JPH0584284B2 - - Google Patents

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JPH0584284B2
JPH0584284B2 JP63197955A JP19795588A JPH0584284B2 JP H0584284 B2 JPH0584284 B2 JP H0584284B2 JP 63197955 A JP63197955 A JP 63197955A JP 19795588 A JP19795588 A JP 19795588A JP H0584284 B2 JPH0584284 B2 JP H0584284B2
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JP
Japan
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hydrogen atom
lower alkyl
alkyl group
compound
Prior art date
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JP63197955A
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JPH0248524A (ja
Inventor
Hiroyuki Naito
Shigeru Kitano
Ryoichi Fukumoto
Shigeo Morioka
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Sato Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Sato Pharmaceutical Co Ltd
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Publication date
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  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野 本発明は抗菌作用を有するベンゾフラン誘導体
に関する。 さらに詳しくは合成されたベンゾフラン誘導体
を配合することにより、細菌および真菌に対して
優れた抗菌作用を有する外用剤組成物に関する。 従来の技術 降圧剤、糖尿病合併症治療剤、リポキシゲナー
ゼ阻害剤等ベンゾフラン環を有する医薬品は種々
開発され、また抗菌作用を有するベンゾフラン誘
導体としてラタニア根中に含まれているラタニア
フエノール(特開昭62−126128号公報)等が知ら
れている。 発明が解決しようとする問題点 現在、細菌感染症治療剤としてペニシリン系を
筆頭にセフエム系、クロラムフエニコール系、テ
トラサイクリン系、およびアミノグリコシド系の
抗生物質並びにサルフア剤を始めとする化学療法
剤等、多種多様の医薬品が適用されているが今日
ではこらの治療薬濫用による耐性獲得病原菌への
対処が重大な問題となつてきた。 更に臨床検査技術の発達から嫌気性菌検査の普
及により、皮膚や粘膜に常在する嫌気性菌が日和
見感染症の起炎菌となつていことがわかつてき
た。かかる状況の中で先にラタニア根中に含まれ
るベンゾフラン誘導体であるラタニアフエノール
が感染性皮膚疾患、すなわち〓瘡、褥瘡、皮膚真
菌症等の病原菌に優れた抗菌力と幅広い抗菌スペ
クトルを有することが開示されている(特開昭62
−126128号公報)。 しかしラタニアフエノールを得るためにはラタ
ニア根が天産品であるがために、その採取地、季
節、採取後の保存年数、保存状態などにより有効
成分であるラタニアフエノールの含有量が変化す
ることが予想され、また抽出、精製操作の繁雑さ
等が問題となつてくる。 本発明の目的は上記した問題点の解消にあり、
供給量が限られている天然物に頼ることなく安価
に大量供給が可能であり、ラタニアフエノールと
同等またはそれ以上の抗菌作用を有する細菌およ
び真菌感染症治療剤を新規に合成により提供せん
とするものである。 問題点を解決するための手段 本発明者等は市販されている従来の抗生物質お
よび化学療法剤等の細菌感染症治療剤と化学構造
を異にし、臨床分離株にも効果を有する化合物を
得るべく鋭意研究の結果、安価に大量供給が可能
である2−フエニルベンゾフラン誘導体を合成
し、これらの化合物が天然物であるラタニアフエ
ノールと同等またはそれ以上の抗菌作用を有する
細菌および真菌感染症治療剤であることを見い出
し本発明を完成した。 本発明の一般式()で表わされる化合物は次
に示す方法によつて製造される。
【化】 (式中、R1は水素原子またはメトキシ基、R2
水素原子、ハロゲン原子、メトキシ基またはヒド
ロキシ基を含むプロピル基もしくは低級アルキル
基、R3は水素原子またはメトキシ基、R4は水素
原子、ハロゲン原子またはメトキシ基、R5は水
素原子または低級アルキル基を表わす)。 すなわち上記原料物質()を炭酸カリウム等
