JPH06100842B2 - 高耐湿長寿命電子写真感光体及びその製法 - Google Patents
高耐湿長寿命電子写真感光体及びその製法Info
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- JPH06100842B2 JPH06100842B2 JP63212582A JP21258288A JPH06100842B2 JP H06100842 B2 JPH06100842 B2 JP H06100842B2 JP 63212582 A JP63212582 A JP 63212582A JP 21258288 A JP21258288 A JP 21258288A JP H06100842 B2 JPH06100842 B2 JP H06100842B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、電子写真用感光体に係わり、高湿下で印刷し
ても良好な画像を形成させるのに好適なアモルフアスシ
リコン感光体に関する。
ても良好な画像を形成させるのに好適なアモルフアスシ
リコン感光体に関する。
電子写真用感光体としては、従来からSe、CdS、As2Se3
などの無機光導電材若しくはフタロシアニン系顔料に代
表されるような有機光導電材が用いられている。これら
の材料は電子写真特性には優れた特性を有するものの、
機械的特性においては硬度が小さく、耐摩耗性に劣るな
どの欠点を有している。これに対しアモルフアスシリコ
ン感光体は硬度が高く耐摩耗性が優れていることから長
寿命の電子写真感光体として期待されている。
などの無機光導電材若しくはフタロシアニン系顔料に代
表されるような有機光導電材が用いられている。これら
の材料は電子写真特性には優れた特性を有するものの、
機械的特性においては硬度が小さく、耐摩耗性に劣るな
どの欠点を有している。これに対しアモルフアスシリコ
ン感光体は硬度が高く耐摩耗性が優れていることから長
寿命の電子写真感光体として期待されている。
しかしながらアモルフアスシリコン感光体には耐湿性に
劣るという欠点がある。このため、ａ−SiC:Hなどを表
面保護層として設けることが一般的となつているが、十
分とはいえない。
劣るという欠点がある。このため、ａ−SiC:Hなどを表
面保護層として設けることが一般的となつているが、十
分とはいえない。
電子写真の印字プロセスにおいては、コロナ放電による
帯電プロセスが存在するため、印字プロセスの繰返しに
より表面保護層が酸化し、耐湿性が劣化する。このよう
な耐湿性の劣化を防止するため、表面保護層として、例
えば特開昭63−191152号公報に記載されているようにａ
−C:H:F膜あるいは特開昭55−142352号、同55−70848号
各公報に記載されているように熱可塑性樹脂膜を設ける
方法が開示されている。しかし、上記方法では耐湿性と
電子写真感光体の表面保護層として要求される他の特
性、すなわち耐摩耗性、クリーニング性とが必らずしも
並立しないという問題があり、特にフツ素系材料を表面
保護層に用いる場合には、耐湿性が大きく向上するもの
の、耐摩耗性及びクリーニング性が著しく劣化するとい
う欠点があつた。特開昭55−7762号公報には、パーフル
オロアルケニル基を含む化合物層を銀塩写真感光層の構
成層の少なくとも一層中に含有させることが記載されて
いる。
帯電プロセスが存在するため、印字プロセスの繰返しに
より表面保護層が酸化し、耐湿性が劣化する。このよう
な耐湿性の劣化を防止するため、表面保護層として、例
えば特開昭63−191152号公報に記載されているようにａ
−C:H:F膜あるいは特開昭55−142352号、同55−70848号
各公報に記載されているように熱可塑性樹脂膜を設ける
方法が開示されている。しかし、上記方法では耐湿性と
電子写真感光体の表面保護層として要求される他の特
性、すなわち耐摩耗性、クリーニング性とが必らずしも
並立しないという問題があり、特にフツ素系材料を表面
保護層に用いる場合には、耐湿性が大きく向上するもの
の、耐摩耗性及びクリーニング性が著しく劣化するとい
う欠点があつた。特開昭55−7762号公報には、パーフル
オロアルケニル基を含む化合物層を銀塩写真感光層の構
成層の少なくとも一層中に含有させることが記載されて
いる。
上記従来技術は、電子写真用感光体の表面保護層として
要求される耐湿性、耐摩耗性及びクリーニング性の各々
の特性を十分に満足するには至らず、印字プロセス繰返
し後に特に高湿下で画像流れが発生する、ａ−Si:H感光
体の欠点を十分に克服できないという問題があつた。
要求される耐湿性、耐摩耗性及びクリーニング性の各々
の特性を十分に満足するには至らず、印字プロセス繰返
