JPH0582654B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0582654B2 JPH0582654B2 JP61290621A JP29062186A JPH0582654B2 JP H0582654 B2 JPH0582654 B2 JP H0582654B2 JP 61290621 A JP61290621 A JP 61290621A JP 29062186 A JP29062186 A JP 29062186A JP H0582654 B2 JPH0582654 B2 JP H0582654B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic recording
- metal thin
- thin film
- magnetic
- durability
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 claims description 31
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 22
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 16
- -1 acid amide compound Chemical class 0.000 claims description 7
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 claims description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 6
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 3
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 8
- 239000010408 film Substances 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- NVIVJPRCKQTWLY-UHFFFAOYSA-N cobalt nickel Chemical compound [Co][Ni][Co] NVIVJPRCKQTWLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L terephthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Lubricants (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は強磁性金属薄膜を磁気記録層として備
えてなる磁気記録媒体に関し、特に広範囲の温湿
度条件において走行性、耐摩耗性に優れ、とくに
厳しい低湿度条件下でのスチル耐久性の優れた金
属薄膜型磁気記録媒体に関するものである。 〔従来技術〕 従来より磁気記録媒体としては、非磁性支持体
上に強磁性金属粉末の磁性材料を有機バインダー
中に分散せしめたものを塗布し乾燥させる塗布型
のものが広く使用されてきている。近年高密度記
録への要求の高まりと共に真空蒸着、スパツタリ
ング、イオンプレーテイング等のペーパーデポジ
シヨン法あるいは電気メツキ法、無電解メツキ等
のメツキ法により形成される強磁性金属薄膜を磁
性記憶層とするいわゆる金属薄膜磁気記録媒体
が、注目をあびており実用化への努力が種々おこ
なわれている。 高密度記録用の磁気記録媒体に要求される条件
の一つとして、高抗磁力化、薄型化が理論的に
も、実験的にも提唱されており、塗布型の磁気記
録媒体よりも一桁小さい薄型化が容易で、飽和磁
束密度も大きい金属薄膜型磁気記録への期待は大
きい。 特に真空蒸着による方法はメツキの場合のよう
な廃液処理を必要とせず工程も簡単で膜の析出速
度も大きくできるため非常にメリツトが大きい。
真空蒸着によつて磁気記録媒体に望ましいい抗磁
力および角型性を有する磁性膜を製造する方法と
しては米国特許3342632号、同3342633号特に伸べ
られている斜め蒸着法が知られている。 強磁性金属薄膜からなる磁気記録媒体にかかわ
る大きな問題として耐候性、走行性、耐摩耗性が
ある。磁気記録媒体は磁気信号の記録、再生およ
び消去の過程において磁気ヘツドと高速相対運動
のもとにおかれるが、その際走行がスムーズにし
かも安定に行われねばならないし、同時にヘツド
との接触、摩耗もしくは破壊が起こつてはならな
い。以上のような背景から走行性、耐久性を向上
させる方法として潤滑層や保護層を設けることが
検討されてきている。 金属薄膜型磁気記録媒体の保護層としては、熱
可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、脂肪酸、脂肪族の金
属塩、脂肪酸エステルあるいはアルキル燐酸エス
テル等を有機溶剤に溶解して塗布したものがあ
る。(例えば特開昭60−69824公報、特開昭60−
85427号公報参照) 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかしながらこうして得られた金属薄膜型磁気
記録媒体は高温高湿あるいは定温等の苛酷条件で
摩擦係数が上昇したり耐摩耗性が不十分であつた
りするほか、低湿度条件でスチル耐久性が劣るこ
とが大きな問題であつた。また保護・潤滑層の厚
みによるヘツドーテープ間のスペーシング損失の
ため電磁変換特性が劣化するなどの問題があり、
金属薄膜型磁気記録の実用化に際しなお改良が望
まれている。 本発明の目的は、広範囲の温湿度条件において
走行性、耐摩耗性、電磁変換特性にすぐれた金属
薄膜型磁気記録媒体を提供することにある。 〔問題を解決するための手段〕 本発明者らは金属薄膜型磁気記録媒体について
鋭意検討した結果、非磁性支持体上に磁気記録層
として設けられた強磁性金属薄膜の表面上に前記
一般式(I)で表わされるパーフルオロアルカン
