JPH0586189A - 希土類元素を含むポリシロキサンおよびそれを用いた光学材料 - Google Patents
希土類元素を含むポリシロキサンおよびそれを用いた光学材料Info
- Publication number
- JPH0586189A JPH0586189A JP3251463A JP25146391A JPH0586189A JP H0586189 A JPH0586189 A JP H0586189A JP 3251463 A JP3251463 A JP 3251463A JP 25146391 A JP25146391 A JP 25146391A JP H0586189 A JPH0586189 A JP H0586189A
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- Japan
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- polymer
- earth element
- deuterated
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- Optical Integrated Circuits (AREA)
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 可視〜近赤外光域において優れた光伝送特性
を有するとともに、高い利得でレーザ発振が可能な光学
材料を提供する。 【構成】 屈折率制御が容易で、耐熱性に優れ、吸湿に
伴うＯＨ振動吸収の影響の少ないポリシロキサン中に希
土類元素を化学結合により高濃度かつ均一に取り込み、
安定した発光，増幅作用が得られるようにした。
を有するとともに、高い利得でレーザ発振が可能な光学
材料を提供する。 【構成】 屈折率制御が容易で、耐熱性に優れ、吸湿に
伴うＯＨ振動吸収の影響の少ないポリシロキサン中に希
土類元素を化学結合により高濃度かつ均一に取り込み、
安定した発光，増幅作用が得られるようにした。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光集積回路用導波路や
プラスチック光ファイバなどの光学材料として使用可能
な、希土類元素を含むポリシロキサンおよび該ポリシロ
キサンを用いた光学材料に関するものである。
プラスチック光ファイバなどの光学材料として使用可能
な、希土類元素を含むポリシロキサンおよび該ポリシロ
キサンを用いた光学材料に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】光学部品や光ファイバの基材としては、
光伝送損失が小さく、伝送帯域が広いことから、一般に
石英ガラスや多成分ガラス等の無機系のものが使用され
ている。これらの光ファイバや光導波路に希土類元素を
添加することにより、レーザや増幅作用などの機能化を
はかる試みがなされている（たとえば、日比野ら、１９
８９年度電子情報通信学会予稿集４−２９３）。これら
作用において充分な効果を引き出すためには光部品ある
いはファイバに高濃度の希土類元素を均一に添加する必
要がある。ファイバの場合、希土類元素を含む部分を長
くすることにより濃度を高められるため、増幅作用が大
きく、一部実用化されているものがある。
光伝送損失が小さく、伝送帯域が広いことから、一般に
石英ガラスや多成分ガラス等の無機系のものが使用され
ている。これらの光ファイバや光導波路に希土類元素を
添加することにより、レーザや増幅作用などの機能化を
はかる試みがなされている（たとえば、日比野ら、１９
８９年度電子情報通信学会予稿集４−２９３）。これら
作用において充分な効果を引き出すためには光部品ある
いはファイバに高濃度の希土類元素を均一に添加する必
要がある。ファイバの場合、希土類元素を含む部分を長
くすることにより濃度を高められるため、増幅作用が大
きく、一部実用化されているものがある。
【０００３】しかし、光導波路の場合、希土類元素を高
濃度にしかも均一には添加できず、充分な効果をあげて
