JPH058190B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH058190B2 JPH058190B2 JP59092397A JP9239784A JPH058190B2 JP H058190 B2 JPH058190 B2 JP H058190B2 JP 59092397 A JP59092397 A JP 59092397A JP 9239784 A JP9239784 A JP 9239784A JP H058190 B2 JPH058190 B2 JP H058190B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- substituted
- formula
- unsubstituted
- hydrogen atom
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- -1 phenoxymethyl group Chemical group 0.000 claims description 84
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 11
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 8
- MNFORVFSTILPAW-UHFFFAOYSA-N azetidin-2-one Chemical class O=C1CCN1 MNFORVFSTILPAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 125000005499 phosphonyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 claims description 4
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 claims description 4
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 claims description 3
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims description 2
- 150000003452 sulfinic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 19
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000006244 carboxylic acid protecting group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 3
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 125000004354 sulfur functional group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004201 2,4-dichlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(Cl)C([H])=C1Cl 0.000 description 2
- 125000001917 2,4-dinitrophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C(=C1*)[N+]([O-])=O)[N+]([O-])=O 0.000 description 2
- 125000005809 3,4,5-trimethoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C(OC([H])([H])[H])C(OC([H])([H])[H])=C(OC([H])([H])[H])C([H])=C1* 0.000 description 2
- 125000004800 4-bromophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Br 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000003782 beta lactam antibiotic agent Substances 0.000 description 2
- DIKBFYAXUHHXCS-UHFFFAOYSA-N bromoform Chemical compound BrC(Br)Br DIKBFYAXUHHXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PVEOYINWKBTPIZ-UHFFFAOYSA-M but-3-enoate Chemical compound [O-]C(=O)CC=C PVEOYINWKBTPIZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N ethyl propionate Chemical compound CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N methyl formate Chemical compound COC=O TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 2
- 125000000636 p-nitrophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)[N+]([O-])=O 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 2
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002132 β-lactam antibiotic Substances 0.000 description 2
- 229940124586 β-lactam antibiotics Drugs 0.000 description 2
- KGDNQIMDEAQRRN-UHFFFAOYSA-N (4-methoxyphenyl)methyl 2-[2-(benzenesulfonylsulfanyl)-4-oxo-3-[(2-phenylacetyl)amino]azetidin-1-yl]-2-methylbut-3-enoate Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1COC(=O)C(C)(C=C)N1C(=O)C(NC(=O)CC=2C=CC=CC=2)C1SS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KGDNQIMDEAQRRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCTJVFWZDHSYHO-UHFFFAOYSA-N (4-methoxyphenyl)methyl 2-[2-(benzenesulfonylsulfanyl)-4-oxo-3-[(2-phenylacetyl)amino]azetidin-1-yl]-3-methylbut-3-enoate Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1COC(=O)C(C(C)=C)N1C(=O)C(NC(=O)CC=2C=CC=CC=2)C1SS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KCTJVFWZDHSYHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APQIUTYORBAGEZ-UHFFFAOYSA-N 