JPH0611678A - 欠陥検査装置 - Google Patents
欠陥検査装置Info
- Publication number
- JPH0611678A JPH0611678A JP4169554A JP16955492A JPH0611678A JP H0611678 A JPH0611678 A JP H0611678A JP 4169554 A JP4169554 A JP 4169554A JP 16955492 A JP16955492 A JP 16955492A JP H0611678 A JPH0611678 A JP H0611678A
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- JP
- Japan
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- defect
- light
- error signal
- inspected
- glass substrate
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- Liquid Crystal (AREA)
- Testing Of Short-Circuits, Discontinuities, Leakage, Or Incorrect Line Connections (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 この発明は欠陥と異物を高速に検査できるよ
うな欠陥検査装置を提供することを主要な特徴とする。 【構成】 半導体レーザ１からのレーザ光を偏光ビーム
スプリッタ２で折り曲げ、１／４波長板３および２色分
離ミラー４を介して対物レンズ５に入射し、レーザ光を
ガラス基板６に導く。ガラス基板６の反射光は対物レン
ズ５，２色分離ミラー４，１／４波長板３，偏光ビーム
スプリッタ２，球面レンズ７およびシリンドリカルレン
ズ８を介して４分割フォトダイオード９に入射される。
欠陥検出回路１０は４分割フォトダイオード９のそれぞ
れの領域から得られた受光出力とエラー信号とに応じ
て、欠陥であるかあるいは異物であるかを判別する。
うな欠陥検査装置を提供することを主要な特徴とする。 【構成】 半導体レーザ１からのレーザ光を偏光ビーム
スプリッタ２で折り曲げ、１／４波長板３および２色分
離ミラー４を介して対物レンズ５に入射し、レーザ光を
ガラス基板６に導く。ガラス基板６の反射光は対物レン
ズ５，２色分離ミラー４，１／４波長板３，偏光ビーム
スプリッタ２，球面レンズ７およびシリンドリカルレン
ズ８を介して４分割フォトダイオード９に入射される。
欠陥検出回路１０は４分割フォトダイオード９のそれぞ
れの領域から得られた受光出力とエラー信号とに応じ
て、欠陥であるかあるいは異物であるかを判別する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は欠陥検査装置に関し、
特に、液晶パネル用のガラス基板上に生成されたＩＴＯ
パターンの欠陥を検査するような欠陥検査装置に関す
る。
特に、液晶パネル用のガラス基板上に生成されたＩＴＯ
パターンの欠陥を検査するような欠陥検査装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】最近では、各種の電子機器に液晶表示パ
ネルが多く用いられつつある。しかも液晶表示パネルに
表示される情報量が多くなってきており、表示密度の高
い液晶表示パネルが要求されている。表示密度を高める
ためには、液晶表示器と端子との間の配線パターンを細
かくし、しかも隣接するパターンとの間隔を狭くする必
要がある。
ネルが多く用いられつつある。しかも液晶表示パネルに
表示される情報量が多くなってきており、表示密度の高
い液晶表示パネルが要求されている。表示密度を高める
ためには、液晶表示器と端子との間の配線パターンを細
かくし、しかも隣接するパターンとの間隔を狭くする必
要がある。
【０００３】ところが、パターンの密度を高めると、パ
ターンのエッチング工程でエッチングが不十分なために
隣接するパターンどうしが電気的に接続されてしまうこ
とがある。このような欠陥の、特に、単純マトリクスパ
ターンの一部がショートしてしまうような欠陥につい
て、前段に設けたプローバ方式検査装置からの検査結果
を下に、パターンライン内の欠陥位置を検出するための
検査が行なわれる。このプローバ方式検査装置は、パタ
ーンライン間の検査には有効であるが、ライン間のいず
れの位置に欠陥があるかまでは特定できない。
ターンのエッチング工程でエッチングが不十分なために
隣接するパターンどうしが電気的に接続されてしまうこ
