする調整手段により
所定の期限内で変更されうる。次に接続部分は多少曲げ
られる。全ての感応プローブが単一プローブ支持体に配
置される時、調整の可能性は比較的に小さい。調整のよ
り良い可能性は、いくつかのプローブ支持体からなる本
発明の更なる実施例で得られ、調整手段は各プローブ支
持体に設けられる。
【０００７】しかし、構成は、別なプローブ支持体が各
感応プローブに対して設けられる場合、より複雑にな
る。複雑性と調整の可能性間の妥当な妥協はいくつかの
感応プローブが各プローブ支持体に設けられる更なる実
施例で達成される。調整手段の特に単純な実施は、調整
手段としてねじが用いられる時、本発明により達成さ
れ、該ねじが基部の（又はプローブ支持体の）ねじをプ
ローブ支持体を介して（又は基部材を介して）係合す
る。
感応プローブに対して設けられる場合、より複雑にな
る。複雑性と調整の可能性間の妥当な妥協はいくつかの
感応プローブが各プローブ支持体に設けられる更なる実
施例で達成される。調整手段の特に単純な実施は、調整
手段としてねじが用いられる時、本発明により達成さ
れ、該ねじが基部の（又はプローブ支持体の）ねじをプ
ローブ支持体を介して（又は基部材を介して）係合す
る。
【０００８】本発明の他の実施例において、調整手段と
接続部分の間の距離は感応プローブと接続部分間の距離
より大きい。調整手段の範囲内でのプローブ支持体の調
整の後に少ない比でのみ感応プローブが続き、その比は
調整手段及び接続部分の間の距離と感応プローブ及び接
続部分間の距離との比で決定される。正確な調整が容易
となる。
接続部分の間の距離は感応プローブと接続部分間の距離
より大きい。調整手段の範囲内でのプローブ支持体の調
整の後に少ない比でのみ感応プローブが続き、その比は
調整手段及び接続部分の間の距離と感応プローブ及び接
続部分間の距離との比で決定される。正確な調整が容易
となる。
【０００９】
【実施例】本発明を以下図面を参照して詳細に説明す
る。図１に示す如く、Ｘ線源１の焦点から出射するＸ線
ビーム１０は、テーブルトップ３上に配置された患者２
及び散乱放射グリッド８を通り、図１の紙面に垂直に延
在する円筒軸７を有するドラム４上に入射する。ドラム
４は駆動モータ９により回転軸７の回りに回転されう
る。ドラム４の外面は０．５ｍｍの厚さを有する光伝導
層４１、望ましくはセレン層で被覆されている。
る。図１に示す如く、Ｘ線源１の焦点から出射するＸ線
ビーム１０は、テーブルトップ３上に配置された患者２
及び散乱放射グリッド８を通り、図１の紙面に垂直に延
在する円筒軸７を有するドラム４上に入射する。ドラム
４は駆動モータ９により回転軸７の回りに回転されう
る。ドラム４の外面は０．５ｍｍの厚さを有する光伝導
層４１、望ましくはセレン層で被覆されている。
【００１０】ビーム路の外に、例えば１５００Ｖの電圧
が電気的伝導ドラムの面と光伝導層４１の外面間に生じ
るよう、Ｘ線照射に先立ち伝導層に充電する読出装置６
が配置される。ドラムはＸ線照射中静止したままであ
る。光伝導体の面はＸ線の強度の関数とに多少放電さ
れ、これにより光伝導層４１上で、患者２の後ろのＸ線
の強度の空間分布に対応する電荷パターンが生じる。
が電気的伝導ドラムの面と光伝導層４１の外面間に生じ
るよう、Ｘ線照射に先立ち伝導層に充電する読出装置６
が配置される。ドラムはＸ線照射中静止したままであ
る。光伝導体の面はＸ線の強度の関数とに多少放電さ
れ、これにより光伝導層４１上で、患者２の後ろのＸ線
の強度の空間分布に対応する電荷パターンが生じる。
【００１１】Ｘ線照射に続いて、発生された電荷パター
ンはビーム路外に配置された読出装置５により読出され
る。読出装置はその有効面が理想的場合に、理想的場合
の回転軸７に平行に延在する直線に沿って位置する多数
の感応プローブ（図１に示さず）からなる。感応プロー
ブとセレン層４１間の距離は略０．１ｍｍである。Ｘ線
照射中放射映像を同時に発生する比較的に広い放射ビー
ム１０の代わり、扇形放射ビームが患者に関して円筒軸
７に平行に延在するスリットを通って変位される装置が
用いられえ、照射中回転するドラムは該ビームにより時
間的に連続に部分的に照射される。この種の装置はドイ
ツ公開特許第３５３４７６８号に詳細に説明されてい
る。
ンはビーム路外に配置された読出装置５により読出され
る。読出装置はその有効面が理想的場合に、理想的場合
の回転軸７に平行に延在する直線に沿って位置する多数
の感応プローブ（図１に示さず）からなる。感応プロー
ブとセレン層４１間の距離は略０．１ｍｍである。Ｘ線
照射中放射映像を同時に発生する比較的に広い放射ビー
ム１０の代わり、扇形放射ビームが患者に関して円筒軸
７に平行に延在するスリットを通って変位される装置が
用いられえ、照射中回転するドラムは該ビームにより時
間的に連続に部分的に照射される。この種の装置はドイ
ツ公開特許第３５３４７６８号に詳細に説明されてい