1,1-dibromoethane Chemical compound CC(Br)Br APQIUTYORBAGEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSZOAYXJRCEYSX-UHFFFAOYSA-N 1-nitropropane Chemical compound CCC[N+]([O-])=O JSZOAYXJRCEYSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004105 2-pyridyl group Chemical group N1=C([*])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000001999 4-Methoxybenzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1OC([H])([H])[H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000002672 4-bromobenzoyl group Chemical group BrC1=CC=C(C(=O)*)C=C1 0.000 description 1
- 125000000242 4-chlorobenzoyl group Chemical group ClC1=CC=C(C(=O)*)C=C1 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M Butyrate Chemical compound CCCC([O-])=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229930186147 Cephalosporin Natural products 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N Methyl propionate Chemical compound CCC(=O)OC RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930182555 Penicillin Natural products 0.000 description 1
- JGSARLDLIJGVTE-MBNYWOFBSA-N Penicillin G Chemical compound N([C@H]1[C@H]2SC([C@@H](N2C1=O)C(O)=O)(C)C)C(=O)CC1=CC=CC=C1 JGSARLDLIJGVTE-MBNYWOFBSA-N 0.000 description 1
- RFFFKMOABOFIDF-UHFFFAOYSA-N Pentanenitrile Chemical compound CCCCC#N RFFFKMOABOFIDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XAKBSHICSHRJCL-UHFFFAOYSA-N [CH2]C(=O)C1=CC=CC=C1 Chemical group [CH2]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAKBSHICSHRJCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000004190 benzothiazol-2-yl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2N=C(*)SC2=C1[H] 0.000 description 1
- 230000003115 biocidal effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950005228 bromoform Drugs 0.000 description 1
- KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N butyronitrile Chemical compound CCCC#N KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940124587 cephalosporin Drugs 0.000 description 1
- AFZSMODLJJCVPP-UHFFFAOYSA-N dibenzothiazol-2-yl disulfide Chemical compound C1=CC=C2SC(SSC=3SC4=CC=CC=C4N=3)=NC2=C1 AFZSMODLJJCVPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJBFPHVGVWTDIP-UHFFFAOYSA-N dibromomethane Chemical compound BrCBr FJBFPHVGVWTDIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMBWSYZSUOEYSN-UHFFFAOYSA-N diethyldithiocarbamic acid Chemical compound CCN(CC)C(S)=S LMBWSYZSUOEYSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005982 diphenylmethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N dipropyl ether Chemical compound CCCOCCC POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950004394 ditiocarb Drugs 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N formic acid ethyl ester Natural products CCOC=O WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 150000003951 lactams Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940017219 methyl propionate Drugs 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 125000004971 nitroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- MCSAJNNLRCFZED-UHFFFAOYSA-N nitroethane Chemical compound CC[N+]([O-])=O MCSAJNNLRCFZED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N nitromethane Chemical compound C[N+]([O-])=O LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003232 p-nitrobenzoyl group Chemical group [N+](=O)([O-])C1=CC=C(C(=O)*)C=C1 0.000 description 1