し後に特に高湿下で画像流れが発生する、ａ−Si:H感光
体の欠点を十分に克服できないという問題があつた。
本発明の目的は、コロナ帯電繰返し後の耐湿性に優れ、
かつ耐摩耗性、クリーニング性にも優れる表面保護層を
設けたａ−Si:H感光体を提供することにある。
かつ耐摩耗性、クリーニング性にも優れる表面保護層を
設けたａ−Si:H感光体を提供することにある。
本発明の他の目的は上記表面保護層の形成法を提供する
ことにある。
ことにある。
本発明を概説すれば、本発明の第１の発明は電子写真感
光体に関する発明であつて、水素化アモルフアスシリコ
ン系材料によりなる光導電層と該光導電層の支持体とを
具備する電子写真感光体において、該感光体の最表面部
にパーフルオロポリオキシアルキルグループ又はパーフ
ルオロポリオキシアルキレングループを骨格とする表面
保護潤滑層を有し、該表面保護潤滑層の下部に隣接して
有機高分子バインダー層を有していることを特徴とす
る。
光体に関する発明であつて、水素化アモルフアスシリコ
ン系材料によりなる光導電層と該光導電層の支持体とを
具備する電子写真感光体において、該感光体の最表面部
にパーフルオロポリオキシアルキルグループ又はパーフ
ルオロポリオキシアルキレングループを骨格とする表面
保護潤滑層を有し、該表面保護潤滑層の下部に隣接して
有機高分子バインダー層を有していることを特徴とす
る。
また、本発明の第２の発明は電子写真感光体の製造方法
に関する発明であつて、第１の発明の電子写真感光体を
製造するに際し、感光体最表面の表面保護潤滑層及びバ
インダー層に相当する膜を形成させ、その後熱処理を行
うことを特徴とする。
に関する発明であつて、第１の発明の電子写真感光体を
製造するに際し、感光体最表面の表面保護潤滑層及びバ
インダー層に相当する膜を形成させ、その後熱処理を行
うことを特徴とする。
そして、本発明の第３の発明は電子写真装置に関する発
明であつて第１の発明の電子写真感光体を使用してなる
ことを特徴とする。
明であつて第１の発明の電子写真感光体を使用してなる
ことを特徴とする。
前記目的は、ａ−Si:H感光体表面に有機高分子バインダ
ー層とその上にパーフルオロポリオキシアルキルグルー
プ又はパーフルオロポリオキシアルキレングループを骨
格とする表面保護潤滑層を形成することにより達成され
る。バインダー層中には、パーフルオロポリオキシアル
キルグループ又はパーフルオロポリオキシアルキレング
ループと非フツ素含有グループが結合した構造の潤滑剤
を含み、パーフルオロポリオキシアルキルグループ又は
パーフルオロポリオキシアルキレングループはバインダ
ー層表面に析出し表面保護潤滑層を形成する。また、潤
滑剤の非フツ素含有グループはバインダー層中に埋込み
固定されることにより、コロナ照射後の耐湿性に優れ、
耐摩耗性、クリーニング性にも優れる電子写真感光体を
実現できる。
ー層とその上にパーフルオロポリオキシアルキルグルー
プ又はパーフルオロポリオキシアルキレングループを骨
格とする表面保護潤滑層を形成することにより達成され
る。バインダー層中には、パーフルオロポリオキシアル
キルグループ又はパーフルオロポリオキシアルキレング
ループと非フツ素含有グループが結合した構造の潤滑剤
を含み、パーフルオロポリオキシアルキルグループ又は
パーフルオロポリオキシアルキレングループはバインダ
ー層表面に析出し表面保護潤滑層を形成する。また、潤
滑剤の非フツ素含有グループはバインダー層中に埋込み
固定されることにより、コロナ照射後の耐湿性に優れ、
耐摩耗性、クリーニング性にも優れる電子写真感光体を
実現できる。
本発明に用いる潤滑剤は、例えば下記一般式： 〔式中、Rfはパーフルオロポリオキシアルキルグルー
プ、又はパーフルオロポリオキシアルキレングループ、
R1は直接結合、-CH2-、-CO-又は-CONH-基、R2は炭素数
２又は３のオキシアルキレン基、R3は直接結合、-Ｏ-、
-COO-、-CONH-、-NHCO-、-OCpH2p-（ｐは１又は２の数
を示す）又は-C(CH3)2-基で、繰返しごとに異なつてい
てもよい。ｍは０以上の整数、ｎは１以上の整数、ｌは
１又は２の数を示す〕で表される化合物である。
プ、又はパーフルオロポリオキシアルキレングループ、
R1は直接結合、-CH2-、-CO-又は-CONH-基、R2は炭素数
２又は３のオキシアルキレン基、R3は直接結合、-Ｏ-、
-COO-、-CONH-、-NHCO-、-OCpH2p-（ｐは１又は２の数
を示す）又は-C(CH3)2-基で、繰返しごとに異なつてい
てもよい。ｍは０以上の整数、ｎは１以上の整数、ｌは
１又は２の数を示す〕で表される化合物である。
非フツ素含有グループは、 で表される。