スルホン酸アミド化合物をむ層を形成してなる磁
気記録媒体においては、広範な温湿度条件におい
て磁気ヘツド、ガイドポール等の部材に対する耐
摩耗性が著しく向上するとともに、走行系部材に
対する摩耗係数が低減され、また低湿度でのスチ
ル耐久性が大きく向上することを見出し、本発明
をなすに至つたものである。すわち本発明の上記
の目的は、支持体上に電気メツキ、無電解メツ
キ、気相メツキ、スパツタリング、蒸着、イオン
プレーテイング等の方法により形成された強磁性
金属薄膜の表面に、下記一般式(I)で表わされ
るパーフルオロアルカンスルホン酸アミド化合物
を含む層を設けることにより達成される。
えてなる磁気記録媒体に関し、特に広範囲の温湿
度条件において走行性、耐摩耗性に優れ、とくに
厳しい低湿度条件下でのスチル耐久性の優れた金
属薄膜型磁気記録媒体に関するものである。 〔従来技術〕 従来より磁気記録媒体としては、非磁性支持体
上に強磁性金属粉末の磁性材料を有機バインダー
中に分散せしめたものを塗布し乾燥させる塗布型
のものが広く使用されてきている。近年高密度記
録への要求の高まりと共に真空蒸着、スパツタリ
ング、イオンプレーテイング等のペーパーデポジ
シヨン法あるいは電気メツキ法、無電解メツキ等
のメツキ法により形成される強磁性金属薄膜を磁
性記憶層とするいわゆる金属薄膜磁気記録媒体
が、注目をあびており実用化への努力が種々おこ
なわれている。 高密度記録用の磁気記録媒体に要求される条件
の一つとして、高抗磁力化、薄型化が理論的に
も、実験的にも提唱されており、塗布型の磁気記
録媒体よりも一桁小さい薄型化が容易で、飽和磁
束密度も大きい金属薄膜型磁気記録への期待は大
きい。 特に真空蒸着による方法はメツキの場合のよう
な廃液処理を必要とせず工程も簡単で膜の析出速
度も大きくできるため非常にメリツトが大きい。
真空蒸着によつて磁気記録媒体に望ましいい抗磁
力および角型性を有する磁性膜を製造する方法と
しては米国特許3342632号、同3342633号特に伸べ
られている斜め蒸着法が知られている。 強磁性金属薄膜からなる磁気記録媒体にかかわ
る大きな問題として耐候性、走行性、耐摩耗性が
ある。磁気記録媒体は磁気信号の記録、再生およ
び消去の過程において磁気ヘツドと高速相対運動
のもとにおかれるが、その際走行がスムーズにし
かも安定に行われねばならないし、同時にヘツド
との接触、摩耗もしくは破壊が起こつてはならな
い。以上のような背景から走行性、耐久性を向上
させる方法として潤滑層や保護層を設けることが
検討されてきている。 金属薄膜型磁気記録媒体の保護層としては、熱
可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、脂肪酸、脂肪族の金
属塩、脂肪酸エステルあるいはアルキル燐酸エス
テル等を有機溶剤に溶解して塗布したものがあ
る。(例えば特開昭60−69824公報、特開昭60−
85427号公報参照) 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかしながらこうして得られた金属薄膜型磁気
記録媒体は高温高湿あるいは定温等の苛酷条件で
摩擦係数が上昇したり耐摩耗性が不十分であつた
りするほか、低湿度条件でスチル耐久性が劣るこ
とが大きな問題であつた。また保護・潤滑層の厚
みによるヘツドーテープ間のスペーシング損失の
ため電磁変換特性が劣化するなどの問題があり、
金属薄膜型磁気記録の実用化に際しなお改良が望
まれている。 本発明の目的は、広範囲の温湿度条件において
走行性、耐摩耗性、電磁変換特性にすぐれた金属
薄膜型磁気記録媒体を提供することにある。 〔問題を解決するための手段〕 本発明者らは金属薄膜型磁気記録媒体について
鋭意検討した結果、非磁性支持体上に磁気記録層
として設けられた強磁性金属薄膜の表面上に前記
一般式(I)で表わされるパーフルオロアルカン
スルホン酸アミド化合物をむ層を形成してなる磁
気記録媒体においては、広範な温湿度条件におい
て磁気ヘツド、ガイドポール等の部材に対する耐
摩耗性が著しく向上するとともに、走行系部材に
対する摩耗係数が低減され、また低湿度でのスチ
ル耐久性が大きく向上することを見出し、本発明
をなすに至つたものである。すわち本発明の上記
の目的は、支持体上に電気メツキ、無電解メツ
キ、気相メツキ、スパツタリング、蒸着、イオン
プレーテイング等の方法により形成された強磁性
金属薄膜の表面に、下記一般式(I)で表わされ
るパーフルオロアルカンスルホン酸アミド化合物
を含む層を設けることにより達成される。
【式】
ここで、
Rf:炭素数6〜10のパーフルオロアルキル基
R1:炭素数3〜18の炭化水素基
R2:
H、(CH2CH2O)oH、nは1〜20の整数
(CH2)nSO3M、mは2〜4の整数 M:H、金属またはアンモニウム類、 この中、Rfとしては炭素数7〜9のパーフル
オロアルキル基が好ましく、R1の炭化水素基と
してはアルキル基、アルケニル基が好ましく、特
にR1として炭素数8〜18のアルキル基が好まし
い。R2としてHも好ましいものの一つであり、
(CH2CH2O)oHとしてはnが2〜10のものが好
ましく、(CH2)nSO3Mとしてはmが3のものが
好ましく、そのMとしては金属の中、ナトリウ
ム、カリウムが好ましく、アンモニウム類として
はNH4 +、N(C3)H3 +、N(CH3)2H2 +、N
(CH3)3H+、N(CH3)4 +が好ましい。 前記一般式(I)で表わされるパーフルオロア
ルカンスルホン酸アミド化合物の具体例として
は、
(CH2)nSO3M、mは2〜4の整数 M:H、金属またはアンモニウム類、 この中、Rfとしては炭素数7〜9のパーフル
オロアルキル基が好ましく、R1の炭化水素基と
してはアルキル基、アルケニル基が好ましく、特
にR1として炭素数8〜18のアルキル基が好まし
い。R2としてHも好ましいものの一つであり、
(CH2CH2O)oHとしてはnが2〜10のものが好
ましく、(CH2)nSO3Mとしてはmが3のものが
好ましく、そのMとしては金属の中、ナトリウ