いない。
濃度にしかも均一には添加できず、充分な効果をあげて
いない。
【０００４】これを解決できる方法としてゾルーゲル法
が提案されている（星野ら、１９９１年度電子情報通信
学会予稿集４−２３２，Ｄ．Ｊ．ＤＩｇｉｏｖａｎｎｉ
ら、ＯＦＣ’９１ＷＡ２）。この方法は、金属アルコキ
シドと希土類元素の塩化物を原料とし、均質な溶液中
で、加水分解，重縮合反応をおこさせるものである。こ
の方法を用いれば、高濃度にしかも均一に希土類元素を
含む石英膜を作製できる。しかし、厚い膜は、クラッキ
ングや基板からの剥離が生じるため、形成できない。
が提案されている（星野ら、１９９１年度電子情報通信
学会予稿集４−２３２，Ｄ．Ｊ．ＤＩｇｉｏｖａｎｎｉ
ら、ＯＦＣ’９１ＷＡ２）。この方法は、金属アルコキ
シドと希土類元素の塩化物を原料とし、均質な溶液中
で、加水分解，重縮合反応をおこさせるものである。こ
の方法を用いれば、高濃度にしかも均一に希土類元素を
含む石英膜を作製できる。しかし、厚い膜は、クラッキ
ングや基板からの剥離が生じるため、形成できない。
【０００５】上記ガラス系のほかに、最近は、プラスチ
ックを基材とする光学材料も開発されている。これらの
プラスチック光学材料は、無機系に比べ加工性が良く、
取扱い易い、等の特徴を持つことから注目されている。
しかし、これらのプラスチック光部品は、無機系に比べ
て内部を伝達する光の減衰度合が大きい、すなわち損失
が大きい、という欠点がある。また、ポリマに希土類元
素を導入するには、有機金属あるいは有機キレートの形
にしてから混入する必要があり、均一性や効率が悪い欠
点がある。さらに、有機系ポリマは一般に耐熱性が低
く、信頼性に欠ける問題があった。
ックを基材とする光学材料も開発されている。これらの
プラスチック光学材料は、無機系に比べ加工性が良く、
取扱い易い、等の特徴を持つことから注目されている。
しかし、これらのプラスチック光部品は、無機系に比べ
て内部を伝達する光の減衰度合が大きい、すなわち損失
が大きい、という欠点がある。また、ポリマに希土類元
素を導入するには、有機金属あるいは有機キレートの形
にしてから混入する必要があり、均一性や効率が悪い欠
点がある。さらに、有機系ポリマは一般に耐熱性が低
く、信頼性に欠ける問題があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述の現状
に鑑みてなされたものであり、その目的は可視光〜近赤
外光域にわたり低損失であり、しかも耐熱性に優れ、発
光や増幅作用を示す希土類元素を含むポリシロキサンお
よび該ポリシロキサンを用いた光学材料を提供すること
にある。
に鑑みてなされたものであり、その目的は可視光〜近赤
外光域にわたり低損失であり、しかも耐熱性に優れ、発
光や増幅作用を示す希土類元素を含むポリシロキサンお
よび該ポリシロキサンを用いた光学材料を提供すること
にある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は下記一般式Ｉ：
【０００８】
【化３】
【０００９】〔式中、Ｒ1 はＣn Ｙ2n+1（Ｙは水素，重
水素あるいはハロゲン、ｎは５以下の正の整数）で表わ
されるアルキル基，重水素化あるいはハロゲン化アルキ
ル基、あるいはＣ6 Ｙ5 （Ｙは水素，重水素あるいはハ
ロゲン）で表わされるフェニル基，重水素化あるいはハ
ロゲン化フェニル基〕で表わされる繰り返し単位と、下
記一般式ＩＩ：
水素あるいはハロゲン、ｎは５以下の正の整数）で表わ
されるアルキル基，重水素化あるいはハロゲン化アルキ
ル基、あるいはＣ6 Ｙ5 （Ｙは水素，重水素あるいはハ
ロゲン）で表わされるフェニル基，重水素化あるいはハ
ロゲン化フェニル基〕で表わされる繰り返し単位と、下
記一般式ＩＩ：
【００１０】
【化４】
【００１１】〔式中、Ｍは希土類原子〕で表わされる繰
り返し単位とを有することを特徴とする希土類元素を含
むポリシロキサンおよびそれを用いた光学材料である。
り返し単位とを有することを特徴とする希土類元素を含
むポリシロキサンおよびそれを用いた光学材料である。
【００１２】我々は先に一般式（Ｉ）で表わされる繰り