本発明でいうパーフルオロポリオキシアルキルグループ
（Rf）の例には、下記一般式： F(C3F6-O-)x-C2F4-又は F(C3F6-O-)x-(CF2O)y-(CF2)z-を挙げることができる。
（Rf）の例には、下記一般式： F(C3F6-O-)x-C2F4-又は F(C3F6-O-)x-(CF2O)y-(CF2)z-を挙げることができる。
パーフルオロポリオキシアルキレングループとしては、
例えば、-(C2F4O)y-(CF2O)2-CF2-を挙げることができ
る。
例えば、-(C2F4O)y-(CF2O)2-CF2-を挙げることができ
る。
式中、x,y,zは１以上の整数、望ましくは、ｘは５以
上、ｙは10〜25、ｚは10〜56である。これらのフツ素化
合物の例は、デユポン社から市販されているクライトツ
クス143あるいは、モンテフルオス社のホンブリンＹ、
ホンブリンＺなどがある。
上、ｙは10〜25、ｚは10〜56である。これらのフツ素化
合物の例は、デユポン社から市販されているクライトツ
クス143あるいは、モンテフルオス社のホンブリンＹ、
ホンブリンＺなどがある。
このときのパーフルオロポリオキシアルキルグループ又
はパーフルオロポリオキシアルキレングループと非フツ
素含有グループを結合した構造の潤滑剤は具体的な例と
しては、以下の化合物がある。
はパーフルオロポリオキシアルキレングループと非フツ
素含有グループを結合した構造の潤滑剤は具体的な例と
しては、以下の化合物がある。
（式中、Rfはパーフルオロポリオキシアルキルグループ
又はパーフルオロポリオキシアルキレングループ） 本発明に用いる有機高分子バインダーは特に限定されな
いが、硬化後少なくとも一部架橋していることが必要で
ある。ａ−Si:H感光体の場合、硬化温度が高すぎると感
光層中の水素が脱離し、光導電性などの電子写真特性が
低下する可能性があるため、バインダーとしては300℃
以下望ましくは250℃以下で硬化するものが好適であ
る。
又はパーフルオロポリオキシアルキレングループ） 本発明に用いる有機高分子バインダーは特に限定されな
いが、硬化後少なくとも一部架橋していることが必要で
ある。ａ−Si:H感光体の場合、硬化温度が高すぎると感
光層中の水素が脱離し、光導電性などの電子写真特性が
低下する可能性があるため、バインダーとしては300℃
以下望ましくは250℃以下で硬化するものが好適であ
る。
バインダー層の有機高分子材料の具体例としては、例え
ばエポキシ系樹脂、フエノール系樹脂、メラニン樹脂、
ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、
ポリエステル樹脂、ポリエーテルアミド樹脂、塩化ビニ
リデン樹脂などの熱硬化性樹脂あるいは熱可塑性樹脂が
挙げられる。
ばエポキシ系樹脂、フエノール系樹脂、メラニン樹脂、
ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、
ポリエステル樹脂、ポリエーテルアミド樹脂、塩化ビニ
リデン樹脂などの熱硬化性樹脂あるいは熱可塑性樹脂が
挙げられる。
次にａ−Si:H感光体表面にバインダー層、表面保護潤滑
層を形成する方法の代表例を示す。まず、パーフルオロ
ポリオキシアルキルグループ又はパーフルオロポリオキ
シアルキレングループの潤滑剤と適当な公知の三次元硬
化型バインダー剤あるいは熱可塑性のバインダー剤とを
これらが良く溶解する有機溶剤、例えばメチルエチルケ
トンと酢酸ブチルセロソルブ、フロンソルベントの混合
したものに溶解する。その後この溶液の膜を感光体表面
に形成する。形成の方法は浸漬法、回転塗布法など適宜
選んでよい。その後、80〜120℃で0.5h〜2h程度の熱処
理を施し、溶剤を蒸発させる。この段階でパーフルオロ
ポリオキシアルキルグループ又はパーフルオロポリオキ
シアルキレングループはバインダーとの親和力が小さい
ためバインダー層表面に選択的に析出し表面保護潤滑層
を形成し、非フツ素含有グループはバインダー層中に埋
込み固定される。次いで180〜300℃で1h〜3hの熱処理を
行うことにより、バインダー層の架橋が促進されて、バ
インダー層中への非フツ素グループの固定がより強固な
ものになると共に表面保護潤滑層の形成も完成する。
層を形成する方法の代表例を示す。まず、パーフルオロ
ポリオキシアルキルグループ又はパーフルオロポリオキ
シアルキレングループの潤滑剤と適当な公知の三次元硬
化型バインダー剤あるいは熱可塑性のバインダー剤とを
これらが良く溶解する有機溶剤、例えばメチルエチルケ
トンと酢酸ブチルセロソルブ、フロンソルベントの混合
したものに溶解する。その後この溶液の膜を感光体表面
に形成する。形成の方法は浸漬法、回転塗布法など適宜