ム、カリウムが好ましく、アンモニウム類として
はNH4 +、N(C3)H3 +、N(CH3)2H2 +、N
(CH3)3H+、N(CH3)4 +が好ましい。 前記一般式(I)で表わされるパーフルオロア
ルカンスルホン酸アミド化合物の具体例として
は、
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
次に実施例をもつて本発明を具体的に説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例 13μm厚のポリエステルテレフタレートフイル
ム上にコバルト−ニツケル磁性膜(膜厚150nm)
を斜め蒸着し、磁気記録媒体の原反を調製した。
蒸発源としては電子ビーム蒸着源を使用し、これ
にコバルト−ニツケル合金(Co:80wt%、Ni:
20%)をチヤージし真空度1.3×10-2Po中で最低
入射角θminが35度となるように斜め蒸着を行つ
た。蒸着中、θmin近傍及びΧmax(=90°:最高入
射角)近傍よりO2ガスをそれぞれ1500c.c./分、
1800c.c./分流し、蒸気流の一部と反応させて金属
薄膜の形成を行つた。得られた磁気記録媒体の原
反の磁性金属薄膜上に下記各種化合物(a)〜(j)をメ
チルエチルケトンに溶解して塗布、乾燥し調製し
たサンプルを作製し試料No.1〜8及びNo.10〜13と
した(第1〜2表)。また、前記各種化合物を塗
布しないものを試料No.9とした。得られた磁気テ
ープの(A)40℃、75%相対湿度および(B)5℃、30%
相対湿度におけるステンレス棒に対する摩擦係
数、8ミリ型VTRでの繰り返し走行耐久性なら
びにスチル耐久性を調べたところ第1〜2表のよ
うになつた。 ここで繰り返し走行耐久性とは50m長のテープ
を8ミリ型VTR(富士写真フイルム(株);FUJIX
−8M6型)で繰り返し再生し走行不安定による画
面の乱れや摩擦係数の上昇による走行の停止が起
こるまでの再生回数である。またスチル耐久性
は、同型のVTR(ただしスチル再生時間を制限す
る機能を取り去つてある)で画像再主時にポーズ
ボタンを押し、画像が出なくなるまでの時間を測
定して評価した。 保護層使用化合物 (本発明)
が、本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例 13μm厚のポリエステルテレフタレートフイル
ム上にコバルト−ニツケル磁性膜(膜厚150nm)
を斜め蒸着し、磁気記録媒体の原反を調製した。
蒸発源としては電子ビーム蒸着源を使用し、これ
にコバルト−ニツケル合金(Co:80wt%、Ni:
20%)をチヤージし真空度1.3×10-2Po中で最低
入射角θminが35度となるように斜め蒸着を行つ
た。蒸着中、θmin近傍及びΧmax(=90°:最高入
射角)近傍よりO2ガスをそれぞれ1500c.c./分、
1800c.c./分流し、蒸気流の一部と反応させて金属
薄膜の形成を行つた。得られた磁気記録媒体の原
反の磁性金属薄膜上に下記各種化合物(a)〜(j)をメ
チルエチルケトンに溶解して塗布、乾燥し調製し
たサンプルを作製し試料No.1〜8及びNo.10〜13と
した(第1〜2表)。また、前記各種化合物を塗
布しないものを試料No.9とした。得られた磁気テ
ープの(A)40℃、75%相対湿度および(B)5℃、30%
相対湿度におけるステンレス棒に対する摩擦係
数、8ミリ型VTRでの繰り返し走行耐久性なら
びにスチル耐久性を調べたところ第1〜2表のよ
うになつた。 ここで繰り返し走行耐久性とは50m長のテープ
を8ミリ型VTR(富士写真フイルム(株);FUJIX
−8M6型)で繰り返し再生し走行不安定による画
面の乱れや摩擦係数の上昇による走行の停止が起
こるまでの再生回数である。またスチル耐久性
は、同型のVTR(ただしスチル再生時間を制限す
る機能を取り去つてある)で画像再主時にポーズ
ボタンを押し、画像が出なくなるまでの時間を測
定して評価した。 保護層使用化合物 (本発明)
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
(比較例)
(f) CF3(CF2)7CF2COO(CH2)17CH3
(g) O=P(―O(CH2)17CH3)3
(h) CH3(CH2)16COO(CH2)3CH3
【化】
【式】
【表】
強磁性金属薄膜上に前記一般式(I)で表わさ
れるパーフルオロアルカンスルホン酸アミド化合
物を含む層を設けてなる本発明の金属薄膜型磁気
記録媒体は、比較例に示すような従来検討されて
きた潤滑剤に比べ、摩擦係数が小さく、くり返し
走行耐久性が十分高く、またスチル耐久性が優
れ、しかもこれらは高温高湿及び低温低湿の悪条
件においてその効果を奏するものであるから、著
しく優れた温湿度適応性、走行性、耐久性をもつ
ものである。そして、特に低湿度条件でスチル耐
久性が優れている。さらに、本発明では前記化合
物の塗布量が少なくてもその効果をもつから、経
済的であり、実用性が高いほか、保護・潤滑層の
厚みが少ないことにより、ヘツド−テープ間のス
ペーシング損失のよる電磁変換特性の劣化の問題
を生じない。したがつて、本発明は電磁変換特性
もすぐれている。
れるパーフルオロアルカンスルホン酸アミド化合
物を含む層を設けてなる本発明の金属薄膜型磁気
記録媒体は、比較例に示すような従来検討されて
きた潤滑剤に比べ、摩擦係数が小さく、くり返し
走行耐久性が十分高く、またスチル耐久性が優
れ、しかもこれらは高温高湿及び低温低湿の悪条
件においてその効果を奏するものであるから、著
しく優れた温湿度適応性、走行性、耐久性をもつ
ものである。そして、特に低湿度条件でスチル耐
久性が優れている。さらに、本発明では前記化合
物の塗布量が少なくてもその効果をもつから、経
済的であり、実用性が高いほか、保護・潤滑層の
厚みが少ないことにより、ヘツド−テープ間のス
ペーシング損失のよる電磁変換特性の劣化の問題
を生じない。したがつて、本発明は電磁変換特性
もすぐれている。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 非磁性支持体上に設けられた強磁性金属薄膜