返し単位を有するポリマが屈折率の制御が容易で、しか
も耐熱性に優れ、また吸湿に伴うＯＨ振動吸収の影響の
少ないものであり、プラスチック光導波路として優れて
いることを見いだした（特願平２−２５７８６５号およ
び特願平２−２８２０２３号）。
返し単位を有するポリマが屈折率の制御が容易で、しか
も耐熱性に優れ、また吸湿に伴うＯＨ振動吸収の影響の
少ないものであり、プラスチック光導波路として優れて
いることを見いだした（特願平２−２５７８６５号およ
び特願平２−２８２０２３号）。
【００１３】本発明は、前発明と同じような製法で、希
土類元素が高濃度でしかも均一に入ったポリマを得、そ
れを使用して発光、増幅作用を起こすことのできる導波
路とすることを本質としている。すなわち、従来では希
土類元素の有機キレートや有機金属をプラスチックに混
入させるのに対し、本発明では希土類元素を化学結合で
ポリマ中に取り込んでおり、高濃度，均一性に優れてい
る。また、このプラスチック光導波路を基板上に形成す
る場合、基板はシリコン基板，ガラス基板のように硬い
基板ばかりでなくプラスチック基板などフレキシブルな
ものが使用可能である。
土類元素が高濃度でしかも均一に入ったポリマを得、そ
れを使用して発光、増幅作用を起こすことのできる導波
路とすることを本質としている。すなわち、従来では希
土類元素の有機キレートや有機金属をプラスチックに混
入させるのに対し、本発明では希土類元素を化学結合で
ポリマ中に取り込んでおり、高濃度，均一性に優れてい
る。また、このプラスチック光導波路を基板上に形成す
る場合、基板はシリコン基板，ガラス基板のように硬い
基板ばかりでなくプラスチック基板などフレキシブルな
ものが使用可能である。
【００１４】本発明のポリマは一般式（ＩＩＩ），（Ｉ
Ｖ）：
Ｖ）：
【００１５】
【化５】
【００１６】
【化６】
【００１７】〔式中、Ｍは希土類原子、Ｘはハロゲンま
たはアルコキシ、Ｒ1 ，Ｒ2 は同一または異なり、Ｃn
Ｙ2n+1（Ｙは水素，重水素あるいはハロゲン、ｎは５以
下の正の整数）で表わされるアルキル基，重水素化ある
いはハロゲン化アルキル基、あるいはＣ6 Ｙ5 （Ｙは水
素，重水素あるいはハロゲン）で表わされるフェニル
基，重水素化あるいはハロゲン化フェニル基〕で表わさ
れるハロゲン化物の加水分解，重合により得ることがで
きる。また、（ＩＩＩ），（ＩＶ）で表わされる塩化物
とアルコールとを反応させて得られる各種のアルコラー
トの重合やハロゲン化物とアルコラートの縮重合によっ
てもポリマを得ることができる。なお、ｎが６以上では
ポリマのガラス転移温度が低くなるため、取扱いに問題
があるので、ｎは５以下が望ましい。
たはアルコキシ、Ｒ1 ，Ｒ2 は同一または異なり、Ｃn
Ｙ2n+1（Ｙは水素，重水素あるいはハロゲン、ｎは５以
下の正の整数）で表わされるアルキル基，重水素化ある
いはハロゲン化アルキル基、あるいはＣ6 Ｙ5 （Ｙは水
素，重水素あるいはハロゲン）で表わされるフェニル
基，重水素化あるいはハロゲン化フェニル基〕で表わさ
れるハロゲン化物の加水分解，重合により得ることがで
きる。また、（ＩＩＩ），（ＩＶ）で表わされる塩化物
とアルコールとを反応させて得られる各種のアルコラー
トの重合やハロゲン化物とアルコラートの縮重合によっ
てもポリマを得ることができる。なお、ｎが６以上では
ポリマのガラス転移温度が低くなるため、取扱いに問題
があるので、ｎは５以下が望ましい。
【００１８】本発明におけるポリマの製造法は、一般の
ポリシロキサン製造法と同様であり、ハロゲン化物，ア
ルコラートなどの加水分解物をトルエン，キシレン等の
有機溶媒に溶解し、ＫＯＨ等のアルカリで重合を行わせ
るものである。また、ポリマの分子量は、膜を形成した
ときのクラッキングを避けるため、１０万以上が望まし
い。
ポリシロキサン製造法と同様であり、ハロゲン化物，ア
ルコラートなどの加水分解物をトルエン，キシレン等の
有機溶媒に溶解し、ＫＯＨ等のアルカリで重合を行わせ
るものである。また、ポリマの分子量は、膜を形成した
ときのクラッキングを避けるため、１０万以上が望まし