とがある。このような欠陥の、特に、単純マトリクスパ
ターンの一部がショートしてしまうような欠陥につい
て、前段に設けたプローバ方式検査装置からの検査結果
を下に、パターンライン内の欠陥位置を検出するための
検査が行なわれる。このプローバ方式検査装置は、パタ
ーンライン間の検査には有効であるが、ライン間のいず
れの位置に欠陥があるかまでは特定できない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来の検査方法は、欠
陥箇所の検出に、ＣＣＤカメラを用いて画像処理により
欠陥を検出する方式、またはパターン間の抵抗を測定
し、欠陥位置を検出する方式がとられている。しかしな
がら、ＣＣＤカメラを用いた画像処理方式では、常にフ
ォーカシングを行ないながら欠陥位置を検出する必要が
あるのと、画像処理自体に時間がかかり、検査期間が長
くなってしまうという欠点がある。また、パターン間の
抵抗を測定する方式では、パターン間に欠陥が１箇所あ
る場合は特に問題ないが、欠陥が数箇所存在する場合
は、それぞれの欠陥位置を検出できないという欠点があ
った。
陥箇所の検出に、ＣＣＤカメラを用いて画像処理により
欠陥を検出する方式、またはパターン間の抵抗を測定
し、欠陥位置を検出する方式がとられている。しかしな
がら、ＣＣＤカメラを用いた画像処理方式では、常にフ
ォーカシングを行ないながら欠陥位置を検出する必要が
あるのと、画像処理自体に時間がかかり、検査期間が長
くなってしまうという欠点がある。また、パターン間の
抵抗を測定する方式では、パターン間に欠陥が１箇所あ
る場合は特に問題ないが、欠陥が数箇所存在する場合
は、それぞれの欠陥位置を検出できないという欠点があ
った。
【０００５】それゆえに、この発明の主たる目的は、被
検査対象物に複数箇所に欠陥があっても、それぞれを高
速に検査できるような欠陥検査装置を提供することであ
る。
検査対象物に複数箇所に欠陥があっても、それぞれを高
速に検査できるような欠陥検査装置を提供することであ
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明は被検査対象物
の欠陥を検査する欠陥検査装置であって、レーザ光を発
光するレーザ光源と、光を受光する受光手段と、レーザ
光源からのレーザ光を被検査対象物に導き、その被検査
対象物からの反射光を受光手段に導くための光学系と、
受光手段によって検知された光学系から非点収差法によ
って得られた光量信号とエラー信号の一方あるいは両方
を用いて欠陥を検出する欠陥検出手段とを備えて構成さ
れる。より好ましくは、エラー信号に応じて光学系を被
検査対象物に合焦させるフォーカス制御手段が設けられ
る。
の欠陥を検査する欠陥検査装置であって、レーザ光を発
光するレーザ光源と、光を受光する受光手段と、レーザ
光源からのレーザ光を被検査対象物に導き、その被検査
対象物からの反射光を受光手段に導くための光学系と、
受光手段によって検知された光学系から非点収差法によ
って得られた光量信号とエラー信号の一方あるいは両方
を用いて欠陥を検出する欠陥検出手段とを備えて構成さ
れる。より好ましくは、エラー信号に応じて光学系を被
検査対象物に合焦させるフォーカス制御手段が設けられ
る。
【０００７】
【作用】この発明に係る欠陥検査装置は、レーザ光を被
検査対象物に導き、その反射光を受光手段に導き、光学
系から非点収差法によって得られた光量信号とエラー信
号の一方あるいは両方を用いて欠陥を検出する。さら
に、より好ましくはエラー信号に応じて光学系を被検査
対象物に合焦させる。
検査対象物に導き、その反射光を受光手段に導き、光学
系から非点収差法によって得られた光量信号とエラー信
号の一方あるいは両方を用いて欠陥を検出する。さら
に、より好ましくはエラー信号に応じて光学系を被検査
対象物に合焦させる。
【０００８】
【実施例】図１はこの発明の一実施例のブロック図であ
る。図１を参照して、半導体レーザ１はレーザ光を発光
するものであって、発光されたレーザ光は偏光ビームス
プリッタ２に与えられてその光軸が直角に曲げられ、１
／４波長板３を透過し、２色分離ミラー４で反射し、対
物レンズ５で収束され、ガラス基板６上に照射される。
ガラス基板６で反射したレーザ光は同じ光路を戻り、１
／４波長板３を通過することによって、偏光面が１８０
°ずれ、偏光ビームスプリッタ２を通過し、さらに球面
レンズ７およびシリンドリカルレンズ８を通って４分割
フォトダイオード９に入射される。
る。図１を参照して、半導体レーザ１はレーザ光を発光
するものであって、発光されたレーザ光は偏光ビームス
プリッタ２に与えられてその光軸が直角に曲げられ、１
／４波長板３を透過し、２色分離ミラー４で反射し、対
物レンズ５で収束され、ガラス基板６上に照射される。