上に下記一般式(I)で表わされるパーフルオロ
アルカンスルホン酸アミド化合物を含む層が設け
られてなることを特徴とする磁気記録媒体。 【式】 ここで、 Rf:炭素数6〜10のパーフルオロアルキル基 R1:炭素数3〜18の炭化水素基 R2:H、(CH2CH2O)oHまたは(CH2)nSO3M nは1〜20の整数、 mは2〜4の整数、 MはH、金属またはアンモニウム類、
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29062186A JPS63144405A (ja) | 1986-12-08 | 1986-12-08 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29062186A JPS63144405A (ja) | 1986-12-08 | 1986-12-08 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63144405A JPS63144405A (ja) | 1988-06-16 |
JPH0582654B2 true JPH0582654B2 (ja) | 1993-11-19 |
Family
ID=17758361
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29062186A Granted JPS63144405A (ja) | 1986-12-08 | 1986-12-08 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63144405A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3567957B2 (ja) * | 1996-12-03 | 2004-09-22 | 日本精工株式会社 | グリース組成物及び転がり軸受 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61248218A (ja) * | 1985-04-25 | 1986-11-05 | Toray Ind Inc | 垂直磁気記録媒体 |
-
1986
- 1986-12-08 JP JP29062186A patent/JPS63144405A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61248218A (ja) * | 1985-04-25 | 1986-11-05 | Toray Ind Inc | 垂直磁気記録媒体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS63144405A (ja) | 1988-06-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4592948A (en) | Magnetic recording medium | |
US4801500A (en) | Magnetic recording medium | |
JPH0582654B2 (ja) | ||
JP3130674B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH03252921A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH0319602B2 (ja) | ||
JPH0316688B2 (ja) | ||
JPS62239315A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPS6295721A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPS62141626A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPS62117132A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPS62103835A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH04125813A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH11353640A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH05205252A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPS62112215A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH0432020A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH0553007B2 (ja) | ||
JPS62117134A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH0762911B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPS6339126A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPS62103841A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPS6057532A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPS61278012A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPS62103837A (ja) | 磁気記録媒体 |