- 125000006503 p-nitrobenzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1[N+]([O-])=O)C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940049954 penicillin Drugs 0.000 description 1
- 125000003170 phenylsulfonyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)* 0.000 description 1
- 125000000587 piperidin-1-yl group Chemical group [H]C1([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 229960005235 piperonyl butoxide Drugs 0.000 description 1
- 125000004591 piperonyl group Chemical group C(C1=CC=2OCOC2C=C1)* 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N propionitrile Chemical compound CCC#N FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 125000000246 pyrimidin-2-yl group Chemical group [H]C1=NC(*)=NC([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000437 thiazol-2-yl group Chemical group [H]C1=C([H])N=C(*)S1 0.000 description 1
- 125000005425 toluyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006257 total synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000006000 trichloroethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001701 trimethoxybenzyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002221 trityl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C([*])(C1=C(C(=C(C(=C1[H])[H])[H])[H])[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D205/00—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D205/02—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
- C07D205/06—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
- C07D205/08—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams
- C07D205/09—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams with a sulfur atom directly attached in position 4
- C07D205/095—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams with a sulfur atom directly attached in position 4 and with a nitrogen atom directly attached in position 3
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D205/00—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D205/02—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
- C07D205/06—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
- C07D205/08—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams
- C07D205/09—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams with a sulfur atom directly attached in position 4
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はアゼチジノン誘導体の製造法に関す
る。より詳しくは、本発明は一般式 〔式中R1は水素原子、ハロゲン原子又は低級
アルコキシ基を示し、R2は水素原子、ハロゲン
原子、低級アルコキシ基、アミノ基又は基
【式】（R5は置換もしくは非置換のフエニ ル基、置換もしくは非置換のフエニルメチル基、
置換もしくは非置換のフエノキシメチル基又は置
換もしくは非置換のベンゾイル基を示す。）を示
すか、或いはR1とR2は両方でカルボニル基を示
す。R4は水素原子、置換基を有することのある
炭化水素残基又は有機酸もしくは無機酸から誘導
されるアシル基、シリル基、スルホニル基もしく
はホスホニル基を示す。R6は置換又は非置換の
フエニル基を示す。〕 で表わされるアゼチジノン誘導体の製造法に関す
る。 一般式（）で表わされるアゼチジノン誘導体
（以下「化合物（）」という）は、その置換基の
種類により種々のβ−ラクタム系抗生物質へ誘導
できる有用な合成中間体である。例えば化合物
（）中R4が基【式】〔R7は水素原 子又はカルボン酸保護基を示す。〕である場合に
は以下の反応式に従い、テトラヘドロンレター、
28、2187（1982）に記載の方法でセフアロスポリ
ン系化合物へ変換できる。 〔式中R1，R2，R6及びR7は前記に同じ。〕 またR4が水素原子、シリル基、スルホニル基
又はホスホニル基である場合には種々の単環性β
−ラクタム系抗生物質となる。 従来技術 化合物（）の従来知られている製造法として
は、例えば特開昭50−129590号公報に記載の方法
がある。しかしこの方法では高価な銀塩又は有害
な重金属塩を使用する必要があり、工業的には不
利な方法である。 発明の目的及び構成 本発明の目的はβ−ラクタム系抗生物質の重要
な合成中間体である化合物（）を簡便な操作で
高純度且つ高収率にて製造し得る方法を提供する
ことにある。 すなわち本発明は、一般式 〔式中R1，R2及びR4は前記に同じ。R3は置換
又は非置換の含窒素芳香族複素環残基を示す。〕 で表わされるジチオアゼチジノン誘導体を、一般
式 R6SO2Ｈ （） 〔式中R6は前記に同じ。〕 で表わされるスルフイン酸誘導体と反応させて、
一般式 〔式中R1，R2，R4及びR6は前記に同じ。〕 で表わされるアゼチジノン誘導体を得ることを特
徴とするアゼチジノン誘導体の製造法に係る。 本明細書においてR1として示されるハロゲン
原子の具体例としては、例えばCl，Br，Ｉ等を
挙げることができる。またR1として示される低
級アルコキシ基の具体例としては、例えばメトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、ｉ−プロポキシ、ブ
トキシ、ｔ−ブトキシ基等を挙げることができ
る。 本明細書においてR2として示されるハロゲン
原子の具体例としては、例えばCl，Br，Ｉ等を