ガラス基板６で反射したレーザ光は同じ光路を戻り、１
／４波長板３を通過することによって、偏光面が１８０
°ずれ、偏光ビームスプリッタ２を通過し、さらに球面
レンズ７およびシリンドリカルレンズ８を通って４分割
フォトダイオード９に入射される。
【０００９】なお、図１において、レーザ光の経路は点
線で示されている。また、２色分離ミラー４は欠陥リペ
ア用ＹＡＧレーザを透過し、半導体レーザ１からの光を
反射させ、同一光路を通過させるようになっている。４
分割フォトダイオード１０はその受光面が４つに分割さ
れており、それぞれの受光出力は欠陥検出回路１０に与
えられる。欠陥検出回路１０は４分割フォトダイオード
９の受光出力に基づいて、ガラス基板６の欠陥を検出す
るとともに、エラー信号をフォーカス制御回路１１に与
える。フォーカス制御回路１１はそのエラー信号に応じ
て、光学系をガラス基板６に合焦させる。
線で示されている。また、２色分離ミラー４は欠陥リペ
ア用ＹＡＧレーザを透過し、半導体レーザ１からの光を
反射させ、同一光路を通過させるようになっている。４
分割フォトダイオード１０はその受光面が４つに分割さ
れており、それぞれの受光出力は欠陥検出回路１０に与
えられる。欠陥検出回路１０は４分割フォトダイオード
９の受光出力に基づいて、ガラス基板６の欠陥を検出す
るとともに、エラー信号をフォーカス制御回路１１に与
える。フォーカス制御回路１１はそのエラー信号に応じ
て、光学系をガラス基板６に合焦させる。
【００１０】図２は４分割フォトダイオードと欠陥検出
回路の動作を説明するための図であり、図３は欠陥を検
出する動作を説明するための図である。
回路の動作を説明するための図であり、図３は欠陥を検
出する動作を説明するための図である。
【００１１】図１に示した球面レンズ７を通過したレー
ザ光は、シリンドリカルレンズ８でさらに集光される光
（Ａで示す）とシリンドリカルレンズ８をそのまま通過
する光（Ｂで示す）となる。この２つの光は互いに９０
°の角度差をもっており、その様子を図２に示す。光Ａ
は図２（ａ）に示すように、４分割フォトダイオード９
の領域Ａ１，Ａ２に入射し、光Ｂは領域Ｂ１，Ｂに入射
される。ここで、ガラス基板６上に光Ａ，Ｂが合焦する
と、図２（ｂ）に示すようにビーム系は同一となり、
（Ｂ１＋Ｂ２）−（Ａ１＋Ａ２）は０となる。しかし、
合焦していない場合には、図２（ａ）または（ｃ）に示
す状態となる。４分割フォトダイオード９の領域Ａ１，
Ａ２，Ｂ１，Ｂ２のそれぞれの受光出力は欠陥検出回路
１０に含まれるオペアンプ１３に与えられており、合焦
した場合には図２（ｂ）に示すようにオペアンプ１３の
出力は０となり、図２（ａ）または（ｃ）に示すように
合焦していない場合にはオペアンプ１３から＋または−
のエラー出力が得られる。したがって、オペアンプ１３
のエラー出力が０となるように、光学系をガラス基板６
に対して上下に移動させれば常にフォーカス状態を得る
ことができる。
ザ光は、シリンドリカルレンズ８でさらに集光される光
（Ａで示す）とシリンドリカルレンズ８をそのまま通過
する光（Ｂで示す）となる。この２つの光は互いに９０
°の角度差をもっており、その様子を図２に示す。光Ａ
は図２（ａ）に示すように、４分割フォトダイオード９
の領域Ａ１，Ａ２に入射し、光Ｂは領域Ｂ１，Ｂに入射
される。ここで、ガラス基板６上に光Ａ，Ｂが合焦する
と、図２（ｂ）に示すようにビーム系は同一となり、
（Ｂ１＋Ｂ２）−（Ａ１＋Ａ２）は０となる。しかし、
合焦していない場合には、図２（ａ）または（ｃ）に示
す状態となる。４分割フォトダイオード９の領域Ａ１，
Ａ２，Ｂ１，Ｂ２のそれぞれの受光出力は欠陥検出回路
１０に含まれるオペアンプ１３に与えられており、合焦
した場合には図２（ｂ）に示すようにオペアンプ１３の
出力は０となり、図２（ａ）または（ｃ）に示すように
合焦していない場合にはオペアンプ１３から＋または−
のエラー出力が得られる。したがって、オペアンプ１３
のエラー出力が０となるように、光学系をガラス基板６
に対して上下に移動させれば常にフォーカス状態を得る
ことができる。
【００１２】一方、欠陥検出に際しては、被検査対象物
のガラス基板６に半導体レーザ光を照射すると、図３
（ａ）〜（ｄ）に示すように、エラー信号レベルと光量
レベルに違いが生じ、正常パターン，欠陥パターン，異
物を判別することが可能となる。
のガラス基板６に半導体レーザ光を照射すると、図３
（ａ）〜（ｄ）に示すように、エラー信号レベルと光量
レベルに違いが生じ、正常パターン，欠陥パターン，異
物を判別することが可能となる。
【００１３】すなわち、図３（ｂ）に示すようなオープ
ン欠陥の場合は、光量レベルが低下するため、しきい値
をＶｔｈ１に設定すれば、オープン欠陥の検出が可能と
