JPH0581922A - 導体ペースト組成物及びセラミツクス多層基板 - Google Patents

導体ペースト組成物及びセラミツクス多層基板

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JPH0581922A
JPH0581922A JP13546291A JP13546291A JPH0581922A JP H0581922 A JPH0581922 A JP H0581922A JP 13546291 A JP13546291 A JP 13546291A JP 13546291 A JP13546291 A JP 13546291A JP H0581922 A JPH0581922 A JP H0581922A
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JP
Japan
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via hole
conductor paste
weight
conductor
paste composition
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP13546291A
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English (en)
Inventor
Yoshiyuki Nishihara
芳幸 西原
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AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】セラミックス基板のビアホールの断線を防止す
る。 【構成】無機成分が重量%表示で銅粉末80〜99.5
%、耐火物フィラー0.5〜20%、ガラス粉末0〜1
0%、酸化剤0〜10%からなる。 【効果】本発明にかかる導体ペーストをビアホールに充
填した場合は、焼成時にこの導体ペーストの収縮が少な
いため、ビアホールの断線、ビアホールの周辺のへこみ
を防止でき、高精度な寸法精度でしかも安価、低抵抗を
実現する銅導体による多層基板の製造が可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はセラミックス多層基板に
使用される導体ペースト組成物等に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、焼成後のアルミナ基板上に絶縁体
のペースト又はグリーンシートを積層して焼成する多層
基板やアルミナ基板に設けられたビアホールに導体ペー
ストを充填して焼成すると、この導体ペーストが収縮す
るために、ビアホール内に空孔ができてビアホールが断
線するという欠点があった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記課題を解
決し、セラミックス基板のビアホールに充填し良好な充
填性を有するビアホールを製造するための導体ペースト
を提供することを目的とするものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は前述の課題を解
決すべくなされたものであり、無機成分が重量%表示で
銅粉末80〜99.5、耐火物フィラー0.5〜20、
ガラス粉末0〜10、酸化剤0〜10からなる導体ペー
スト組成物を提供するものである。
【0005】本発明の導体ペースト組成物は、無機成分
及び有機バインダー成分から成る。その無機成分組成は
銅(Cu)、フィラー及びその他の添加物であり、以下
の組成である。
【0006】 銅粉末 80〜99.5重量% 耐火物フィラー 0.5〜20重量% ガラス粉末 0〜10重量% 酸化剤 0〜10重量%
【0007】かかる銅は粉末として含有され良好な電気
伝導性を達成するため、80〜99.5重量%であるこ
とが好ましく、望ましくは85〜99.0重量%で、特
に望ましくは90〜99.0重量%である。粉末の粒径
としては0.2〜5.0ミクロンであることが好まし
い。
【0008】かかる耐火物フィラーは導体の焼成収縮を
おさえビアホールに充填されたペーストが収縮し充填性
がおちるのを防ぐ効果を有し、アルミナ(Al2
3 )、ジルコニア(ZrO2 )、ジルコン(ZrSiO
4 )、シリカ(SiO2 )が好ましく、望ましくはアル
ミナである。その添加量は0.5重量%より少ないと実
質的な効果が弱く、また20重量%より多いと導体特性
を損ねるため0.5〜20重量%であることが好まし
く、望ましくは1.0〜15重量%で、特に望ましくは
2.0〜10重量%である。その粒径としては0.1〜
5.0ミクロンであることが好ましい。
【0009】その他有機バインダー分解のための酸化剤
として、Bi23 、CeO2 、PbO等の酸化物を一
種または二種以上を同時に用い、その添加量はかかる酸
化物全体で無機成分の0〜10重量%の範囲内が好まし
い。10重量%以上であると導体の電気抵抗が増加し、
好ましくない。これらは粉末として用い、その粒径とし
ては0.1〜5.0ミクロンであることが望ましくな
い。
【0010】さらに、別種添加物として緻密な焼結とす
るためのガラス粉末を用い、その添加量は無機成分の0
〜10重量%の範囲が好ましい。10重量%以上である
と導体の電気抵抗が増大し望ましくない。粉末の粒径と
しては0.1〜5.0ミクロンであることが望ましい。
なお、ガラス粉末とは、非結晶ガラス及び/又は結晶化
ガラスを示すものとする。
【0011】本発明にかかる有機バインダー成分は、樹
脂成分としてはエチルセルロース、アクリル樹脂、酢酸
ビニル系樹脂等一般的なものが使用できる。溶剤として
はテルピネオール、ブチルカルビトール、ブチルカルビ
トールアセテート等一般的なものが使用できる。
【0012】
【実施例】最初に0.25mm径のスルーホールを有し
た厚さ0.635mmの焼成後のアルミナ基板を用意し
た。次いで表1の上段に示されるガラス粉末を常法によ
り製造した。次いで同表の下段に示されるフィラーと上
記ガラス粉末を混合し組成物を得た。
【0013】次いでこれに有機バインダーとしてポリビ
ニールブチラール、可塑剤としてフタル酸ジオクチル及
びポリエチレングリコール、溶剤としてトルエン及びア
ルコールを添加し混練して粘度1万〜3万cpsのペー
ストを約0.2mm厚のシートにした後60〜80℃で
約2時間乾燥し絶縁体用のグリーンシートを得た。
【0014】次いで表2、表3及び表4に示されるサン
プル番号1〜20の導体ペースト組成について、まず固
形分について混合し組成物をえた。次いでこれに、有機
バインダーとしてエチルセルロース、溶剤としてα−テ
ルピネオールから成る有機ビヒクルを添加し混練して粘
度10万〜30万cpsの導体ペーストを得た。
【0015】前記アルミナ基板のスルーホール部に該導
体ペーストをスクリーン印刷により充填し、ビアホール
を作った。さらにこのアルミナ基板両面に該ビアホール
充填部導体と接するように銅導体パターンをスクリーン
印刷により形成した。
【0016】さらに前記グリーンシートに、あらかじめ
0.2mm径のスルーホールを形成し前記アルミナ基板
両面の銅導体パターンとこのスルーホールがそれぞれ重
なるようにこのグリーンシートを前記アルミナ基板両面
に張り付けた。
【0017】さらに銅導体のスクリーン印刷によりこの
スルーホールの充填およびグリーンシート上面のパター
ン形成を行った。これを70℃、100kg/cm2で熱圧着
した。次いでこの基板を最高温度900℃、900℃の
維持時間10分、酸素濃度5ppm、流量20リットル
/minの窒素雰囲気中で焼成し、セラミックス多層基
板を製造した。このセラミックス多層基板の上記ビアホ
ールは総計2000個とした。
【0018】このセラミックス多層基板のアルミナ基板
ビアホール部に充填した導体について、外観目視による
基板表面のへこみの有無(最上ランク(A)〜最低ラン
ク(D))、ビアホール部の導通試験、ヒートサイクル
後の導通試験により製造したセラミックス多層基板の評
価を行った。
【0019】ヒートサイクルの試験条件は、−55℃〜
+125℃各30分間を1サイクルとして、1000サ
イクル行い、ビアホール総計2000個中の断線個数
(ヒートサイクル前に既に断線したものを除く)を表示
した。なお、表4のサンプル番号16〜20は比較例で
あり、表1〜表4の各組成の単位は重量%とする。
【0020】
【表1】
【0021】
【表2】
【0022】
【表3】
【0023】
【表4】
【0024】
【発明の効果】本発明にかかる導体ペーストをビアホー
ルに充填した場合は、焼成時にこの導体ペーストの収縮
が少ないため、ビアホールの断線、ビアホールの周辺の
へこみを防止でき、高精度な寸法精度でしかも安価、低
抵抗を実現する銅導体による多層基板の製造が可能とな
る。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】無機成分が重量%表示で銅粉末80〜9
    9.5、耐火物フィラー0.5〜20、ガラス粉末0〜
    10、酸化剤0〜10からなる導体ペースト組成物。
  2. 【請求項2】請求項1の導体ペースト組成物を使用し、
    焼成されたセラミックス多層基板。
JP13546291A 1991-05-10 1991-05-10 導体ペースト組成物及びセラミツクス多層基板 Withdrawn JPH0581922A (ja)

