JPH06103237B2 - ダイヤフラム型圧力センサー - Google Patents

ダイヤフラム型圧力センサー

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JPH06103237B2
JPH06103237B2 JP14130788A JP14130788A JPH06103237B2 JP H06103237 B2 JPH06103237 B2 JP H06103237B2 JP 14130788 A JP14130788 A JP 14130788A JP 14130788 A JP14130788 A JP 14130788A JP H06103237 B2 JPH06103237 B2 JP H06103237B2
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JP
Japan
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pressure sensor
single crystal
silicon carbide
electrode
substrate
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JP14130788A
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良久 藤井
彰 鈴木
光浩 繁田
勝紀 古川
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Sharp Corp
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Sharp Corp
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Description

【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明は、各種産業機器や各種検査装置の分野で自動化
あるいは省力化または高性能化のために広く用いられて
いる圧力センサーの改良でダイヤフラム型圧力センサー
に関するものである。
<従来の技術> 従来、圧力センサーには、大別すると機械的な外圧が作
用することにより抵抗値が変化する所謂ピエゾ効果を利
用するものと、ダイヤフラムが圧力を受けて撓わみ、こ
れにより静電容量が変化することを利用するものの2通
りがある。
ここで前者のピエゾ効果によるものは方式が全く異な
り、本発明とは比較対象外であるため詳細な説明を省略
し、後者の静電容量変化によるものについて述べると、
この場合は、珪素板を機械加工やエッチングによって薄
く仕上げて形成したダイヤフラム(隔膜)と、他方の基
板上に設けた電極とを対向させ、上記ダイヤフラムが圧
力を受けて変形した時に生じる静電容量変化から上記圧
力を算出しようとするものである。
又、珪素単結晶基板を用いることにより、1個のチップ
上に、珪素半導体にて構成された信号処理回路と、圧力
センサーとを集積一体化して異なる2つの複合機能をも
たせたものもある。
その他上記珪素半導体に比べてバンドギャップが広く、
熱的、化学的、機械的に極めて安定し、しかも該珪素半
導体では実現不可能な高温条件下で、高出力動作用電子
素子材料としてβ型炭化珪素半導体の研究開発がある
が、これは大面積、高品質のβ型炭化珪素基板を工業的
に安定量産し得る方法がなかったために、各方面への実
用化はもとよりなく、センサーに関する応用例もみられ
なかった。
しかし、他方ではβ型炭化珪素膜を形成する手段として
珪素基板上に気相成長法(CVD法)を用いて薄膜を得る
方法(特開昭59−203799号)があり、これによれば安価
で入手の容易な珪素基板上に、工業的に量産に適した大
面積のβ型炭化珪素単結晶を形成でき、また成長過程で
適当なドーパントを添加することにより、炭化珪素単結
晶の伝導型や、不純物濃度を制御することが可能であ
り、β型炭化珪素を用いた各種半導体素子が開発されて
いる。
<発明が解決しようとする課題> しかし、上記圧力センサーには珪素板の薄いダイヤフラ
ムが不可欠であり、通常厚さ数100[μm]の珪素基板
をエッチング液等を用いて部分的にエッチングすること
によって形成しているので、このような方法は非常に長
時間を要すると共に、該エッチング深さを制御するため
の製作プロセスが複雑となる。
又、ダイヤフラムの厚さ及びその均一性を制御すること
が困難であり、そしてこうした圧力センサーはダイヤフ
ラムの撓みを利用するものであるため材料自体の機械的
強度が要求されるが、珪素板ではこの点についても要求
を満たすことができない。
そこで、本発明は上記従来例における欠点に対処し、高
品質のダイヤフラムを備えた圧力センサーを提供するも
のである。
<課題を解決するための手段> 珪素基板上にCVD法によってβ型炭化珪素単結晶膜を形
成すると共に、該珪素基板の一部をエッチングによって
除去することにより露出した該炭化珪素単結晶膜面に電
極を設け、該電極との間に間隙を介して対向電極を設け
てなる。
<作用> 珪素基板上に形成されたβ型炭化珪素単結晶膜を電極支
持部材とすることにより、該単結晶膜の圧力による敏感
な撓みによる静電容量変化から圧力を算出する。
<実施例> 以下、本発明について図面に示す実施例により詳細に説
明すると、第1図に示すように珪素基板2の上面に厚さ
50[μm]のβ型炭化珪素単結晶膜1を堆積形成すると
共に、前記珪素基板2の一部をエッチングによって除去
して欠除部2aを形成する。尚、この際の欠除部2aは前記
結晶膜1に至る深さでも良く、又、僅かに珪素基板2が
該結晶膜1の面に残存する状態であっても良い。
こうして、珪素基板2に形成した欠除部2aの部分に、第
3図のようにアルミニウム電極3を真空蒸着によって形
成し、更に上記とは別に、上面に予めアルミニウム電極
4を真空蒸着によって形成したガラス基板5を、該珪素
基板2の他側面に、該電極4が前記単結晶膜1上の電極
3と向き合うように対設してコンデンサを形成し、更に
前記β型炭化珪素単結晶基板によって形成されたダイヤ
フラム部以外の該単結晶の半導体上に半導体技術によっ
て信号処理回路1aを形成する。
尚、上記実施例では信号処理回路はβ型炭化珪素単結晶
の半導体に形成したが、該炭化珪素単結晶膜を部分的に
エッチングにより除去するかあるいは珪素基板に予め部
分的に炭化珪素膜が形成されたものを用いて珪素半導体
基板に信号処理回路を形成しても良い。
つまり、珪素単結晶基板あるいはβ型炭化珪素単結晶膜
内にダイオード、トランジスタなどの回路素子を形成す
ることにより、該回路素子と静電容量型の圧力センサー
とを一体的に形成することができ、しかも回路素子と圧
力センサーとの組合わせにより検出した圧力を直ちに増
幅したりあるいは変調したりするなどの処理が可能であ
る。
<発明の効果> 本発明は、上述のように構成されているので製作容易、
しかも安定性、機械的強度に優れ、それに感度の高い優
れた圧力センサーを提供できるなどの効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第4図は本発明実施例を示し、 第1図は、β型炭化珪素単結晶膜が珪素基板上に形成さ
れている状態を示す縦断側面図、 第2図は、エッチング状態を示す縦断側面図、 第3図は、対向電極板を設けた状態の縦断側面図、 第4図は、信号処理回路を集積形成した状態を示す縦断
側面図である。 1…β型炭化珪素単結晶膜、 1a…信号処理回路、2…珪素基板 2a…欠除部、3,4…アルミニウム電極 5…ガラス基板

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】適当な厚みの珪素基板の表面にβ型炭化珪
    素単結晶膜を形成した後、前記珪素基板の所定範囲をエ
    ッチングによって適当な深さまで除去して薄膜化したエ
    ッチング面にアルミニウム電極を蒸着によって設けると
    共に、該アルミニウム電極との間に空気間隙を介して対
    向電極を設けることを特徴とするダイヤフラム型圧力セ
    ンサー。
JP14130788A 1988-06-08 1988-06-08 ダイヤフラム型圧力センサー Expired - Lifetime JPH06103237B2 (ja)

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JPH01311240A JPH01311240A (ja) 1989-12-15
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CN112097966B (zh) * 2020-09-10 2021-09-21 绍兴精传传感科技有限公司 一种电容式碳化硅高温压力传感器及其制备方法

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