の塩基存在下、p−ニトロベンジルブロマイド
()と加熱することによつて中間体()を経
由してニトロベンゾフラン()となし、これを
鉄粉−酢酸等の金属と酸による還元、あるいはラ
ネーニツケルのごとき触媒の存在下、接触還元に
よつてアミノベンゾフラン()を製造する。つ
いで酸性条件下、亜硝酸塩を作用させて生成する
ジアゾニウム塩を硫酸水溶液中で加熱して、一般
式()で表わされるベンゾフラン誘導体を製造
する。 またメトキシ基を有するベンゾフラン誘導体は
臭化水素酸や臭化水素酸−酢酸の系で加熱するこ
とにより容易にヒドロキシ基を有するベンゾフラ
ン誘導体に変換できる。化合物()は適宜、ア
ルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩に導くこ
ともできる。 一般式()で表わされる化合物の製造に関し
ては化合物()の製造と同様に行なえばよい。
【化】 (式中、R1は水素原子または低級アルキル基、
R2は低級アルキル基を表わす)。 化合物()は常法により適宜、鉱酸または有
機酸の塩に導くことができる。 本発明の一般式()および()で表わされ
る化合物のうち主なものを構造式と共に第1表に
示す。 なお化合物番号は後記実施例の番号に対応する
ものとする。 更に本願発明による化合物の細菌および真菌感
染症治療剤中の有効量は、0.00005〜5重量%、
好ましくは0.005〜2重量%である。
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】 実施例 つぎに実施例をあげて本発明の化合物および製
造法をさらに詳しく説明する。 実施例 1 (1) 2′−ヒドロキシ−5′−メチルアセトフエノン
10.05g、p−ニトロベンジルブロマイド14.47
gをメチルエチルケトン100mlに溶解させ、無
水炭酸ナトリウム11.09gを加え、窒素気流下、
6時間加熱還流させた後、減圧下に溶媒を留去
する。得られた残渣に水100mlを加えジクロロ
メタンで抽出する。抽出液を無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣をヘキサン−
無水エタノールから再結晶し、5′−メチル−
2′−(4−ニトロベンジルオキシ)アセトフエ
ノン14.95gを得る。1 H−NMR(CDCl3):δ値 2.25(3H、s) 2.53(3H、s) 5.13(2H、s) 6.65〜8.12
(7H、m) MS:m/z285(M+) (2) 5′−メチル−2′−(4−ニトロベンジルオキ
シ)アセトフエノン14.91gを無水メタノール
150mlに溶解し、無水炭酸ナトリウム7.94gを
加え窒素気流下、1.5時間加熱還流させる。減
圧下に溶媒を留去し、残渣に水200mlを加えク
ロロホルムで抽出する。 抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を
留去し、残差を酢酸から再結晶し、3,5−ジ
メチル−2−(4−ニトロフエニル)ベンゾフ
ラン10.47gを得る。1 H−NMR(CDCl3):δ値 2.42(6H、s) 6.90〜8.21(7H、m) MS:m/z、267(M+)、237、178 (3) 3,5−ジメチル−2−(4−ニトロフエニ
ル)ベンゾフラン1.64gを無水メタノール75ml
に溶解し、ラネーニツケル3mlを加え室温、常
圧下3時間接触還元反応を行なう。触媒を除去
後、溶媒を留去する。残渣をヘキサンから再結
晶し、2−(4−アミノフエニル)−3,5−ジ
メチルベンゾフラン1.02gを得る。1 H−NMR(CDCl3):δ値 2.38(3H s) 2.45(3H、s) 3.77(2H、
brs) 6.69〜7.74(7H、m) MS:m/z 237(M+)、193、165 (4) 2−(4−アミノフエニル)−3,5−ジメチ
ルベンゾフラン0.71gをジメチルホルムアミド
30mlに溶解し、20w/v%硫酸4.4mlを加え、
0℃冷却下、亜硝酸ナトリウム0.26gの1.5ml
水溶液を滴下する。0℃で1時間反応させた後
尿素44.9mgを加え15分間放置後30w/v%硫酸
30ml、トルエン60mlを加え激しく撹拌下、1時
間加熱還流させる。トルエン層を水洗後、無水
硫酸ナトリウムで乾燥する。続いて溶媒を減圧
留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフイに
て精製し、2−(4−ヒドロキシフエニル)−
3,5−ジメチルベンゾフラン(化合物1)
0.49gを得る。1 H−NMR(CDCl3):δ値 2.38(3H、s) 2.45(3H、s) 5.02(1H、s) 6.86〜7.79(7H、m) MS:m/z 237(M+)、194、165、115 実施例 2〜19 実利例1の(1)において、2′−ヒドロキシ−5′−
メチルアセトフエノンの代わりに第1表の原料物
質を用いた以外は実施例1とほぼ同様に反応を行
なつた。実施例1と同様に処理したところ化合物
2〜19のベンゾフラン誘導体が得られた。機器デ
ータと共に第1表に示す。 抗菌作用 第1表に示すベンゾフラン誘導体についての