選んでよい。その後、80〜120℃で0.5h〜2h程度の熱処
理を施し、溶剤を蒸発させる。この段階でパーフルオロ
ポリオキシアルキルグループ又はパーフルオロポリオキ
シアルキレングループはバインダーとの親和力が小さい
ためバインダー層表面に選択的に析出し表面保護潤滑層
を形成し、非フツ素含有グループはバインダー層中に埋
込み固定される。次いで180〜300℃で1h〜3hの熱処理を
行うことにより、バインダー層の架橋が促進されて、バ
インダー層中への非フツ素グループの固定がより強固な
ものになると共に表面保護潤滑層の形成も完成する。
バインダー層と表面保護潤滑層の合計厚さは、厚すぎる
と電子写真感光体の残留特性などが悪化するため10〜10
00nmが望ましい。膜厚1000nm以下では上述の有機高分子
層を形成しても光導電性、帯電特性などに何らの影響を
及ぼすことはない。
と電子写真感光体の残留特性などが悪化するため10〜10
00nmが望ましい。膜厚1000nm以下では上述の有機高分子
層を形成しても光導電性、帯電特性などに何らの影響を
及ぼすことはない。
本発明の電子写真感光体は、パーフルオロポリオキシア
ルキルグループ又はパーフルオロポリオキシアルキレン
グループと非フツ素含有グループを結合した構造の潤滑
剤を混合した塗料を作成し、塗布することによつて、表
面保護層を形成し、パーフルオロポリオキシアルキルグ
ループ又はパーフルオロポリオキシアルキレングループ
が表面保護層表面に析出して表面保護潤滑層となり、非
フツ素グループはバインダー層中に埋込み固定される。
表面に析出するパーフルオロポリオキシアルキルグルー
プ又はパーフルオロポリオキシアルキレングループの濃
度は、塗布液のバインダー濃度あるいは潤滑剤濃度によ
つて変動するが、最良の条件では表面保護潤滑膜表面の
フツ素被覆率及びフツ素表面強度（XPSによるフツ素強
度分析の結果）はポリテトラフルオロエチレンと同等に
なる。そのため、耐湿性が大きく向上し、また、表面の
摩擦係数が低下するために耐摩耗性、耐クリーニング性
が向上し、長寿命の感光体が得られる。
ルキルグループ又はパーフルオロポリオキシアルキレン
グループと非フツ素含有グループを結合した構造の潤滑
剤を混合した塗料を作成し、塗布することによつて、表
面保護層を形成し、パーフルオロポリオキシアルキルグ
ループ又はパーフルオロポリオキシアルキレングループ
が表面保護層表面に析出して表面保護潤滑層となり、非
フツ素グループはバインダー層中に埋込み固定される。
表面に析出するパーフルオロポリオキシアルキルグルー
プ又はパーフルオロポリオキシアルキレングループの濃
度は、塗布液のバインダー濃度あるいは潤滑剤濃度によ
つて変動するが、最良の条件では表面保護潤滑膜表面の
フツ素被覆率及びフツ素表面強度（XPSによるフツ素強
度分析の結果）はポリテトラフルオロエチレンと同等に
なる。そのため、耐湿性が大きく向上し、また、表面の
摩擦係数が低下するために耐摩耗性、耐クリーニング性
が向上し、長寿命の感光体が得られる。
本発明において、表面保護潤滑層とバインダー層の膜厚
は、合せて10〜1000nmとし、特に10〜300nmであること
が好ましい。
は、合せて10〜1000nmとし、特に10〜300nmであること
が好ましい。
本発明の電子写真感光体の製造方法においては、本発明
の感光体をプラズマCVD法、光CVD法、反応性蒸着法又は
スパツタリング法により形成し、その後表面層を形成す
るのが好ましい。
の感光体をプラズマCVD法、光CVD法、反応性蒸着法又は
スパツタリング法により形成し、その後表面層を形成す
るのが好ましい。
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、
本発明はこれら実施例に限定されない。
本発明はこれら実施例に限定されない。
実施例１ 以下、本発明の実施例を第１図により説明する。第１図
は本発明によるａ−Si:H感光体の膜構造を示した概要図
である。第１図において、符号101はAl素管、102はブロ
ツキング層すなわち電荷注入阻止層、103は電荷搬送
層、104は電荷発生層、105は表面保護層、106は潤滑
剤、107は有機表面保護層、108は有機バインダー層、10
9は有機表面保護潤滑層を意味する。φ120×l400mmのAl
素管101上に、モノシラン、エチレン、ジボラン、水素
の混合ガスを用いてａ−SiC:H:Bのブロツキング層102
を、モノシラン、ジボラン、水素の混合ガスを用いてａ
−Si:H:Bの電荷搬送層103を、モノシラン、ゲルマン、
水素の混合ガスを用いてａ−SiGe:Hの電荷発生層104
を、次いでモノシラン、エチレン、水素を用いてａ−Si
