JPH0610679Y2 - 連続インライン式成膜装置 - Google Patents
連続インライン式成膜装置Info
- Publication number
- JPH0610679Y2 JPH0610679Y2 JP16939788U JP16939788U JPH0610679Y2 JP H0610679 Y2 JPH0610679 Y2 JP H0610679Y2 JP 16939788 U JP16939788 U JP 16939788U JP 16939788 U JP16939788 U JP 16939788U JP H0610679 Y2 JPH0610679 Y2 JP H0610679Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- chamber
- cart
- heating
- heating chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16939788U JPH0610679Y2 (ja) | 1988-12-29 | 1988-12-29 | 連続インライン式成膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16939788U JPH0610679Y2 (ja) | 1988-12-29 | 1988-12-29 | 連続インライン式成膜装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0291340U JPH0291340U (enrdf_load_stackoverflow) | 1990-07-19 |
JPH0610679Y2 true JPH0610679Y2 (ja) | 1994-03-16 |
Family
ID=31459417
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16939788U Expired - Lifetime JPH0610679Y2 (ja) | 1988-12-29 | 1988-12-29 | 連続インライン式成膜装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0610679Y2 (enrdf_load_stackoverflow) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6719848B2 (en) * | 2001-08-16 | 2004-04-13 | First Solar, Llc | Chemical vapor deposition system |
JP6196078B2 (ja) * | 2012-10-18 | 2017-09-13 | 株式会社アルバック | 成膜装置 |
-
1988
- 1988-12-29 JP JP16939788U patent/JPH0610679Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0291340U (enrdf_load_stackoverflow) | 1990-07-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7628574B2 (en) | Apparatus and method for processing substrates using one or more vacuum transfer chamber units | |
JP4312787B2 (ja) | 減圧乾燥装置 | |
JP5478280B2 (ja) | 基板加熱装置および基板加熱方法、ならびに基板処理システム | |
JP2003059999A (ja) | 処理システム | |
KR20060106751A (ko) | 로드 로크 장치, 처리 시스템 및 처리 방법 | |
JP2009094242A (ja) | 基板保持機構、基板受渡機構、及び基板処理装置 | |
JP5192719B2 (ja) | 加熱装置および基板処理装置 | |
JP4850372B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JPH0610679Y2 (ja) | 連続インライン式成膜装置 | |
JP3604241B2 (ja) | 縦型熱処理装置 | |
JP4098283B2 (ja) | スパッタリング装置 | |
WO2012053430A1 (ja) | 蒸着装置及び蒸着方法 | |
JP3970184B2 (ja) | 処理装置 | |
JP4043009B2 (ja) | 基板処理装置、基板処理方法および基板処理システム | |
JP4471487B2 (ja) | 真空処理装置、真空処理方法 | |
JP4776061B2 (ja) | 薄膜形成装置 | |
JP2000091218A (ja) | 加熱処理方法及び加熱処理装置 | |
KR20110066864A (ko) | 기판처리장치, 기판처리방법 및 이 기판처리방법을 실행시키기 위한 프로그램을 기록한 기록매체 | |
JP3901754B2 (ja) | 基板保持装置、スパッタリング装置、基板交換方法、スパッタリング方法 | |
JP2000144430A (ja) | 真空処理装置及びマルチチャンバ型真空処理装置 | |
JP2011117085A (ja) | ロードロック室及びそれを備えた薄膜形成装置 | |
JP3580916B2 (ja) | 基板加熱装置 | |
JPH0610680Y2 (ja) | インライン式成膜装置の搬送機構 | |
JPH0630156U (ja) | 基板処理装置 | |
JPH08107076A (ja) | バッチ式減圧cvd装置 |