る。
【００１２】しかし、本発明は平坦光伝導装置にも使用
されうる。しかし、この場合、読出装置５は電荷パター
ンを検出する為２次元走査動作を実行しなければならな
い。図２に示す如く、ドラム４は橋状接続部分１２を介
して読出装置に接続される。接続部分１２はドラム４の
回転軸７が支持される２つのアームと、アームを相互接
続する中央部分とからなり、その上に読出装置５が配置
される。
されうる。しかし、この場合、読出装置５は電荷パター
ンを検出する為２次元走査動作を実行しなければならな
い。図２に示す如く、ドラム４は橋状接続部分１２を介
して読出装置に接続される。接続部分１２はドラム４の
回転軸７が支持される２つのアームと、アームを相互接
続する中央部分とからなり、その上に読出装置５が配置
される。
【００１３】Ｘ線照射に続いて、感応プローブは毎回僅
か０．２ｍｍの幅を有する回転ドラムの細条帯上の電荷
を読みうる。全ドラム面の読出を可能にする為、２つの
隣るプローブ間の距離に略対応する距離に亘って読出装
置５を変位させる駆動（図１及び図２に概略的に示され
る）が設けられる。図４及び図５から分かる如く、この
為に、回転シャフト７と平行に延在し、接続部分１２に
接続された案内レール１３と、読出装置５に接続された
相補形の案内レール１４からなる案内装置が設けられ
る。
か０．２ｍｍの幅を有する回転ドラムの細条帯上の電荷
を読みうる。全ドラム面の読出を可能にする為、２つの
隣るプローブ間の距離に略対応する距離に亘って読出装
置５を変位させる駆動（図１及び図２に概略的に示され
る）が設けられる。図４及び図５から分かる如く、この
為に、回転シャフト７と平行に延在し、接続部分１２に
接続された案内レール１３と、読出装置５に接続された
相補形の案内レール１４からなる案内装置が設けられ
る。
【００１４】図３及び図５を組合わせて分かる如く、読
出装置は案内レール１４にしっかり接続された本質的に
長方形の基部材５０と、基部材５０の長手方向に分布さ
れた多数の（例えば９つの）プローブ支持体５１とから
なる。プローブ支持体５１はその前側に個々の感応プロ
ーブに対する電気回路を収容する室５４０を設けられ、
基部材面に略平行に延在する基部材５０に面するその背
面側は接続部分５２を介して基部材５０に一端で接続さ
れる。その間に位置する基部材５０、プローブ支持体５
１及び接続部分５２は数値制御機械を用いて単一ブロッ
クのアルミニウムから望ましくは製造される。上記装置
は多数の別なプローブ支持体、接続部分及び或いは又基
部材からも組立てられうるが、追加的調整動作は必要で
ある。
出装置は案内レール１４にしっかり接続された本質的に
長方形の基部材５０と、基部材５０の長手方向に分布さ
れた多数の（例えば９つの）プローブ支持体５１とから
なる。プローブ支持体５１はその前側に個々の感応プロ
ーブに対する電気回路を収容する室５４０を設けられ、
基部材面に略平行に延在する基部材５０に面するその背
面側は接続部分５２を介して基部材５０に一端で接続さ
れる。その間に位置する基部材５０、プローブ支持体５
１及び接続部分５２は数値制御機械を用いて単一ブロッ
クのアルミニウムから望ましくは製造される。上記装置
は多数の別なプローブ支持体、接続部分及び或いは又基
部材からも組立てられうるが、追加的調整動作は必要で
ある。
【００１５】プローブ支持体５１は互いに一定距離離間
して配置された感応プローブを支持する。感応プローブ
はドイツ公開特許第３９３２３３５号に詳細に記載され
ている如く厚膜技術によりセラミック基板５３上に設け
られる。各セラミック基板上に、直線に沿って、互いに
等間隔で位置する４つの感応プローブが配置され；感応
プローブは図３の円５４及び感応プローブの有効面の中
央を示す図５の一点鎖線５４で示される。セラミック基
板５３は固定装置５８によりプローブ支持体５１上に取
付けられ、これにより感応プローブはプローブ支持体５
１に関して正確に決められた位置を占める（明瞭の為、
これは図３で第１のプローブを支持体に対する場合だけ
が示される）。装置は、セラミック基板がドラム面とプ
ローブ面の間に０．１ｍｍの間の残る距離を無視して、
感応プローブの領域でドラム面に接するようにされてい
る。
して配置された感応プローブを支持する。感応プローブ
はドイツ公開特許第３９３２３３５号に詳細に記載され
ている如く厚膜技術によりセラミック基板５３上に設け
られる。各セラミック基板上に、直線に沿って、互いに
等間隔で位置する４つの感応プローブが配置され；感応
プローブは図３の円５４及び感応プローブの有効面の中
央を示す図５の一点鎖線５４で示される。セラミック基
板５３は固定装置５８によりプローブ支持体５１上に取
付けられ、これにより感応プローブはプローブ支持体５
１に関して正確に決められた位置を占める（明瞭の為、
これは図３で第１のプローブを支持体に対する場合だけ