い。
【００１９】
【作用】上記構成によれば、可視〜近赤外光域において
優れた光伝送特性を有し、高い利得でレーザ発振が可能
な光学材料を提供することができる。
優れた光伝送特性を有し、高い利得でレーザ発振が可能
な光学材料を提供することができる。
【００２０】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでは
ない。
明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでは
ない。
【００２１】（ポリマ製造例１）内容約１００ｍｌのフ
ラスコにフェニルトリクロルシラン１０ｇと塩化ネオヂ
ウム６水和物０．３ｇとを入れ、これに１００ｍｇのＫ
ＯＨを添加し、さらに１５ｍｌのトルエンを添加，混合
した。そして、この混合液を１６時間還流した。反応終
了後冷却し、小量の沈殿物をろ過した後、メタノールに
溶液を流し込むことにより再沈殿を行った。得られたポ
リマの分子量はＭｗ＝１１５０００，Ｍｗ＝５．１であ
った。このポリマの屈折率は０．４％上昇した。また、
このポリマは高い耐熱性を示し、３００℃で１時間熱処
理しても何らの変化がみられなかった。
ラスコにフェニルトリクロルシラン１０ｇと塩化ネオヂ
ウム６水和物０．３ｇとを入れ、これに１００ｍｇのＫ
ＯＨを添加し、さらに１５ｍｌのトルエンを添加，混合
した。そして、この混合液を１６時間還流した。反応終
了後冷却し、小量の沈殿物をろ過した後、メタノールに
溶液を流し込むことにより再沈殿を行った。得られたポ
リマの分子量はＭｗ＝１１５０００，Ｍｗ＝５．１であ
った。このポリマの屈折率は０．４％上昇した。また、
このポリマは高い耐熱性を示し、３００℃で１時間熱処
理しても何らの変化がみられなかった。
【００２２】（ポリマ製造例２）原料のモノマを重水素
化フェニルトリクロルシランｄ−５とした他はポリマ製
造例１と同じようにして重水素化ポリマを得た。得られ
たポリマの物性値は製造例１とほぼ同様であった。
化フェニルトリクロルシランｄ−５とした他はポリマ製
造例１と同じようにして重水素化ポリマを得た。得られ
たポリマの物性値は製造例１とほぼ同様であった。
【００２３】（ポリマ製造例３）内容約１００ｍｌのフ
ラスコにフェニルトリクロルシラン１０ｇと塩化エリビ
ウム６水和物０．５ｇを入れ、これに１００ｍｇのＫＯ
Ｈを添加し、さらに１５ｍｌのトルエンを添加，混合し
た。そして、この混合液を１６時間還流した。反応終了
後冷却し、小量の沈殿物をろ過した後、メタノールに溶
液を流し込むことにより再沈殿を行った。得られたポリ
マの分子量はＭｗ＝１０３０００，Ｍｗ／Ｍｎ＝５．２
であった。
ラスコにフェニルトリクロルシラン１０ｇと塩化エリビ
ウム６水和物０．５ｇを入れ、これに１００ｍｇのＫＯ
Ｈを添加し、さらに１５ｍｌのトルエンを添加，混合し
た。そして、この混合液を１６時間還流した。反応終了
後冷却し、小量の沈殿物をろ過した後、メタノールに溶
液を流し込むことにより再沈殿を行った。得られたポリ
マの分子量はＭｗ＝１０３０００，Ｍｗ／Ｍｎ＝５．２
であった。
【００２４】（ポリマ製造例４）原料のモノマを重水素
化フェニルトリクロルシランｄ−５とした他はポリマ製
造例３と同じようにして重水素化ポリマを得た。得られ
たポリマの物性値は製造例３とほぼ同様であった。
化フェニルトリクロルシランｄ−５とした他はポリマ製
造例３と同じようにして重水素化ポリマを得た。得られ
たポリマの物性値は製造例３とほぼ同様であった。
【００２５】（ポリマ製造例５）内容約１００ｍｌのフ
ラスコにフェニルトリクロルシラン１０ｇとフッ化プラ
セオジム０．４ｇに１００ｍｇのＫＯＨを添加し、１５
ｍｌのトルエンと混合した。そして、この混合液を１６
時間還流した。反応終了後冷却し、小量の沈殿物をろ過
した後、メタノールに溶液を流し込むことにより再沈殿
を行った。得られたポリマの分子量はＭｗ＝１０３００
０，Ｍｗ／Ｍｎ＝５．２であった。
ラスコにフェニルトリクロルシラン１０ｇとフッ化プラ
セオジム０．４ｇに１００ｍｇのＫＯＨを添加し、１５