挙げることができる。またR2として示される低
級アルコキシ基の具体例としては、例えばメトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、ｉ−プロポキシ、ブ
トキシ、ｔ−ブトキシ基等を挙げることができ
る。 本明細書においてR5として示される置換され
たフエニル基の具体例としては、例えばトリル、
４−クロロフエニル、２，４−ジクロロフエニ
ル、２，４，６−トリクロロフエニル、４−ブロ
モフエニル、２，４−ジブロモフエニル、４−メ
トキシフエニル、２，４−ジメトキシフエニル、
３，４，５−トリメトキシフエニル、４−ニトロ
フエニル、２，４−ジニトロフエニル基等を挙げ
ることができる。R6として示される置換された
フエニルメチル基の具体例としては、例えばトリ
ルメチル、４−クロロフエニルメチル、２，４−
ジクロロフエニルメチル、２，４，６−トリクロ
ロフエニルメチル、４−ブロモフエニルメチル、
２，４−ジブロモフエニルメチル、４−メトキシ
フエニルメチル、２，４−ジメトキシフエニルメ
チル、３，４，５−トリメトキシフエニルメチ
ル、４−ニトロフエニルメチル、２，４−ジニト
ロフエニルメチル、フエニルジクロロメチル、フ
エニルヒドロキシメチル、フエニルヒドロキシイ
ミノメチル、フエニルメトキシイミノメチル、フ
エニルアミノメチル、フエニルアセトキシメチル
基等を挙げることができる。R5として示される
置換されたフエノキシメチル基の具体例として
は、例えばトリルオキシメチル、４−クロロフエ
ノキシメチル、２，４−ジクロロフエノキシメチ
ル、２，４，６−トリクロロフエノキシメチル、
４−ブロモフエノキシメチル、２，４−ジブロモ
フエノキシメチル、４−メトキシフエノキシメチ
ル、２，４−ジメトキシフエノキシメチル、３，
４，５−トリメトキシフエノキシメチル、４−ニ
トロフエノキシメチル、２，４−ジニトロフエノ
キシメチル基等を挙げることができる。またR5
として示される置換されたベンゾイル基の具体例
としては、例えばトルイル、４−クロロベンゾイ
ル、２，４−ジクロロベンゾイル、２，４，６−
トリクロロベンゾイル、４−ブロモベンゾイル、
２，４−ジブロモベンゾイル、４−メトキシベン
ゾイル、２，４−ジメトキシベンゾイル、３，
４，５−トリメトキシベンゾイル、４−ニトロベ
ンゾイル、２，４−ジニトロベンゾ基等を挙げる
ことができる。 本明細書においてR3として示される置換又は
非置換の含窒素芳香族複素環残基の具体例として
は、例えばチアゾール−２−イル、４−メチルチ
アゾール−２−イル、５−メチルチアゾール−２
−イル、４−フエニルチアゾール−２−イル、５
−フエニルチアゾール−２−イル、チアジアゾー
ル−２−イル、５−メチルチアジアゾール−２−
イル、５−フエニルチアジアゾール−２−イル、
５−メトキシカルボニルチアジアゾール−２−イ
ル、ベンゾチアゾール−２−イル、４−メチルベ
ンゾチアゾール−２−イル、６−メチルベンゾチ
アゾール−２−イル、５−メトキシベンゾチアゾ
ール−２−イル、６−ニトロベンゾチアゾール−
２−イル、５−クロロベンゾチアゾール−２−イ
ル、ベンゾオキサゾール−２−イル、４−メチル
ベンゾオキサゾール−２−イル、６−フエニルベ
ンゾオキサゾール−２−イル、５−メトキシベン
ゾオキサゾール−２−イル、５−クロロベンゾオ
キサゾール−２−イル、ベンゾイミダゾール−２
−イル、５−メチルベンゾイミダゾール−２−イ
ル、６−クロロベンゾイミダゾール−２−イル、
ピリミジン−２−イル、５−メチルピリミジン−
２−イル、２−ピリジル基等を挙げることができ
る。 本明細書におけるR4は水素原子、有機酸もし
くは無機酸から誘導されるアシル基、シリル基、
スルホニル基もしくはホスホニル基、又は置換基
を有することのある炭化水素残基である。置換基
を有する炭化水素残基の具体例としては、例え
ば、 【式】【式】 【式】 等を挙げることができる。 ここでR7は水素原子又はカルボン酸の保護基
を示す。カルボン酸保護基としてはTheodora
WGreeneによる“Protective Groups in
Organic Synthesis”第５章に記載の保護基を広
く使用でき、具体的には、メチル、エチル、ベン
ジル、ｐ−メトキシベンジル、トリメトキシベン
ジル、トリメトキシジクロロベンジル、ピペロニ
ル、ジフエニルメチル、ビス（ｐ−メトキシフエ
ニル）メチル、ジトリルメチル、フエニル−ｐ−
メトキシフエニルメチル、α−ｐ−メトキシフエ
ニルエチル、α−ｐ−メトキシフエニル−β−ト
リクロロエチル、トリクロロエチル、フローレニ
ル、ｔ−プチル、トリチル、α−ジフエニルエチ
ル、クミル、ｐ−ニトロベンジル、ｏ−ニトロベ
ンジル、ｏ，ｐ−ジニトロベンジル、フエナシ
ル、ｐ−ブロモフエナシル、１−メトキシカルボ
ニル−２−オキソプロピル、メトキシエトキシメ
チル、メトキシメチル、ベンジルオキシメチル、
ｉ−プロポキシメチル基等を例示できる。 Z1は水素原子、ハロゲン原子、硫黄基、酸素
基、窒素基等を示す。Z2はZ1と同じであるか又は
Z1以外のハロゲン原子、硫黄基、酸素基、窒素基
等を示す。Z1およびZ2で示される置換基として
は、例えば臭素、塩素、弗素等のハロゲン原子、
メチルチオ、エチルチオ、フエニルチオ、パラニ
トロフエニルチオ、ペンタクロロフエニルチオ、
２−ピリジルチオ、２−ベンゾチアジアゾリルチ
オ、１，３，４−チアジアゾール−５−イルチ
オ、２−置換−１，３，４−チアジアゾール−５
−イルチオ、１，２，３，４−テトラゾール−５
−イルチオ、１−置換−１，２，３，４−テトラ
ゾール−５−イルチオ、０−エチルジチオカルボ
ネート、Ｎ，Ｎ−ジエチルジチオカルバメート、
フエニルスルホニル、パラメチルフエニルスルホ
ニル基等の硫黄基、ヒドロキシ、メトキシ、エト
キシ、アセトキシ、ベンゾイルオキシ、ニトロソ
オキシ、ニトリルオキシ基、ジフエニルホスホニ
ルオキシ、メタンスルホナト、Ｎ−モルホニル、
ジフエニルメチルオキシ基等の酸素基、ジメチル
アミノ、ピペリジン−１−イル基等の窒素基など
が挙げられる。 本明細書においてR6で示される置換されたフ
エニルの具体例としては、例えばトリル、キシリ
ル、４−クロロフエニル、２，４−ジクロロフエ
ニル、２，４，６−トリクロロフエニル、４−ブ
ロモフエニル、２，４−ジブロモフエニル、４−
メトキシフエニル、２，４−ジメトキシフエニ
ル、３，４，５−トリメトキシフエニル、４−ニ
トロフエニル、２，４−ジニトロフエニル基等を
挙げることができる。 本発明においては、通常適当な溶媒中化合物
（）と化合物（）を反応させる。化合物（）
は、化合物（）に対して通常１〜５当量、好ま
しくは１〜２当量、特に好ましくは１〜1.5当量
用いるのが良い。上記反応は、通常−20℃から使
用溶媒の還流温度の範囲で行なわれ、好ましくは
０℃から50℃の温度範囲で行なわれる。反応時間
は反応温度、化合物（）及び化合物（）の種
類により異なり一概には言えないが、通常0.1〜
15時間である。溶媒の使用量は、通常化合物
（）に対して１〜400重量倍、好ましくは１〜
100重量倍、特に好ましくは１〜50重量倍程度で
ある。本発明に用いられる溶媒は、化合物（）
及び化合物（）を溶解する溶媒であれば特に限
定されるものではない。しかも完全に溶解する必
要はなく、一部分溶解することができれば良い。
また本発明に用いられる溶媒は有機溶媒と水の混
合溶媒でも良い。本発明に用いる有機溶媒の具体
例としては例えば、アセトン、メチルエチルケト
ン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン等
のケトン類、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロ
ピル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、
プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル等のエ