が示される）。装置は、セラミック基板がドラム面とプ
ローブ面の間に０．１ｍｍの間の残る距離を無視して、
感応プローブの領域でドラム面に接するようにされてい
る。
【００１６】実際、感応プローブ及びセレン層４１間の
距離が全ての感応プローブに対して同じでないことが分
かった；これは特定の許容誤差及び製造不正確による。
あるプローブは光伝導層４１により近く位置し、他のプ
ローブはそれから更に遠くに位置する。距離を等しくす
る為、調整手段が接続部分５２から離れた各プローブ支
持体の自由端に設けられ、その調整手段は自由端が基部
材５０のあちこちに動かされるのを可能にする。感応プ
ローブ５４と光伝導層４１間の距離は増大又は減少され
る。しかし、自由端と接続部分間の距離が感応プローブ
と接続部分間の距離より実質的に大きいので、感応プロ
ーブの位置の変化は所定の比でのみプローブ支持体の自
由端の位置の変化に追従する。これはプローブ距離が比
較的正確に調整されうる利点を提供する。
距離が全ての感応プローブに対して同じでないことが分
かった；これは特定の許容誤差及び製造不正確による。
あるプローブは光伝導層４１により近く位置し、他のプ
ローブはそれから更に遠くに位置する。距離を等しくす
る為、調整手段が接続部分５２から離れた各プローブ支
持体の自由端に設けられ、その調整手段は自由端が基部
材５０のあちこちに動かされるのを可能にする。感応プ
ローブ５４と光伝導層４１間の距離は増大又は減少され
る。しかし、自由端と接続部分間の距離が感応プローブ
と接続部分間の距離より実質的に大きいので、感応プロ
ーブの位置の変化は所定の比でのみプローブ支持体の自
由端の位置の変化に追従する。これはプローブ距離が比
較的正確に調整されうる利点を提供する。
【００１７】特に図３に示す如く、各プローブ支持体に
対する調整手段は回転シャフト７を平行な方向に互いに
関してずれ、プローブ支持体のボア５６０を介して基部
材５０のねじ孔５６１に係合する２つのねじ５６からな
る。感応プローブはこれらのねじを締めることにより光
伝導層４１からより離間して位置するように調整され；
感応プローブと光伝導層間の距離はねじ上のナット５６
２の締めと共にねじを緩めることにより減少されうる。
更なるナット５６３はねじ孔５６１のねじを固定し、こ
れにより一度なされた調整は保たれる。必要ならセラミ
ック基板の面はプローブ支持体と協働したねじの異なる
調整により光伝導層４１に対して傾けられうる。
対する調整手段は回転シャフト７を平行な方向に互いに
関してずれ、プローブ支持体のボア５６０を介して基部
材５０のねじ孔５６１に係合する２つのねじ５６からな
る。感応プローブはこれらのねじを締めることにより光
伝導層４１からより離間して位置するように調整され；
感応プローブと光伝導層間の距離はねじ上のナット５６
２の締めと共にねじを緩めることにより減少されうる。
更なるナット５６３はねじ孔５６１のねじを固定し、こ
れにより一度なされた調整は保たれる。必要ならセラミ
ック基板の面はプローブ支持体と協働したねじの異なる
調整により光伝導層４１に対して傾けられうる。
【００１８】感応プローブの整列は望ましくは基部材５
０とレール１４の相互接続前に３次元測定顕微鏡（光定
規）によりチェックさるべきである。しかし、或いは組
立てた状態での整列を局部的に均一に荷電された光伝導
層を走査する時感応プローブにより発生した信号の測定
によりチェックすることも可能である。信号が平均値よ
り高い（又はより低い）時、関連するプローブは他の感
応プローブより面により近いかより遠くに位置する。感
応プローブの信号振幅は調整ねじ５６による適宜の調整
により等しくされうる。
０とレール１４の相互接続前に３次元測定顕微鏡（光定
規）によりチェックさるべきである。しかし、或いは組
立てた状態での整列を局部的に均一に荷電された光伝導
層を走査する時感応プローブにより発生した信号の測定
によりチェックすることも可能である。信号が平均値よ
り高い（又はより低い）時、関連するプローブは他の感
応プローブより面により近いかより遠くに位置する。感
応プローブの信号振幅は調整ねじ５６による適宜の調整
により等しくされうる。
【００１９】図示の構成は０．０１ｍｍより良い正確度
で０．１ｍｍまでだけプローブ５４の調整を可能にす
る。
で０．１ｍｍまでだけプローブ５４の調整を可能にす
る。
【図１】本発明が使用されうるＸ線装置の概略を示す図
である。
である。
【図２】本発明による光伝導装置の概略側面図である。
【図３】読出装置の斜視図である。
【図４】光伝導装置の平面図である。
【図５】図４の詳細を示す図である。