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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0737421A (ja) * 1993-07-22 1995-02-07 Murata Mfg Co Ltd バイアホール用導電性ペーストおよびそれを用いた多層セラミック基板の製造方法
JPH0794840A (ja) * 1993-06-14 1995-04-07 Nikko Co スルーホールを充填したセラミック基板およびスルーホール充填用導体ペースト
JPH08222852A (ja) * 1995-02-14 1996-08-30 Nikko Co 導体充填スルーホールの製造方法
US6855399B2 (en) 2002-07-17 2005-02-15 Ngk Spark Plug Co., Ltd. Copper paste and wiring board using the same
US7291789B2 (en) 2002-07-17 2007-11-06 Ngk Spark Plug Co., Ltd. Copper paste and wiring board using the same
JP5731719B2 (ja) * 2012-12-11 2015-06-10 昭和電工株式会社 カーボンペーストおよび固体電解コンデンサ素子
JP2016528134A (ja) * 2013-06-05 2016-09-15 セラムテック ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングCeramTec GmbH セラミック基材上の金属被覆

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0794840A (ja) * 1993-06-14 1995-04-07 Nikko Co スルーホールを充填したセラミック基板およびスルーホール充填用導体ペースト
JPH0737421A (ja) * 1993-07-22 1995-02-07 Murata Mfg Co Ltd バイアホール用導電性ペーストおよびそれを用いた多層セラミック基板の製造方法
JPH08222852A (ja) * 1995-02-14 1996-08-30 Nikko Co 導体充填スルーホールの製造方法
US6855399B2 (en) 2002-07-17 2005-02-15 Ngk Spark Plug Co., Ltd. Copper paste and wiring board using the same
EP1383362A3 (en) * 2002-07-17 2006-01-04 Ngk Spark Plug Co., Ltd Copper paste and wiring board using the same
US7291789B2 (en) 2002-07-17 2007-11-06 Ngk Spark Plug Co., Ltd. Copper paste and wiring board using the same
JP5731719B2 (ja) * 2012-12-11 2015-06-10 昭和電工株式会社 カーボンペーストおよび固体電解コンデンサ素子
JP2016528134A (ja) * 2013-06-05 2016-09-15 セラムテック ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングCeramTec GmbH セラミック基材上の金属被覆

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