C:Hの表面保護層105を、13.56MHzの高周波を印加するプ
ラズマ気相反応装置内で順次形成した。膜厚はブロツキ
ング層２μｍ、電荷搬送層30μｍ、電荷発生層１μｍ、
表面保護層0.5μｍである。
は本発明によるａ−Si:H感光体の膜構造を示した概要図
である。第１図において、符号101はAl素管、102はブロ
ツキング層すなわち電荷注入阻止層、103は電荷搬送
層、104は電荷発生層、105は表面保護層、106は潤滑
剤、107は有機表面保護層、108は有機バインダー層、10
9は有機表面保護潤滑層を意味する。φ120×l400mmのAl
素管101上に、モノシラン、エチレン、ジボラン、水素
の混合ガスを用いてａ−SiC:H:Bのブロツキング層102
を、モノシラン、ジボラン、水素の混合ガスを用いてａ
−Si:H:Bの電荷搬送層103を、モノシラン、ゲルマン、
水素の混合ガスを用いてａ−SiGe:Hの電荷発生層104
を、次いでモノシラン、エチレン、水素を用いてａ−Si
C:Hの表面保護層105を、13.56MHzの高周波を印加するプ
ラズマ気相反応装置内で順次形成した。膜厚はブロツキ
ング層２μｍ、電荷搬送層30μｍ、電荷発生層１μｍ、
表面保護層0.5μｍである。
次にこの感光体をプラズマ気相反応装置より取出し、本
発明になる有機表面保護層107を塗布した。塗布液とし
て、メチルエチルケトン1300g、酢酸エチレングリコー
ルモノ−ｎ−ブチルエーテル130g、フロンソルベント65
gを混ぜ合わせた溶剤に、エポキシ樹脂8.8g、フエノー
ル樹脂6.0g、トリエチルアンモニウムカリボール塩0.08
gを混合し、化学構造式が 〔式中RfはF〔CF(CF3)-CF2O〕n-CF(CF3)-でｎ＝平均1
4〕 で示される潤滑剤106の0.75gを更に混合したものを作製
した。この溶液に上述のａ−Si:H感光体を浸漬して、表
面に有機バインダー膜を成膜した後100℃1hの前段熱処
理、200℃2hの後段熱処理（バインダーの加熱硬化）を
施して有機表面保護層107を完成した。
発明になる有機表面保護層107を塗布した。塗布液とし
て、メチルエチルケトン1300g、酢酸エチレングリコー
ルモノ−ｎ−ブチルエーテル130g、フロンソルベント65
gを混ぜ合わせた溶剤に、エポキシ樹脂8.8g、フエノー
ル樹脂6.0g、トリエチルアンモニウムカリボール塩0.08
gを混合し、化学構造式が 〔式中RfはF〔CF(CF3)-CF2O〕n-CF(CF3)-でｎ＝平均1
4〕 で示される潤滑剤106の0.75gを更に混合したものを作製
した。この溶液に上述のａ−Si:H感光体を浸漬して、表
面に有機バインダー膜を成膜した後100℃1hの前段熱処
理、200℃2hの後段熱処理（バインダーの加熱硬化）を
施して有機表面保護層107を完成した。
成膜後の加熱により、有機バインダー層108の表面に潤
滑剤のパーフルオロポリオキシアルキルグループが配向
析出し、有機表面保護潤滑層109が形成され、有機バイ
ンダー層108中に潤滑剤の非フツ素含有グループが埋込
み固定される。有機表面保護層の膜厚は25nmであつた。
滑剤のパーフルオロポリオキシアルキルグループが配向
析出し、有機表面保護潤滑層109が形成され、有機バイ
ンダー層108中に潤滑剤の非フツ素含有グループが埋込
み固定される。有機表面保護層の膜厚は25nmであつた。
このようにして得た感光体を感光体特性評価機に装着
し、感光体を静止したままでコロナ照射試験を実施し
た。コロナ照射試験後の耐湿性を水との接触角により評
価した。結果を第２図に示す。第２図はコロナ照射時間
（ｈ）と接触角（度）との関係を示したグラフである。
第２図中には比較例１として有機表面保護層107を設け
ていない感光体の結果も合せて示した。本発明になる感
光体はコロナ照射15h後でも接触角の値が高く、良好な
耐湿性を示した。コロナ照射後の感光体を用いて印刷試
験を行つた結果、湿度80％RHの条件下で画像流れは観察
されず良好な画像が得られた。
し、感光体を静止したままでコロナ照射試験を実施し
た。コロナ照射試験後の耐湿性を水との接触角により評
価した。結果を第２図に示す。第２図はコロナ照射時間
（ｈ）と接触角（度）との関係を示したグラフである。
第２図中には比較例１として有機表面保護層107を設け
ていない感光体の結果も合せて示した。本発明になる感
光体はコロナ照射15h後でも接触角の値が高く、良好な
耐湿性を示した。コロナ照射後の感光体を用いて印刷試
験を行つた結果、湿度80％RHの条件下で画像流れは観察
されず良好な画像が得られた。
また、本発明のａ−Si:H感光体を用いて連続印刷試験を
実施した。プリンターは20℃、80％の相対湿度（RH）に
調整した恒温恒湿室内に設置して印刷試験を行つた。15