ステル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素類、ジクロルメタン、ジブロムメタ
ン、クロロホルム、ブロモホルム、四塩化炭素、
ジクロルエタン、ジブロムエタン、トリクロルエ
タン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、
ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロパン等
のニトロアルカン類、アセトニトリル、プロピオ
ニトリル、ブチロニトリル、バレロニトリル等の
ニトリル類、メタノール、エタノール、プロパノ
ール、イソプロパノール、ブタノール等のアルコ
ール類等を挙げることができる。これらの有機溶
媒は単一溶媒として用いることもできるし、２種
以上の混合溶媒として用いることもできる。 本発明の出発原料（）は種々の方法を用いて
合成できる。種々の合成ルートの内ペニシリンよ
りの合成ルートとしては、例えばテトラヘドロン
レター、3001（1973）；J.Amer.Chem.Soc.，86，
5307（1964）；特公昭56−14665号公報；特開昭57
−29587号公報；第９回国際複素環会議予稿集、
300ページ（1983）；特開昭57−59896号公報；特
開昭57−183793号公報；特開昭57−183794号公報
等に記載の方法、又はそれらの組合せにより合成
できる。その方法を反応式にまとめると下記のよ
うになる。 〔式中R1，R2，R3，R4，R5及びR7は前記に同
じ。〕 しかし本発明に用いられる出発原料（）は、
この合成ルートで製造される化合物に限定される
ものではなく、全合成、半合成を含めて種々の方
法により得られるジチオアゼチジノンが本発明の
出発原料として供せられる。 本発明の目的化合物は反応終了後、常法により
抽出単離し、カラムクロマトグラフあるいは再結
晶により精製することができる。 実施例 以下に実施例を示して本発明を説明するが、本
発明はこれら実施例に限定されるものではない。
尚以下の実施例において、Phはフエニル基を意
味する。 実施例 １ ｐ−メトキシベンジル ２−〔３−フエニルア
セトアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）
−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−
３−ブテノエート1.0ｇをアセトン10mlに溶かし、
これにベンゼンスルフイン酸1.2当量を加え、室
温で攪拌しながら４時間反応させる。アセトンを
減圧下留去し得られた残渣をシリカゲルを用いて
カラムクロマトグラフイーにより精製すると収率
97％でｐ−メトキシベンジル ２−（３−フエニ
ルアセトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ−
２−アゼチジノン−１−イル）−３−メチル−３
−ブテノエートが得られた。このもののNMRス
ペクトルはその構造と良く一致していた。NMR
スペクトルは表にまとめて示す。 実施例 ２ ｐ−メトキシベンジル ２−〔３−フエニルア
セトアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）
−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−
３−ブテノエートを実施例１と同様の方法で表
に示した溶媒を用いて反応させてｐ−メトキシベ
ンジル ２−（３−フエニルアセトアミド−４−
ベンゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−１
−イル）−３−メチル−３−ブテノエートが表
に示した収率で得られた。これらのNMRスペク
トルは実施例１で得られたものと完全に一致し
た。 【表】 実施例 ３ ｐ−メトキシベンジル ２−〔３−フエニルア
セトアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）
−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−
３−ブテノエート10ｇをアセトン100mlに溶かし、
これにベンゼンスルフイン酸1.2当量を加え、室
温で攪拌しながら４時間反応させる。次いで30％
過酸化水素水を0.5当量加え、室温で攪拌しなが
ら１時間反応させる。析出した２−ベンゾチアゾ
リルジスルフイドの沈殿を別し、液より減圧
下アセトンを留去する。得られた残渣をベンゼン
に溶解し、ハイポ水溶液で洗浄する。続いて水洗
したのち、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ベンゼ
ンを減圧下留去するとｐ−メトキシベンジル ２
−（３−フエニルアセトアミド−４−ベンゼンス
ルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−イル）−
２−メチル−３−ブテノエートが得られる。この
ものはベンゼンより再結晶することにより精製す
ることができる。（収率92％）このもののNMR
スペクトルは実施例１で得られたものと完全に一
致した。 実施例４ 実施例１と同様の方法で表に示した化合物を
得た。これらのNMRスペクトルはその構造と良
く一致していた。NMRスペクトルは表にまと
めて示す。 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 発明の効果 本発明の方法では、従来法のように高価な銀塩
や有害な重金属塩の使用は不必要でありかつ90％
以上の高収率で化合物（）を製造し得る。それ
故、本発明の方法は化合物（）の工業的製造法
として極めて有利な方法である。
る。より詳しくは、本発明は一般式 〔式中R1は水素原子、ハロゲン原子又は低級
アルコキシ基を示し、R2は水素原子、ハロゲン
原子、低級アルコキシ基、アミノ基又は基
【式】（R5は置換もしくは非置換のフエニ ル基、置換もしくは非置換のフエニルメチル基、
置換もしくは非置換のフエノキシメチル基又は置
換もしくは非置換のベンゾイル基を示す。）を示
すか、或いはR1とR2は両方でカルボニル基を示
す。R4は水素原子、置換基を有することのある
炭化水素残基又は有機酸もしくは無機酸から誘導
されるアシル基、シリル基、スルホニル基もしく
はホスホニル基を示す。R6は置換又は非置換の
フエニル基を示す。〕 で表わされるアゼチジノン誘導体の製造法に関す
る。 一般式（）で表わされるアゼチジノン誘導体
（以下「化合物（）」という）は、その置換基の
種類により種々のβ−ラクタム系抗生物質へ誘導
できる有用な合成中間体である。例えば化合物
（）中R4が基【式】〔R7は水素原 子又はカルボン酸保護基を示す。〕である場合に
は以下の反応式に従い、テトラヘドロンレター、
28、2187（1982）に記載の方法でセフアロスポリ
ン系化合物へ変換できる。 〔式中R1，R2，R6及びR7は前記に同じ。〕 またR4が水素原子、シリル基、スルホニル基
又はホスホニル基である場合には種々の単環性β
−ラクタム系抗生物質となる。 従来技術 化合物（）の従来知られている製造法として
は、例えば特開昭50−129590号公報に記載の方法
がある。しかしこの方法では高価な銀塩又は有害
な重金属塩を使用する必要があり、工業的には不
利な方法である。 発明の目的及び構成 本発明の目的はβ−ラクタム系抗生物質の重要
な合成中間体である化合物（）を簡便な操作で
高純度且つ高収率にて製造し得る方法を提供する
ことにある。 すなわち本発明は、一般式 〔式中R1，R2及びR4は前記に同じ。R3は置換
又は非置換の含窒素芳香族複素環残基を示す。〕 で表わされるジチオアゼチジノン誘導体を、一般
式 R6SO2Ｈ （） 〔式中R6は前記に同じ。〕 で表わされるスルフイン酸誘導体と反応させて、
一般式 〔式中R1，R2，R4及びR6は前記に同じ。〕 で表わされるアゼチジノン誘導体を得ることを特
