JPH0595076A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPH0595076A
JPH0595076A JP3253763A JP25376391A JPH0595076A JP H0595076 A JPH0595076 A JP H0595076A JP 3253763 A JP3253763 A JP 3253763A JP 25376391 A JP25376391 A JP 25376391A JP H0595076 A JPH0595076 A JP H0595076A
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JP
Japan
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burn
chip
heater
bonded
lead frame
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Pending
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JP3253763A
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English (en)
Inventor
Kenichi Chiba
健一 千葉
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
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  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 従来のバーンイン方法では、装置能力として
最高150℃位までの温度を制御可能な恒温槽が必要で
あり、バーンイン対象サンプルが少ない場合には恒温槽
容量の大きさからみてエネルギーの損失が多くなるた
め、これを解決する。 【構成】 実機能回路101と同時にバーンイン用テス
ト回路102をICチップ103上に配置させたもの
を、アイランド部分106に電熱線ヒーター107を内
蔵したリードフレーム上に銀ペーストで接着し、乾燥さ
せる。次にヒーター電源供給用パッド104とヒーター
接続孔109をAuワイヤー110でボンディングし、
さらにICチップ上に配置されている実機能回路用のパ
ッド105とインナーリード111をボンディングす
る。最後に樹脂封止され、プラスチックパッケージ11
2が製造される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ICの初期故障をスク
リーニングする方法、特にバーンイン方法の改良に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】バーンイン方法には高温環境下での動作
試験が要求されているため、従来は装置能力として通常
150℃位までの温度を保持することが可能な恒温槽が
必要であり、これを使用していた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来のバーン
イン方法では、装置能力として最高150℃位までの温
度を制御することが可能な恒温槽が必要であった。尚、
バーンイン対象サンプルが少ない場合には恒温槽容量の
大きさからみてエネルギーの損失が多くなってしまう。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置は、
(a)ICチップ内にバーンイン用のテスト回路を内蔵
し、(b)リードフレームのアイランド部分に発熱体を
内蔵し、(c)そのICチップとリードフレームを使用
して組立することを特徴とする。
【0005】
【実施例】以下、本発明について実施例に基づいて説明
していく。
【0006】図1から図6は、本発明の実施例を製造工
程順に示す図である。但し、発熱体には電熱線ヒーター
を、リードフレームの母材には42アロイを、ボンディ
ングワイヤーにはAuワイヤーを選ぶ。
【0007】まず、図1にあるように、実機能回路10
1と同時にバーンイン用テスト回路102をICチップ
103上に配置させたものを作成する。この時、電熱線
ヒーター107へ電源を供給するためのパッド104
(2重枠)もチップ103上に配置される。また、パッ
ド105(単枠)は実機能回路用のものである。
【0008】次に、図2にあるように、リードフレーム
のアイランド部分106に電熱線ヒーター107を内蔵
したものを準備する。ここで、タイバー108の一部に
は、ヒーター接続孔109が開いている。この接続孔1
09を通してICチップ103上のテスト回路102よ
り電源が供給される。
【0009】次に、図3にあるように、テスト回路の内
蔵されたICチップ103をリードフレームのアイラン
ド部分106に銀ペーストで接着し、乾燥させる。
【0010】次に、図4にあるように、ヒーター電源供
給用パッド104とヒーター接続孔109をAuワイヤ
ー110でボンディングして接続させる。この時、電流
量の都合上、2本以上のワイヤーを使用することもあ
る。
【0011】次に、図5にあるように、ICチップ上に
配置されている実機能回路用のパッド105は、従来構
造のものと同様にインナーリード111とをAuワイヤ
ー110でボンディングし、接続される。
【0012】次に、図6にあるように、上述のような電
熱線ヒーター107を内蔵したリードフレームにボンデ
ィングされたICチップ103は樹脂封止され、プラス
チックパッケージ112が製造される。
【0013】以上の工程で製造されるものが本発明の半
導体装置である。バーンイン必要時にはICチップ内の
テスト回路を動作させ、ボンディングワイヤーを通して
発熱体に対し、必要な温度を生じさせるための電流を供
給する。これにより、従来恒温槽からパッケージに与え
られていたものに等しいだけの温度をパッケージ内部か
ら作り出すことが出来る。
【0014】このことから、サンプルを多量にバーンイ
ンすることは勿論、少量のサンプルの場合でも効率よく
バーンインすることが可能となる。
【0015】
【発明の効果】上述のような本発明によれば、ICチッ
プ内にバーンイン用のテスト回路を内蔵し、さらにリー
ドフレームのアイランド部分に発熱体を内蔵すること
で、恒温槽を必要せずにICの初期故障をスクリーニン
グすることが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体装置のICチップ回路図。
【図2】本発明の半導体装置のリードフレーム平面図。
【図3】
【図4】本発明の半導体装置の断面図。
【図5】本発明の半導体装置の平面図。
【図6】本発明の半導体装置の外観図。
【符号の説明】
101・・・実機能回路 102・・・バーンイン用テスト回路 103・・・ICチップ 104・・・ヒーター電源供給用パッド 105・・・実機能回路用パッド 106・・・アイランド 107・・・電熱線ヒーター 108・・・タイバー 109・・・ヒーター接続孔 110・・・Auワイヤー 111・・・インナーリード 112・・・プラスチックパッケージ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (a)ICチップ内にバーンイン用のテ
    スト回路を内蔵し、 (b)リードフレームのアイランド部分に発熱体を内蔵
    し、 (c)そのICチップとリードフレームを使用して組立
    することを特徴とする半導体装置。
JP3253763A 1991-10-01 1991-10-01 半導体装置 Pending JPH0595076A (ja)

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ID=17255805

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102007033003A1 (de) * 2007-07-16 2009-01-22 Robert Bosch Gmbh Bauelement mit wenigstens einem Halbleitersubstrat mit einer integrierten elektrischen Schaltung
JP2010021530A (ja) * 2008-07-14 2010-01-28 Honeywell Internatl Inc パッケージ化されたダイヒータ
DE102019008184A1 (de) * 2019-11-26 2021-05-27 Tdk-Micronas Gmbh Verfahren zum Erwärmen eines vergossenen Halbleiterbauelements mit integrierter Schaltung

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102007033003A1 (de) * 2007-07-16 2009-01-22 Robert Bosch Gmbh Bauelement mit wenigstens einem Halbleitersubstrat mit einer integrierten elektrischen Schaltung
JP2010021530A (ja) * 2008-07-14 2010-01-28 Honeywell Internatl Inc パッケージ化されたダイヒータ
DE102019008184A1 (de) * 2019-11-26 2021-05-27 Tdk-Micronas Gmbh Verfahren zum Erwärmen eines vergossenen Halbleiterbauelements mit integrierter Schaltung
DE102019008184B4 (de) 2019-11-26 2021-07-29 Tdk-Micronas Gmbh Verfahren zum Erwärmen eines vergossenen Halbleiterbauelements mit integrierter Schaltung

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