0万頁印刷後でもフイルミングなどが生じず、初期画像
と変わらず良好な画像が得られた。
実施した。プリンターは20℃、80％の相対湿度（RH）に
調整した恒温恒湿室内に設置して印刷試験を行つた。15
0万頁印刷後でもフイルミングなどが生じず、初期画像
と変わらず良好な画像が得られた。
実施例２ 3.5インチAl合金デイスク上にａ−Si:H膜を２μｍ、ａ
−SiC:H膜を0.5μｍプラズマCVD法にて積層した後、実
施例１と同様の方法で有機高分子表面保護層を形成し
た。こうして得られたデイスクの摺動耐久性を球面摺動
試験機で評価した。すなわちサフアイア球面摺動子（R3
0）に荷重2gを加え、周速4m/s、雰囲気温度25℃、湿度5
0％以下の条件でデイスクを回転させ膜が破損するまで
の総回転数を評価した。比較例２として表面に有機表面
保護層を形成していないａ−Si:H/a−SiC:Hの積層膜を
成膜したデイスクを作製した。
−SiC:H膜を0.5μｍプラズマCVD法にて積層した後、実
施例１と同様の方法で有機高分子表面保護層を形成し
た。こうして得られたデイスクの摺動耐久性を球面摺動
試験機で評価した。すなわちサフアイア球面摺動子（R3
0）に荷重2gを加え、周速4m/s、雰囲気温度25℃、湿度5
0％以下の条件でデイスクを回転させ膜が破損するまで
の総回転数を評価した。比較例２として表面に有機表面
保護層を形成していないａ−Si:H/a−SiC:Hの積層膜を
成膜したデイスクを作製した。
摺動試験の結果を第１表に示す。
第１表から明らかなように本発明の有機表面保護潤滑膜
は、比較例２と比べ膜が破損するまでの総回転数が大き
く、摺動耐久性に優れ、感光体表面保護層としての耐摩
耗性を十分に満足することが判明した。
は、比較例２と比べ膜が破損するまでの総回転数が大き
く、摺動耐久性に優れ、感光体表面保護層としての耐摩
耗性を十分に満足することが判明した。
実施例３ 実施例１及び実施例２と同様にして第１図の符号102〜1
05の４層構造のａ−Si:H感光体及び3.5インチデイスク
を作製した。次いで実施例１の塗布液のうち潤滑剤を第
２表に示す７種類に変えて、有機表面保護層を形成し
た。
05の４層構造のａ−Si:H感光体及び3.5インチデイスク
を作製した。次いで実施例１の塗布液のうち潤滑剤を第
２表に示す７種類に変えて、有機表面保護層を形成し
た。
式中RfはF(CF(CF3)-CF2O-)n-CF(CF3)-又はF(C3F6-O)n-
(CF2O)y-(CF2)z-又は -(C2F4O)y-(CF2O)z-CF2-で ｎ＝平均14、ｙ＝10〜25、ｚ＝10〜56 得られたａ−Si:H感光体に実施例１と同様のコロナ照射
試験を実施し、接触角の変化を評価したが、実施例１と
同様に良好な結果を得た。また、3.5インチデイスクに
対して摺動試験を実施したところ、第３表に示す結果を
得た。いずれも表面保護層として良好な結果が得られ
た。
(CF2O)y-(CF2)z-又は -(C2F4O)y-(CF2O)z-CF2-で ｎ＝平均14、ｙ＝10〜25、ｚ＝10〜56 得られたａ−Si:H感光体に実施例１と同様のコロナ照射
試験を実施し、接触角の変化を評価したが、実施例１と
同様に良好な結果を得た。また、3.5インチデイスクに
対して摺動試験を実施したところ、第３表に示す結果を
得た。いずれも表面保護層として良好な結果が得られ
た。
実施例４ 実施例１のａ−Si:H感光体作製において、表面保護層10
5としてａ−SiN:H膜、ａ−C:H膜、ａ−C:H:F膜を設けた
ものをそれぞれ作製し、実施例１の有機表面保護層を形
成した。実施例１と同様の結果が得られた。
5としてａ−SiN:H膜、ａ−C:H膜、ａ−C:H:F膜を設けた
ものをそれぞれ作製し、実施例１の有機表面保護層を形
成した。実施例１と同様の結果が得られた。
本発明によれば、本明細書記載の有機バインダー層及び
表面保護潤滑層をａ−Si:H感光体上に形成することによ
り、長期繰返し使用しても耐湿性、クリーニング性、耐
摩耗性に優れた長寿命の電子写真用感光体が実現でき
る。
表面保護潤滑層をａ−Si:H感光体上に形成することによ
り、長期繰返し使用しても耐湿性、クリーニング性、耐
摩耗性に優れた長寿命の電子写真用感光体が実現でき
る。
第１図は本発明の一実施例のａ−Si:H感光体の構造の概
略図、第２図は本発明の感光体表面における水の接触角
のコロナ照射時間による変化を示したグラフである。 101:Al素管、102:ブロツキング層、103:電荷搬送層、10
4:電荷発生層、105:表面保護層、106:潤滑剤、107:有機
表面保護層、108:有機バインダー層、109:有機表面保護
潤滑層
略図、第２図は本発明の感光体表面における水の接触角