徴とするアゼチジノン誘導体の製造法に係る。 本明細書においてR1として示されるハロゲン
原子の具体例としては、例えばCl，Br，Ｉ等を
挙げることができる。またR1として示される低
級アルコキシ基の具体例としては、例えばメトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、ｉ−プロポキシ、ブ
トキシ、ｔ−ブトキシ基等を挙げることができ
る。 本明細書においてR2として示されるハロゲン
原子の具体例としては、例えばCl，Br，Ｉ等を
挙げることができる。またR2として示される低
級アルコキシ基の具体例としては、例えばメトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、ｉ−プロポキシ、ブ
トキシ、ｔ−ブトキシ基等を挙げることができ
る。 本明細書においてR5として示される置換され
たフエニル基の具体例としては、例えばトリル、
４−クロロフエニル、２，４−ジクロロフエニ
ル、２，４，６−トリクロロフエニル、４−ブロ
モフエニル、２，４−ジブロモフエニル、４−メ
トキシフエニル、２，４−ジメトキシフエニル、
３，４，５−トリメトキシフエニル、４−ニトロ
フエニル、２，４−ジニトロフエニル基等を挙げ
ることができる。R6として示される置換された
フエニルメチル基の具体例としては、例えばトリ
ルメチル、４−クロロフエニルメチル、２，４−
ジクロロフエニルメチル、２，４，６−トリクロ
ロフエニルメチル、４−ブロモフエニルメチル、
２，４−ジブロモフエニルメチル、４−メトキシ
フエニルメチル、２，４−ジメトキシフエニルメ
チル、３，４，５−トリメトキシフエニルメチ
ル、４−ニトロフエニルメチル、２，４−ジニト
ロフエニルメチル、フエニルジクロロメチル、フ
エニルヒドロキシメチル、フエニルヒドロキシイ
ミノメチル、フエニルメトキシイミノメチル、フ
エニルアミノメチル、フエニルアセトキシメチル
基等を挙げることができる。R5として示される
置換されたフエノキシメチル基の具体例として
は、例えばトリルオキシメチル、４−クロロフエ
ノキシメチル、２，４−ジクロロフエノキシメチ
ル、２，４，６−トリクロロフエノキシメチル、
４−ブロモフエノキシメチル、２，４−ジブロモ
フエノキシメチル、４−メトキシフエノキシメチ
ル、２，４−ジメトキシフエノキシメチル、３，
４，５−トリメトキシフエノキシメチル、４−ニ
トロフエノキシメチル、２，４−ジニトロフエノ
キシメチル基等を挙げることができる。またR5
として示される置換されたベンゾイル基の具体例
としては、例えばトルイル、４−クロロベンゾイ
ル、２，４−ジクロロベンゾイル、２，４，６−
トリクロロベンゾイル、４−ブロモベンゾイル、
２，４−ジブロモベンゾイル、４−メトキシベン
ゾイル、２，４−ジメトキシベンゾイル、３，
４，５−トリメトキシベンゾイル、４−ニトロベ
ンゾイル、２，４−ジニトロベンゾ基等を挙げる
ことができる。 本明細書においてR3として示される置換又は
非置換の含窒素芳香族複素環残基の具体例として
は、例えばチアゾール−２−イル、４−メチルチ
アゾール−２−イル、５−メチルチアゾール−２
−イル、４−フエニルチアゾール−２−イル、５
−フエニルチアゾール−２−イル、チアジアゾー
ル−２−イル、５−メチルチアジアゾール−２−
イル、５−フエニルチアジアゾール−２−イル、
５−メトキシカルボニルチアジアゾール−２−イ
ル、ベンゾチアゾール−２−イル、４−メチルベ
ンゾチアゾール−２−イル、６−メチルベンゾチ
アゾール−２−イル、５−メトキシベンゾチアゾ
ール−２−イル、６−ニトロベンゾチアゾール−
２−イル、５−クロロベンゾチアゾール−２−イ
ル、ベンゾオキサゾール−２−イル、４−メチル
ベンゾオキサゾール−２−イル、６−フエニルベ
ンゾオキサゾール−２−イル、５−メトキシベン
ゾオキサゾール−２−イル、５−クロロベンゾオ
キサゾール−２−イル、ベンゾイミダゾール−２
−イル、５−メチルベンゾイミダゾール−２−イ
ル、６−クロロベンゾイミダゾール−２−イル、
ピリミジン−２−イル、５−メチルピリミジン−
２−イル、２−ピリジル基等を挙げることができ
る。 本明細書におけるR4は水素原子、有機酸もし
くは無機酸から誘導されるアシル基、シリル基、
スルホニル基もしくはホスホニル基、又は置換基
を有することのある炭化水素残基である。置換基
を有する炭化水素残基の具体例としては、例え
ば、 【式】【式】 【式】 等を挙げることができる。 ここでR7は水素原子又はカルボン酸の保護基
を示す。カルボン酸保護基としてはTheodora
WGreeneによる“Protective Groups in
Organic Synthesis”第５章に記載の保護基を広
く使用でき、具体的には、メチル、エチル、ベン
ジル、ｐ−メトキシベンジル、トリメトキシベン
ジル、トリメトキシジクロロベンジル、ピペロニ
ル、ジフエニルメチル、ビス（ｐ−メトキシフエ
ニル）メチル、ジトリルメチル、フエニル−ｐ−
メトキシフエニルメチル、α−ｐ−メトキシフエ
ニルエチル、α−ｐ−メトキシフエニル−β−ト
リクロロエチル、トリクロロエチル、フローレニ
ル、ｔ−プチル、トリチル、α−ジフエニルエチ
ル、クミル、ｐ−ニトロベンジル、ｏ−ニトロベ
ンジル、ｏ，ｐ−ジニトロベンジル、フエナシ
ル、ｐ−ブロモフエナシル、１−メトキシカルボ
ニル−２−オキソプロピル、メトキシエトキシメ
チル、メトキシメチル、ベンジルオキシメチル、
ｉ−プロポキシメチル基等を例示できる。 Z1は水素原子、ハロゲン原子、硫黄基、酸素
基、窒素基等を示す。Z2はZ1と同じであるか又は
Z1以外のハロゲン原子、硫黄基、酸素基、窒素基
等を示す。Z1およびZ2で示される置換基として
は、例えば臭素、塩素、弗素等のハロゲン原子、
メチルチオ、エチルチオ、フエニルチオ、パラニ
トロフエニルチオ、ペンタクロロフエニルチオ、
２−ピリジルチオ、２−ベンゾチアジアゾリルチ
オ、１，３，４−チアジアゾール−５−イルチ
オ、２−置換−１，３，４−チアジアゾール−５
−イルチオ、１，２，３，４−テトラゾール−５
−イルチオ、１−置換−１，２，３，４−テトラ
ゾール−５−イルチオ、０−エチルジチオカルボ
ネート、Ｎ，Ｎ−ジエチルジチオカルバメート、
フエニルスルホニル、パラメチルフエニルスルホ
ニル基等の硫黄基、ヒドロキシ、メトキシ、エト
キシ、アセトキシ、ベンゾイルオキシ、ニトロソ
オキシ、ニトリルオキシ基、ジフエニルホスホニ
ルオキシ、メタンスルホナト、Ｎ−モルホニル、
ジフエニルメチルオキシ基等の酸素基、ジメチル
アミノ、ピペリジン−１−イル基等の窒素基など
が挙げられる。 本明細書においてR6で示される置換されたフ
エニルの具体例としては、例えばトリル、キシリ
ル、４−クロロフエニル、２，４−ジクロロフエ
ニル、２，４，６−トリクロロフエニル、４−ブ
ロモフエニル、２，４−ジブロモフエニル、４−
メトキシフエニル、２，４−ジメトキシフエニ
ル、３，４，５−トリメトキシフエニル、４−ニ
トロフエニル、２，４−ジニトロフエニル基等を
挙げることができる。 本発明においては、通常適当な溶媒中化合物
（）と化合物（）を反応させる。化合物（）
は、化合物（）に対して通常１〜５当量、好ま
しくは１〜２当量、特に好ましくは１〜1.5当量
用いるのが良い。上記反応は、通常−20℃から使
用溶媒の還流温度の範囲で行なわれ、好ましくは
０℃から50℃の温度範囲で行なわれる。反応時間
は反応温度、化合物（）及び化合物（）の種
類により異なり一概には言えないが、通常0.1〜
15時間である。溶媒の使用量は、通常化合物
（）に対して１〜400重量倍、好ましくは１〜
100重量倍、特に好ましくは１〜50重量倍程度で
ある。本発明に用いられる溶媒は、化合物（）
及び化合物（）を溶解する溶媒であれば特に限
定されるものではない。しかも完全に溶解する必
要はなく、一部分溶解することができれば良い。
また本発明に用いられる溶媒は有機溶媒と水の混
合溶媒でも良い。本発明に用いる有機溶媒の具体
例としては例えば、アセトン、メチルエチルケト