なる。
ン欠陥の場合は、光量レベルが低下するため、しきい値
をＶｔｈ１に設定すれば、オープン欠陥の検出が可能と
なる。
【００１４】また、図３（ｃ）に示すようなショート欠
陥の場合には、光量レベルが上昇するため、しきい値を
Ｖｔｈ２に設定すれば検出が可能となる。
陥の場合には、光量レベルが上昇するため、しきい値を
Ｖｔｈ２に設定すれば検出が可能となる。
【００１５】さらに、図３（ｄ）に示すような異物の場
合には、光量レベルとともにエラー信号レベルも変化す
る。これは、異物によって高さが変化するためである。
したがって、欠陥を検出するための光量レベルのしきい
値をＶｔｈ３に設定し、エラー信号レベルのしきい値を
Ｖｔｈ４に設定すれば、異物であることを容易に判別で
きる。
合には、光量レベルとともにエラー信号レベルも変化す
る。これは、異物によって高さが変化するためである。
したがって、欠陥を検出するための光量レベルのしきい
値をＶｔｈ３に設定し、エラー信号レベルのしきい値を
Ｖｔｈ４に設定すれば、異物であることを容易に判別で
きる。
【００１６】なお、ＩＴＯ膜はサブミクロン以下の厚さ
であるため、図３（ｂ），（ｃ）に示すように、オープ
ン欠陥，ショート欠陥の場合にはエラー信号レベルはほ
とんど変化しない。
であるため、図３（ｂ），（ｃ）に示すように、オープ
ン欠陥，ショート欠陥の場合にはエラー信号レベルはほ
とんど変化しない。
【００１７】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、レー
ザ光源からのレーザ光を光学系によって被検査対象物に
導き、被検査対象物からの反射光を受光し、受光された
非点収差法によって得られた光量信号にエラー信号の一
方あるいは両方を用いて欠陥を検出するようにしたの
で、欠陥と異物を高速に検査することができる。
ザ光源からのレーザ光を光学系によって被検査対象物に
導き、被検査対象物からの反射光を受光し、受光された
非点収差法によって得られた光量信号にエラー信号の一
方あるいは両方を用いて欠陥を検出するようにしたの
で、欠陥と異物を高速に検査することができる。
【図１】この発明の一実施例のブロック図である。
【図２】４分割フォトダイオードと欠陥検出回路の動作
を説明するための図である。
を説明するための図である。
【図３】欠陥を検出する動作を説明するための図であ
る。
る。
１ 半導体レーザ ２ 偏光ビームスプリッタ ３ １／４波長板 ４ ２色分離ミラー ５ 対物レンズ ６ ガラス基板 ７ 球面レンズ ８ シリンドリカルレンズ ９ ４分割フォトダイオード １０ 欠陥検出回路 １１ フォーカス制御回路
Claims (2)
- 【請求項１】 被検査対象物の欠陥を検査する欠陥検査
装置であって、 レーザ光を発光するレーザ光源、 光を受光する受光手段、 前記レーザ光源からのレーザ光を前記被検査対象物に導
き、該被検査対象物からの反射光を前記受光手段に導く
ための光学系、および前記受光手段によって検知された
前記光学系から非点収差法によって得られた光量信号と
エラー信号の一方あるいは両方を用いて欠陥を検出する
欠陥検出手段を備えた欠陥検査装置。 - 【請求項２】 さらに、前記エラー信号に応じて、前記
光学系を前記被検査対象物に合焦させるフォーカス制御
手段を含む、請求項１の欠陥検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4169554A JPH0611678A (ja) | 1992-06-26 | 1992-06-26 | 欠陥検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4169554A JPH0611678A (ja) | 1992-06-26 | 1992-06-26 | 欠陥検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0611678A true JPH0611678A (ja) | 1994-01-21 |
Family
ID=15888623
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4169554A Withdrawn JPH0611678A (ja) | 1992-06-26 | 1992-06-26 | 欠陥検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0611678A (ja) |
-
1992
- 1992-06-26 JP JP4169554A patent/JPH0611678A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990831 |