JPH06103733B2 - マルチプレクサ - Google Patents

マルチプレクサ

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JPH06103733B2
JPH06103733B2 JP63060859A JP6085988A JPH06103733B2 JP H06103733 B2 JPH06103733 B2 JP H06103733B2 JP 63060859 A JP63060859 A JP 63060859A JP 6085988 A JP6085988 A JP 6085988A JP H06103733 B2 JPH06103733 B2 JP H06103733B2
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JP
Japan
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type
transmission gate
channel
analog input
multiplexer
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JP63060859A
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清伸 日野岡
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はマルチプレクサに関し、特にA−D変換器のア
ナログ入力チャネル選択用のマルチプレクサに関する。
〔従来の技術〕
近年、半導体基板上に相補型MOSトランジスタで形成さ
れたA−D変換器においては、分解能を向上させた高精
度化がはかられている。又、自動車のエンジン制御等の
ノイズの多い環境で使用される場合が多くなっている。
さて、これらのA−D変換器は通常、複数のアナログ入
力チャネルを有しているが、ノイズの多い環境で使用さ
れている場合、非選択のアナログ入力チャネルからのノ
イズにより、マルチプレクサの出力に不要な信号を発生
し、A−D変換の精度が著るしく悪化するという問題を
生じている。
第6図は従来のマルチプレクサの一例を示す等価回路
図、第7図は第6図のマルチプレクサを説明するための
レイアウト図、第8図は第7図のY−Y′線断面模式図
である。
第6図及び第7図に示すように、例えばアナログ入力
A1,A2,A3に入力端をそれぞれ接続された伝達ゲート
G1,G2,G3と、伝達ゲートG1,G2,G3の各出力端を接続
した節点N2からなるマルチプレクサの伝達ゲートG1はp
型半導体基板4に設けたnチャネルMOSトランジスタQ1
とp型半導体基板4の表面に設けたn型ウェル1に設け
たpチャネルMOSトランジスタQ2を並列に接続して設け
られ、ぞれぞれのゲート電極には伝達ゲートQ1を選択又
は非選択とするための信号a及びが印加され、p型半
導体基板4は接地されている。
ここで、伝達ゲートG1が非選択時のとき、第8図に示す
ように、aが接地電位(以下GNDと記す)でが電源電
圧VDDレベルの非選択の伝達ゲートG1のアナログ入力A1
に接地電位以下のノイズが入ったとする。この電位が、
nチャネルMOSトランジスタのソース・ドレインのn+
拡散領域5とp型半導体基板4との間で形成されるpn接
合の内蔵電圧以下の場合には、アナログ入力A1に接続さ
れたn+型拡散領域5が、順方向にバイアスされ電子が、
p型半導体基板4の中へ注入されることになる。この電
子は、npnの横型バイポーラトランジスタ動作で節点N2
に接続されたn+型拡散領域7内に吸収される。この電子
によって節点N2の電位は下がるため、節点N2に接続され
た次段のコンパレータの入力電位が変化してしまい変換
誤差を生じる。
また、アナログ入力A1の電位が、電源電圧VDD以上にな
った場合には、同様の理由でアナログ入力A1に接続され
たp+型拡散領域8から正孔が注入される。この正孔はpn
p横型バイポーラトランジスタ動作で節点N2に接続され
たp+型散領域9に吸収され節点N2の電位は上昇し、変換
誤差を生じる。
〔発明が解決しようとする課題〕
上述した従来のマルチプレクサは、アナログ入力に接地
電位以下のノイズ又は電源電圧以上のノイズが混入した
場合には、非選択の伝達ゲートに不要の電流を生じ、マ
ルチプレクサの変換誤差を生じてA−D変換の精度が悪
化するという問題点がある。
又、この特性の悪化は、変換精度の高いA−D変換器ほ
ど影響が大きい。従って今後、高精度のA−D変換器が
要求されるのに伴なって増々影響が大きくなるという問