種々の菌に対する抗菌作用を調べるため寒天希釈
平板法により最小発育阻止濃度(MIC)を求め
た。MICの測定はケモテラピー
(Chemotherapy)29(1)、76〜79(1981)および27
(3)、559〜561(1979)に準じて行なつた。 細菌はGAM寒天培地(商品名、日本製薬株式
会社)にて37℃嫌気下で、白癬菌はサブロー寒天
培地(Sabouraud寒天培地、栄研化学株式会社)
にて25℃好気で培養した。 細菌は4日目の、白癬菌は7日目の生育の有無
を判定した。結果を第2表および第3表に示す。 (供試菌) 細 菌 No.1 Staphylococcus aureus ATCC 6538P No.2 Streptococcus mutans JC−2 No.3 Bacteroides gingivalis Ando No.4 Bacteroides fragilis RIMD 023001 No.5 Propionibacterium acnes RIMD 164001
(ATCC 11827) No.6 Fusobacterium nucleatum ATCC
25586 No.7 Clostridum perfringens IID 520(PB6K
−NIHJ) 白癬菌 No.8 Trichopyton mentagrophytes 臨床分離
株 TIMN 1189 No.9 〃
IFO 5810 No.10 〃
Microsporum grpseum 臨床分離株83−518 No.11 IFO 8231 No.12 Trichophyton rubrum 臨床分離株86−
190 No.13 〃
臨床分離株86−175
【表】 * ラタニアフエノール−
【表】 * ラタニアフエノール−
第2表および第3表から明らかなように本発明
化合物〔〕および〔〕もしくはそれの薬理学
的に許容される塩は細菌および白癬菌に対して優
れた抗菌活性を示し、しかもラタニアフエノール
と比較しても遜色のないことが認められる。 下記に示す製剤例で化合物の種類は上記一般式
()および()で表わされる化合物のいずれ
かに限定されるものではなくまたそれらの混合物
であつてもよく配合成分の種類および割合や剤
型、その大きさ等は種々変化させることができ
る。 製剤例 1 下記の処方に従つて常法により親油性軟膏剤を
調整した。 ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油 1.0% テシツト・デシチン 2.0 ジエチルセバケート 5.0 2−(4−ヒドロキシフエニル)−3,5−ジメチ
ルベンゾフラン(化合物) 1.0 エタノール 0.5 香 料 0.1 白色ワセリン 残 100.0% 製剤例 2 下記の処方に従つて常法により外用液剤を調整
した。 塩酸ジフエンヒドラミン 1.0% グリチルリチン酸ジカリウム 0.5 ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート
3.0 5−クロロ−2−(4−ヒドロキシフエニル)ベ
ンゾフラン(化合物9) 0.1 香 料 0.1 ラウロマクロゴール 0.5 水 残 100.0% 発明の効果 以上、詳述した通り本発明のベンゾフラン誘導
体は広い抗菌スペクトルを有すると共に臨床分離
株にも優れた抗菌作用を有するものであるため、
医薬等の用途に適用して極めて有用であり、その
工業的価値は大である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式() 【化】 (式中、R1は水素原子、メトキシ基またはヒド
    ロキシ基、R2は水素原子、ハロゲン原子、メト
    キシ基、ヒドロキシ基またはヒドロキシ基を含む
    プロピル基もしくは低級アルキル基、R3は水素
    原子、メトキシ基またはヒドロキシ基、R4は水
    素原子、ハロゲン原子、メトキシ基またはヒドロ
    キシ基、R5は水素原子または低級アルキル基)
    で表されるベンゾフラン誘導体もしくはその薬理
    学的に許容される塩を有効成分として含有する細
    菌および真菌感染症治療剤。 2 一般式() 【化】 (式中、R1は水素原子、または低級アルキル基、
    R2は低級アルキル基)で表されるベンゾフラン
    誘導体もしくはその薬理学的に許容される塩を有
    効成分として含有する細菌および真菌感染症治療
    剤。
JP19795588A 1988-08-10 1988-08-10 細菌および真菌感染症治療剤 Granted JPH0248524A (ja)

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CN102391260B (zh) * 2011-09-29 2014-12-10 上海交通大学 3-甲酮-6-取代-苯并呋喃类化合物及其制备方法和用途

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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