ｍｌのトルエンと混合した。そして、この混合液を１６
時間還流した。反応終了後冷却し、小量の沈殿物をろ過
した後、メタノールに溶液を流し込むことにより再沈殿
を行った。得られたポリマの分子量はＭｗ＝１０３００
０，Ｍｗ／Ｍｎ＝５．２であった。
【００２６】（ポリマ製造例６）原料のモノマを重水素
化フェニルトリクロルシランｄ−５とした他はポリマ製
造例５と同じようにして重水素化ポリマを得た。得られ
たポリマの物性値は製造例５とほぼ同様であった。
化フェニルトリクロルシランｄ−５とした他はポリマ製
造例５と同じようにして重水素化ポリマを得た。得られ
たポリマの物性値は製造例５とほぼ同様であった。
【００２７】（実施例１）ポリマ製造例１で得たポリマ
をコア成分とし、ポリフェニルシルセスキオキサンをク
ラッド成分とする導波路を作製した。
をコア成分とし、ポリフェニルシルセスキオキサンをク
ラッド成分とする導波路を作製した。
【００２８】前述の２種のポリマをそれぞれメチルイソ
ブチルケトンに溶かし溶液とした。まず、クラッド成分
ポリマをプラスチック基板あるいは処理したシリコン基
板上に約１５μｍの厚さに塗布した。これをベークし、
乾燥処理した後、クラッド成分ポリマ上にコア成分ポリ
マを約８μｍの厚さに塗布した。次に、ホトリソグラフ
ィ，ドライエッチングによりコア成分ポリマを長さ５０
ｍｍ，幅８μｍ，高さ８μｍの直線矩形パタンに加工し
た。加工後、クラッド成分を前述のようにコア成分ポリ
マ上に塗布して導波路を得た。導波路の両端面に誘電体
ミラーを蒸着し、Ａｒ+ レーザ励起色素レーザやＴｉ：
Ａｌ2 Ｏ3 ＣＷレーザ光を用いて導波路の一端から照射
した。誘電体ミラーを用いて出射光を励起光とレーザ光
を分離し、レーザ光強度を測定した。１．０５および
１．３１μｍでの利得はそれぞれ８ｄＢ，２ｄＢであっ
た。
ブチルケトンに溶かし溶液とした。まず、クラッド成分
ポリマをプラスチック基板あるいは処理したシリコン基
板上に約１５μｍの厚さに塗布した。これをベークし、
乾燥処理した後、クラッド成分ポリマ上にコア成分ポリ
マを約８μｍの厚さに塗布した。次に、ホトリソグラフ
ィ，ドライエッチングによりコア成分ポリマを長さ５０
ｍｍ，幅８μｍ，高さ８μｍの直線矩形パタンに加工し
た。加工後、クラッド成分を前述のようにコア成分ポリ
マ上に塗布して導波路を得た。導波路の両端面に誘電体
ミラーを蒸着し、Ａｒ+ レーザ励起色素レーザやＴｉ：
Ａｌ2 Ｏ3 ＣＷレーザ光を用いて導波路の一端から照射
した。誘電体ミラーを用いて出射光を励起光とレーザ光
を分離し、レーザ光強度を測定した。１．０５および
１．３１μｍでの利得はそれぞれ８ｄＢ，２ｄＢであっ
た。
【００２９】（実施例２）ポリマ製造例２で得たポリマ
をコア成分とし、重水素化ポリフェニルシルセスキオキ
サンｄ−５をクラッド成分とする導波路を作製した。
をコア成分とし、重水素化ポリフェニルシルセスキオキ
サンｄ−５をクラッド成分とする導波路を作製した。
【００３０】前述の２種のポリマをそれぞれメチルイソ
ブチルケトンに溶かし溶液とした。まず、クラッド成分
ポリマをプラスチックあるいは処理したシリコン基板上
に約２０μｍの厚さに塗布した。これをベークし、乾燥
処理した後、クラッド成分ポリマ上にコア成分ポリマを
約８μｍの厚さに塗布した。次にホトリソグラフィ，ド
ライエッチングによりコア成分ポリマを長さ５０ｍｍ，
幅８μｍ，高さ８μｍの直線矩形パタンに加工した。加
工後、クラッド成分をコア成分ポリマ上に塗布して導波
路を得た。導波路の両端面に誘電体ミラーを蒸着し、Ａ
ｒ+ レーザ励起色素レーザやＴｉ：Ａｌ2 Ｏ3 ＣＷレー
ザ光を用い導波路の一端から照射した。誘電体ミラーを
用いて出射光を励起光とレーザ光を分離し、レーザ光強
度を測定した。１．０５および１．３１μｍでの利得は
それぞれ１０ｄＢ，５ｄＢであった。
ブチルケトンに溶かし溶液とした。まず、クラッド成分
ポリマをプラスチックあるいは処理したシリコン基板上
に約２０μｍの厚さに塗布した。これをベークし、乾燥
処理した後、クラッド成分ポリマ上にコア成分ポリマを
約８μｍの厚さに塗布した。次にホトリソグラフィ，ド