題点がある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明のマルチプレクサは、p型(又はn型)の半導体
基板及び前記半導体基板の一主面に設けたn型(又はp
型)ウエルのそれぞれに設けたnチャネル(又はpチャ
ネル)MOSトランジスタ及びpチャネル(又はnチャネ
ル)MOSトランジスタを並列に接続した伝達ゲートによ
りアナログ入力チャネルを選択するマルチプレクサにお
いて、複数の前記アナログ入力チャネルのそれぞれに入
力端を接続して設けた第1の伝送ゲート群と、前記第1
の伝送ゲートの出力端の各々にそれぞれの入力端を直列
接続し且つ出力端を並列接続して設けた第2の伝送ゲー
ト群と、前記第1の伝達ゲート群との前記第2のゲート
群との間の前記半導体基板に設けて前記第1の伝達ゲー
ト群と第2の伝送ゲート群とを分離するためのn型(又
はp型)の拡散領域とを有している。
〔実施例〕
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明す
る。
第1図は本発明の第1の実施例を説明するためのレイア
ウト図、第2図は本発明の第1の実施例の等価回路図、
第3図は第1図のX−X′線断面模式図、第4図は本発
明の第1の実施例の動作を説明するための等価回路図で
ある。
第1図及び第2図に示すように、p型半導体基板上にn
型ウェル1を選択的に設け、前記p型半導体基板の一主
面にnチャネルMOSトランジスタQ1,Q7を設け、n型ウ
ェル1の表面にpチャネルMOSトランジスタQ2,Q8を設
ける。nチャネルMOSトランジスタQ1とpチャネルMOSト
ランジスタQ2を並列接続して伝達ゲートG1を構成し、伝
達ゲートG1の入力端をアナログ入力A1に接続する。nチ
ャネルMOSトランジスタQ7とpチャネルMOSトランジスタ
Q8を並列して伝達ゲートG4を構成し、伝達ゲートG4の入
力端を伝達ゲートG1の出力端に接続する。同様にして、
アナログ入力A2,A3にそれぞれ入力端を接続した伝達ゲ
ートG2,G3及び伝達ゲートG2,G3の出力端に入力端を接
続した伝達ゲートG5,G6を設ける。
伝達ゲートG4,G5,G6のそれぞれの出力端を接続した節
点N1を設け、伝送ゲート群G1,G2,G3と伝送ゲート群
G4,G5,G6との中間に設けたn型ウェル2及びn型ウェ
ル2の領域内に設けたn+型拡散領域をVcc電位に固定
し、伝送ゲート群G1,G2,G3と伝送ゲート群G4,G5,G6
を分離する。
第3図に示すように、従来例と同様にアナログ入力A1
接地電位より低いノイズが入力されてn+型拡散領域5か
ら電子が注入される。しかし、電子を吸収すると変換誤
差を生じる節点N1に接続されたn+型拡散領域6は電子の
注入源となるn+型拡散領域5の近傍には存在せず、しか
も中間を分離するように比較的深いn型ウェル2が存在
するため、このn型ウェル2がコレクタとなって、電子
を吸収する。従って、節点N1に接続されたn+型拡散領域
6には、n+型拡散領域5から注入した電子は直接吸収さ
れることはなくなる。又、節点N1とアナログ入力A1は第
4図のごとく、非選択のMOSトランジスタQ1のソース・
ドレインで形成されるラテラルバイポーラトランジスタ
Q13と、MOSトランジスタQ7のソース・ドレインで形成さ
れるラテラルバイポーラトランジスタQ14を直列に接続
したバイポーラ回路を介して接続されることになる。こ
の場合、n+型拡散領域5すなわちQ13のエミッタからは
電子が注入されQ13はONしていることになる。
この状態でQ14がONすると、従来例と同様に、節点N1
電子が注入され、変換誤差を生じるわけであるが、この
ためには、Q13のエミッタとベースのpn接合の順方向電
圧VF1とQ14のエミッタとベースのpn接合の順方向電圧V
F2とした場合、アナログ入力に入ったノズルが GND−(VF1+VF2) ……(1) 以下にならなければならない。これによってGND以下の
ノイズに対しては、2倍のマージンができる。さらにQ
13のエミッタ電位は、GND−VF1でクランプされようとす
るため、Q13のエミッタ電位が(1)式の値以下になる
確率は、さらに低くなる。このように、GND以下のノイ
ズに対しての耐量は、強化される。次に、VDD以上のノ
イズがアナログ入力に入った場合を考える。この場合、
第1図から明らかなように、アナログ入力に接続された
pチャネルMOSトランジスタと、節点N1に接続されたp
チャネルMOSトランジスタは、同一n型ウェル内に存在
していないため、状況は、GND以下のノイズが入った場
合と同様となり、VDD以上のノイズに対する耐量も強化
される。
第5図は本発明の第2の実施例を説明するためのレイア
ウト図である。