ン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン等
のケトン類、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロ
ピル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、
プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル等のエ
ステル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素類、ジクロルメタン、ジブロムメタ
ン、クロロホルム、ブロモホルム、四塩化炭素、
ジクロルエタン、ジブロムエタン、トリクロルエ
タン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、
ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロパン等
のニトロアルカン類、アセトニトリル、プロピオ
ニトリル、ブチロニトリル、バレロニトリル等の
ニトリル類、メタノール、エタノール、プロパノ
ール、イソプロパノール、ブタノール等のアルコ
ール類等を挙げることができる。これらの有機溶
媒は単一溶媒として用いることもできるし、２種
以上の混合溶媒として用いることもできる。 本発明の出発原料（）は種々の方法を用いて
合成できる。種々の合成ルートの内ペニシリンよ
りの合成ルートとしては、例えばテトラヘドロン
レター、3001（1973）；J.Amer.Chem.Soc.，86，
5307（1964）；特公昭56−14665号公報；特開昭57
−29587号公報；第９回国際複素環会議予稿集、
300ページ（1983）；特開昭57−59896号公報；特
開昭57−183793号公報；特開昭57−183794号公報
等に記載の方法、又はそれらの組合せにより合成
できる。その方法を反応式にまとめると下記のよ
うになる。 〔式中R1，R2，R3，R4，R5及びR7は前記に同
じ。〕 しかし本発明に用いられる出発原料（）は、
この合成ルートで製造される化合物に限定される
ものではなく、全合成、半合成を含めて種々の方
法により得られるジチオアゼチジノンが本発明の
出発原料として供せられる。 本発明の目的化合物は反応終了後、常法により
抽出単離し、カラムクロマトグラフあるいは再結
晶により精製することができる。 実施例 以下に実施例を示して本発明を説明するが、本
発明はこれら実施例に限定されるものではない。
尚以下の実施例において、Phはフエニル基を意
味する。 実施例 １ ｐ−メトキシベンジル ２−〔３−フエニルア
セトアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）
−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−
３−ブテノエート1.0ｇをアセトン10mlに溶かし、
これにベンゼンスルフイン酸1.2当量を加え、室
温で攪拌しながら４時間反応させる。アセトンを
減圧下留去し得られた残渣をシリカゲルを用いて
カラムクロマトグラフイーにより精製すると収率
97％でｐ−メトキシベンジル ２−（３−フエニ
ルアセトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ−
２−アゼチジノン−１−イル）−３−メチル−３
−ブテノエートが得られた。このもののNMRス
ペクトルはその構造と良く一致していた。NMR
スペクトルは表にまとめて示す。 実施例 ２ ｐ−メトキシベンジル ２−〔３−フエニルア
セトアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）
−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−
３−ブテノエートを実施例１と同様の方法で表
に示した溶媒を用いて反応させてｐ−メトキシベ
ンジル ２−（３−フエニルアセトアミド−４−
ベンゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−１
−イル）−３−メチル−３−ブテノエートが表
に示した収率で得られた。これらのNMRスペク
トルは実施例１で得られたものと完全に一致し
た。 【表】 実施例 ３ ｐ−メトキシベンジル ２−〔３−フエニルア
セトアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）
−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−
３−ブテノエート10ｇをアセトン100mlに溶かし、
これにベンゼンスルフイン酸1.2当量を加え、室
温で攪拌しながら４時間反応させる。次いで30％
過酸化水素水を0.5当量加え、室温で攪拌しなが
ら１時間反応させる。析出した２−ベンゾチアゾ
リルジスルフイドの沈殿を別し、液より減圧
下アセトンを留去する。得られた残渣をベンゼン
に溶解し、ハイポ水溶液で洗浄する。続いて水洗
したのち、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ベンゼ
ンを減圧下留去するとｐ−メトキシベンジル ２
−（３−フエニルアセトアミド−４−ベンゼンス
ルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−イル）−
２−メチル−３−ブテノエートが得られる。この
ものはベンゼンより再結晶することにより精製す
ることができる。（収率92％）このもののNMR
スペクトルは実施例１で得られたものと完全に一
致した。 実施例４ 実施例１と同様の方法で表に示した化合物を
得た。これらのNMRスペクトルはその構造と良
く一致していた。NMRスペクトルは表にまと
めて示す。 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 発明の効果 本発明の方法では、従来法のように高価な銀塩
や有害な重金属塩の使用は不必要でありかつ90％
以上の高収率で化合物（）を製造し得る。それ
故、本発明の方法は化合物（）の工業的製造法
として極めて有利な方法である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 〔式中R1は水素原子、ハロゲン原子又は低級
アルコキシ基を示し、R2は水素原子、ハロゲン
原子、低級アルコキシ基、アミノ基又は基
【式】（R5は置換もしくは非置換のフエニ ル基、置換もしくは非置換のフエニルメチル基、
置換もしくは非置換のフエノキシメチル基又は置
換もしくは非置換のベンゾイル基を示す。）を示
すか、或いはR1とR2は両方でカルボニル基を示
す。R3は置換又は非置換の含窒素芳香族複素環
残基を示す。R4は水素原子、置換基を有するこ
とのある炭化水素残基又は有機酸もしくは無機酸
から誘導されるアシル基、シリル基、スルホニル
基もしくはホスホニル基を示す。〕 で表わされるジチオアゼチジノン誘導体を、一般
式 R6SO2Ｈ （） 〔式中R6は置換又は非置換のフエニル基を示
す。〕 で表わされるスルフイン酸誘導体と反応させて、
一般式 〔式中、R1，R2，R4及びR6は前記に同じ。〕 で表わされるアゼチジノン誘導体を得ることを特
徴とするアゼチジノン誘導体の製造法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59092397A JPS60237061A (ja) | 1984-05-08 | 1984-05-08 | アゼチジノン誘導体の製造法 |
| GB08429528A GB2152497B (en) | 1983-11-28 | 1984-11-22 | Process for the preparation of azetidinone derivatives |