のコロナ照射時間による変化を示したグラフである。 101:Al素管、102:ブロツキング層、103:電荷搬送層、10
4:電荷発生層、105:表面保護層、106:潤滑剤、107:有機
表面保護層、108:有機バインダー層、109:有機表面保護
潤滑層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小沼 重春 茨城県日立市久慈町4026番地 株式会社日 立製作所日立研究所内 (72)発明者 若木 政利 茨城県日立市久慈町4026番地 株式会社日 立製作所日立研究所内 (72)発明者 華園 雅信 茨城県日立市久慈町4026番地 株式会社日 立製作所日立研究所内 (72)発明者 庄司 三良 茨城県日立市久慈町4026番地 株式会社日 立製作所日立研究所内 (72)発明者 中川路 孝行 茨城県日立市久慈町4026番地 株式会社日 立製作所日立研究所内 (72)発明者 伊藤 豊 茨城県日立市久慈町4026番地 株式会社日 立製作所日立研究所内 (72)発明者 小松崎 茂樹 茨城県日立市久慈町4026番地 株式会社日 立製作所日立研究所内 (72)発明者 島村 泰夫 茨城県日立市東町４丁目13番地１号 日立 化成工業株式会社山崎工場内 (72)発明者 山岸 智明 茨城県日立市東町４丁目13番地１号 日立 化成工業株式会社山崎工場内 (56)参考文献 特開 昭62−206559（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−107254（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−7762（ＪＰ，Ａ)
Claims (10)
- 【請求項１】水素化アモルフアスシリコン系材料よりな
る光導電層と該光導電層の支持体とを具備する電子写真
感光体において、該感光体の最表面部にパーフルオロポ
リオキシアルキルグループ又はパーフルオロポリオキシ
アルキレングループを骨格とする表面保護潤滑層を有
し、該表面保護潤滑層の下部に隣接して有機高分子バイ
ンダー層を有していることを特徴とする電子写真感光
体。 - 【請求項２】該バインダー層が、パーフルオロポリオキ
シアルキルグループ又はパーフルオロポリオキシアルキ
レングループと非フッ素含有グループを結合した構造の
潤滑剤を含有しており、該パーフルオロポリオキシアル
キルグループ又はパーフルオロポリオキシアルキレング
ループはバインダー層表面に析出して表面保護潤滑層を
形成し、非フッ素含有グループはバインダー層中に固定
されている請求項１記載の電子写真感光体。 - 【請求項３】請求項１記載の電子写真感光体を製造する
に際し、感光体最表面の表面保護潤滑層及びバインダー
層に相当する膜を形成させ、その後熱処理を行うことを
特徴とする電子写真感光体の製造方法。 - 【請求項４】請求項１記載の電子写真感光体を使用して
なることを特徴とする電子写真装置。 - 【請求項５】導電性支持体上に電荷注入阻止層、電荷搬
送層、電荷発生層、該電荷発生層の保護層を順次有し、
前記電荷搬送層と前記電荷発生層がいずれも水素化アモ
ルフアスシリコン系材料よりなり且つ両層にて光導電層
を形成する電子写真感光体において、前記保護層表面に
有機高分子バインダー層を有し、該バインダー層中にパ
ーフルオロポリオキシアルキルグループ又はパーフルオ
ロポリオキシアルキレングループと非フッ素含有グルー
プとが結合した潤滑剤を含み、該パーフルオロポリオキ
シアルキルグループ又はパーフルオロポリオキシアルキ
レングループの一部がバインダー層の表面に析出してい
ることを特徴とする電子写真感光体。 - 【請求項６】導電性支持体上に電荷注入阻止層、光導電
層となる電荷発生搬送層、該電荷発生搬送層の保護層を
順次有し、前記電荷発生搬送層が水素化アモルフアスシ
リコン系材料よりなる電子写真感光体において、前記保
護層表面に有機高分子バインダー層を有し、該バインダ
ー層中にパーフルオロポリオキシアルキルグループ又は
パーフルオロポリオキシアルキレングループと非フッ素
含有グループとが結合した潤滑剤を含み、該パーフルオ
ロポリオキシアルキルグループ又はパーフルオロポリオ
キシアルキレングループの一部がバインダー層の表面に
析出していることを特徴とする電子写真感光体。 - 【請求項７】請求項５において、前記保護層を有せず、
前記電荷発生層の表面に直接有機高分子バインダー層を
有することを特徴とする電子写真感光体。 - 【請求項８】請求項６において、前記保護層を有せず、
前記電荷発生搬送層の表面に直接有機高分子バインダー
層を有することを特徴とする電子写真感光体。 - 【請求項９】水素化アモルフアスシリコン系材料よりな
る光導電層と該光導電層の支持体とを具備する電子写真