ライエッチングによりコア成分ポリマを長さ５０ｍｍ，
幅８μｍ，高さ８μｍの直線矩形パタンに加工した。加
工後、クラッド成分をコア成分ポリマ上に塗布して導波
路を得た。導波路の両端面に誘電体ミラーを蒸着し、Ａ
ｒ+ レーザ励起色素レーザやＴｉ：Ａｌ2 Ｏ3 ＣＷレー
ザ光を用い導波路の一端から照射した。誘電体ミラーを
用いて出射光を励起光とレーザ光を分離し、レーザ光強
度を測定した。１．０５および１．３１μｍでの利得は
それぞれ１０ｄＢ，５ｄＢであった。
【００３１】（実施例３−６）ポリマ製造例３−６で得
たポリマをコア成分とし、実施例１，２と同じようにし
て導波路を作製した。それぞれ光利得を調べ、表１に示
す値を得た。
たポリマをコア成分とし、実施例１，２と同じようにし
て導波路を作製した。それぞれ光利得を調べ、表１に示
す値を得た。
【００３２】
【表１】
【００３３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によるプラ
スチック光学材料は、従来のものに比べ、可視〜近赤外
光域において優れた光伝送特性を有するとともに、高い
利得でレーザ発振が可能であり、そのため導波形レーザ
や増幅素子のような能動型回路要素として使用できる。
従って、本発明の光学材料を使って作製した光部品によ
り、応用範囲の広い光信号伝送システムを構成できる利
点が得られる。
スチック光学材料は、従来のものに比べ、可視〜近赤外
光域において優れた光伝送特性を有するとともに、高い
利得でレーザ発振が可能であり、そのため導波形レーザ
や増幅素子のような能動型回路要素として使用できる。
従って、本発明の光学材料を使って作製した光部品によ
り、応用範囲の広い光信号伝送システムを構成できる利
点が得られる。
Claims (2)
- 【請求項１】 下記一般式Ｉ： 【化１】 〔式中、Ｒ1 はＣn Ｙ2n+1（Ｙは水素，重水素あるいは
ハロゲン、ｎは５以下の正の整数）で表わされるアルキ
ル基，重水素化あるいはハロゲン化アルキル基、あるい
はＣ6 Ｙ5 （Ｙは水素，重水素あるいはハロゲン）で表
わされるフェニル基，重水素化あるいはハロゲン化フェ
ニル基〕で表わされる繰り返し単位と、下記一般式Ｉ
Ｉ： 【化２】 〔式中、Ｍは希土類原子〕で表わされる繰り返し単位と
を有することを特徴とする希土類元素を含むポリシロキ
サン。 - 【請求項２】 請求項１の希土類元素を含むポリシロキ
サンをコア成分として用いることを特徴とする光学材
料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3251463A JPH0586189A (ja) | 1991-09-30 | 1991-09-30 | 希土類元素を含むポリシロキサンおよびそれを用いた光学材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3251463A JPH0586189A (ja) | 1991-09-30 | 1991-09-30 | 希土類元素を含むポリシロキサンおよびそれを用いた光学材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0586189A true JPH0586189A (ja) | 1993-04-06 |
Family
ID=17223199
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3251463A Pending JPH0586189A (ja) | 1991-09-30 | 1991-09-30 | 希土類元素を含むポリシロキサンおよびそれを用いた光学材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0586189A (ja) |
-
1991
- 1991-09-30 JP JP3251463A patent/JPH0586189A/ja active Pending
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