【符号の説明】 １ Ｘ線源 ２ 患者 ３ テーブルトップ ４ ドラム ５ 読出装置 ７ 円筒軸 ８ 放射線グリッド ９ モータ駆動 １０ 放射線ビーム １２，５２ 接続部分 １３，１４ 案内レール ４１ 光伝導層 ５０ 基部材 ５１ プローブ支持体 ５３ セラミック基板 ５４ 感応プローブ ５６ ねじ ５８ 固定装置 ５４０ 室 ５６０ ボア ５６１ ねじ孔 ５６３ ナット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０４Ｎ 1/04 Ｅ 7251−5Ｃ
Claims (6)
- 【請求項１】 電荷パターンを電気信号に変換する読出
装置からなり、該読出装置は光伝導装置の面（４１）に
平行に延在する直線接続ラインに沿って配置され、基部
材（５０）で支持された多数の感応プローブ（５４）か
らなる光伝導装置であって、基部材（５０）が直線接続
ラインに垂直な方向に光伝導装置に対して所定の位置を
占めるよう光伝導装置（４）と基部材（５０）を相互接
続する接続部材（１２）が設けられ、感応プローブ（５
４）は望ましくは弾性的に曲げうる接続部分（５２）を
介して基部材（５０）に接続された少なくとも１つのプ
ローブ支持体（５１）に接続され、基部材及びプローブ
支持体は少なくとも２つの位置で光伝導体の面に対して
感応プローブの位置の調整を可能にする調整手段（５
６）を設けられていることを特徴とするＸ線を電荷パタ
ーンに変換する光伝導装置。 - 【請求項２】 いくつかのプローブ支持体（５１）から
なり、調整手段（５６）は各プローブ支持体に設けられ
ていることを特徴とする請求項１記載の光伝導装置。 - 【請求項３】 いくつかの感応プローブ（５４）が各プ
ローブ支持体（５１）に配置されることを特徴とする請
求項２記載の光伝導装置。 - 【請求項４】 調整手段はプローブ支持体（５１）を介
して（又は基部材を介して）基部材（５０）の（又はプ
ローブ支持体の）ねじ孔（５６１）に係合するねじ（５
６）により形成されることを特徴とする請求項１乃至３
のうちいずれか一項記載の光伝導装置。 - 【請求項５】 調整手段（５６）と接続部分（５２）の
間の距離は感応プローブ（５４）と接続部分（５２）間
の距離より大きいことを特徴とする請求項１乃至４のう
ちいずれか一項記載の光伝導装置。 - 【請求項６】 請求項１乃至５のうちいずれか一項記載
の光伝導装置からなるＸ線検査装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4129469A DE4129469A1 (de) | 1991-09-05 | 1991-09-05 | Photoleiteranordnung mit einer ausleseeinheit |
| DE4129469:6 | 1991-09-05 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0612003A true JPH0612003A (ja) | 1994-01-21 |
Family
ID=6439875
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4234333A Pending JPH0612003A (ja) | 1991-09-05 | 1992-09-02 | 光伝導装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0530911B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0612003A (ja) |
| DE (2) | DE4129469A1 (ja) |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1991
- 1991-09-05 DE DE4129469A patent/DE4129469A1/de not_active Withdrawn
-
1992
- 1992-09-01 EP EP92202641A patent/EP0530911B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-09-01 DE DE59207608T patent/DE59207608D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-09-02 JP JP4234333A patent/JPH0612003A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE59207608D1 (de) | 1997-01-16 |
| EP0530911B1 (de) | 1996-12-04 |
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| DE4129469A1 (de) | 1993-03-11 |
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