感光体の製造方法において、該感光体表面にパーフルオ
ロポリオキシアルキルグループ又はパーフルオロポリオ
キシアルキレングループと非フッ素含有グループを結合
した構造の潤滑剤を含む有機高分子バインダー層を形成
し、その後熱処理して、該パーフルオロポリオキシアル
キルグループ又はパーフルオロポリオキシアルキレング
ループをバインダー層表面に析出させることを特徴とす
る電子写真感光体の製造方法。 - 【請求項１０】請求項９において、前記潤滑剤を含む有
機高分子バインダー層を塗布にて形成し、その後の熱処
理を二段階で行い、前段の熱処理で塗布液中の溶剤を蒸
発除去し、後段の熱処理でバインダーを硬化させて前記
非フッ素含有グループをバインダー層中に固定すること
を特徴とする電子写真感光体の製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63212582A JPH06100842B2 (ja) | 1988-08-29 | 1988-08-29 | 高耐湿長寿命電子写真感光体及びその製法 |
| US07/394,657 US5073466A (en) | 1988-08-29 | 1989-08-16 | Electrophotographic member containing a fluorine-containing lubricating agent and process for producing the same |
| EP19890115713 EP0356933A3 (en) | 1988-08-29 | 1989-08-25 | Electrophotographic member and process for producing the same |
| KR1019890012322A KR900003695A (ko) | 1889-01-13 | 1989-08-29 | 전자사진 감광체 및 이들의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63212582A JPH06100842B2 (ja) | 1988-08-29 | 1988-08-29 | 高耐湿長寿命電子写真感光体及びその製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0262551A JPH0262551A (ja) | 1990-03-02 |
| JPH06100842B2 true JPH06100842B2 (ja) | 1994-12-12 |
Family
ID=16625087
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63212582A Expired - Lifetime JPH06100842B2 (ja) | 1889-01-13 | 1988-08-29 | 高耐湿長寿命電子写真感光体及びその製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06100842B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11873275B2 (en) | 2019-06-10 | 2024-01-16 | Moresco Corporation | Perfluoropolyether compound, lubricant, and magnetic disk |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5836894B2 (ja) * | 1978-07-03 | 1983-08-12 | 富士写真フイルム株式会社 | 写真感光材料 |
| JPS61107254A (ja) * | 1984-10-30 | 1986-05-26 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 電子写真感光体 |
| JPS62206559A (ja) * | 1986-03-07 | 1987-09-11 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体 |
-
1988
- 1988-08-29 JP JP63212582A patent/JPH06100842B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0262551A (ja) | 1990-03-02 |
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