第5図に示すように、アナログ入力A1,A2,A3に接続さ
れた伝達ゲートG1,G2,G3を構成するMOSトランジスタ
を同一チャネル型が隣り合わないように、pチャネルMO
SトランジスタとnチャネルMOSトランジスタを交互に配
置して設けた以外は第1の実施例と同じ構成を有する。
例えば、第1の実施例において、アナログ入力A3が選択
された非選択のアナログ入力A2からGNDレベル以下のノ
イズが入った場合Q3とQ4が隣り合っているために、Q5
入力端子に接続されたn+型拡散領域から注入された電子
が、Q3のn+型拡散領域に吸収され変換誤差を生じる場合
があるが、この現象は、隣り合うアナログ入力チャネル
間のみで生ずるため、第2の実施例のようにアナログ入
力側伝達ゲート群のpチャネルMOSトランジスタとnチ
ャネルトランジスタを交互に配置することにより防止で
きる効果がある。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、複数のアナログ入力チャ
ネルを有するA−D変換器において、アナログ入力チャ
ネル選択用のマルチプレクサを構成するトランスファー
ゲートを2段構成にし、入力端子に接続された1段目の
マルチプレクサ群と、2段目のマルチプレクサ群の間に
電位を固定した基板と逆導電型の拡散領域を配置して両
者を分離することにより、非選択アナログ入力チャネル
に混入するノイズに妨害されることなくA−D変換器の
変換精度を向上させるという効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例を説明するためのレイア
ウト図、第2図は本発明の第1の実施例の等価回路図、
第3図は第1図のX−X′線断面模式図、第4図は本発
明の第1の実施例の動作を説明するための等価回路図、
第5図は本発明の第2の実施例を説明するためのレイア
ウト図、第6図は従来のマルチプレクサの一例を示す等
価回路図、第7図は従来のマルチプレクサを説明するた
めのレイアウト図、第8図は第7図のY−Y′線断面模
式図である。 1,2……n型ウェル、3……n+型拡散領域、4……p型
半導体基板、5,6,7……n+型拡散領域、8,9……p+型拡散
領域、A1,A2,A3……アナログ入力、G1,G2,G3,G4
G5,G6……伝達ゲート、Q1,Q3,Q5,Q7,Q9,Q11……
nチャネルMOSトランジスタ、Q2,Q4,Q6,Q8,Q10,Q
12……pチャネルMOSトランジスタ、Q13,Q14……バイ
ポーラトランジスタ、N1,N2……節点。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】p型(又はn型)の半導体基板及び前記半
    導体基板の一主面に設けたn型(又はp型)ウエルのそ
    れぞれに設けたnチャネル(又はpチャネル)MOSトラ
    ンジスタ及びpチャネル(又はnチャネル)MOSトラン
    ジスタを並列に接続した伝達ゲートによりアナログ入力
    チャネルを選択するマルチプレクサにおいて、複数の前
    記アナログ入力チャネルのそれぞれに入力端を接続して
    設けた第1の伝送ゲート群と、前記第1の伝送ゲートの
    出力端の各々にそれぞれの入力端を直列接続し且つ出力
    端を並列接続して設けた第2の伝送ゲート群と、前記第
    1の伝達ゲート群と前記第2のゲート群との間の前記半
    導体基板に設けて前記第1の伝達ゲート群と第2の伝送
    ゲート群とを分離するためのn型(又はp型)の拡散領
    域とを有することを特徴とするマルチプレクサ。
JP63060859A 1988-03-14 1988-03-14 マルチプレクサ Expired - Lifetime JPH06103733B2 (ja)

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JPH01233750A JPH01233750A (ja) 1989-09-19
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JP3597636B2 (ja) * 1996-05-07 2004-12-08 株式会社ルネサステクノロジ サブレンジング型a/d変換器
JP3847631B2 (ja) 2002-01-30 2006-11-22 株式会社ルネサステクノロジ アナログ入力選択回路

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JPH01233750A (ja) 1989-09-19

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