| CH563784A CH661503A5 (de) | 1983-11-28 | 1984-11-26 | Verfahren zur herstellung von azetidinon-verbindungen. |
| FR8418034A FR2555578B1 (fr) | 1983-11-28 | 1984-11-27 | Procede de preparation de derives d'azetidinone |
| DE19843443225 DE3443225C2 (de) | 1983-11-28 | 1984-11-27 | Verfahren zur Herstellung von Azetidinon-Derivaten |
| US07/186,693 US4798890A (en) | 1984-05-08 | 1988-04-21 | Process for preparation of azetidinone derivatives |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59092397A JPS60237061A (ja) | 1984-05-08 | 1984-05-08 | アゼチジノン誘導体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60237061A JPS60237061A (ja) | 1985-11-25 |
| JPH058190B2 true JPH058190B2 (ja) | 1993-02-01 |
Family
ID=14053279
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59092397A Granted JPS60237061A (ja) | 1983-11-28 | 1984-05-08 | アゼチジノン誘導体の製造法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4798890A (ja) |
| JP (1) | JPS60237061A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0500081B1 (en) * | 1991-02-20 | 1997-12-29 | Meiji Seika Kaisha Ltd. | Azetidinone derivatives and method for producing azetidinone and cephalosporin derivatives |
| US5162521A (en) * | 1991-06-06 | 1992-11-10 | Bristol-Myers Squibb Company | Processes for making cephems from allenylazetidinone derivatives |
| WO1993016043A1 (en) * | 1992-02-18 | 1993-08-19 | Otsuka Kagaku Kabushiki Kaisha | β-LACTAM COMPOUND AND CEPHEM COMPOUND, AND PRODUCTION THEREOF |
| JP2006507289A (ja) * | 2002-11-01 | 2006-03-02 | オーキッド ケミカルズ アンド ファーマシューティカルズ リミテッド | 改良されたクロロメチルセフェム誘導体調製方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU498131B2 (en) * | 1974-02-26 | 1979-02-15 | Ciba-Geigy Ag | Production of cephems by cyclization |
| GB1503638A (en) * | 1974-02-26 | 1978-03-15 | Ciba Geigy Ag | Process for the manufacture of 3-methylenebutyric acid derivatives |
-
1984
- 1984-05-08 JP JP59092397A patent/JPS60237061A/ja active Granted
-
1988
- 1988-04-21 US US07/186,693 patent/US4798890A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4798890A (en) | 1989-01-17 |
| JPS60237061A (ja) | 1985-11-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| FR2512448A1 (fr) | Isoquinoleinium-betaines de cephalosporine et son application pharmaceutique | |
| JPH058190B2 (ja) | ||
| US3647786A (en) | Preparation of cephalosporin sulfoxides | |
| JP2003513983A (ja) | 高純度セフポドキシムプロキセチルの製造方法 | |
| GB2152497A (en) | Process for the preparation of azetidinone derivatives | |
| US4740596A (en) | Process for preparation of 4-sulfonylthio azetidinone derivatives | |
| JPH0421661B2 (ja) | ||
| US4801720A (en) | Azetidinone disulfides and a ring opening process for preparing the same | |
| EP0122002B1 (en) | Process for preparing azetidinone derivatives | |
| DE2728578A1 (de) | Verfahren zur herstellung einer beta-lactamsaeure | |
| JPH0459310B2 (ja) | ||
| KR870000613B1 (ko) | 3-브로모-3-메틸세팜 화합물의 제조방법 | |
| US4187221A (en) | Process for preparing azetidinones | |
| CA1208205A (en) | Oxidation process | |
| EP0117872A1 (en) | Process for preparing cephalosporin compounds | |
| US4183850A (en) | Process for preparing 2-acyloxymethylpenams and 3-acyloxycephams | |
| CA1040620A (en) | 6-alkoxy-6-acylamidopenicillins 7-alkoxy-7-acylamido acetoxycephalosporins and process | |
| JP2669955B2 (ja) | アゼチジノン誘導体及びその製造法 | |
| JP2669961B2 (ja) | アゼチジノン誘導体及びその製造法 | |
| EP0500081B1 (en) | Azetidinone derivatives and method for producing azetidinone and cephalosporin derivatives | |
| PT91704B (pt) | Processo para a preparacao de 1-carba(destia)-cefalosporinas | |
| CA1105472A (en) | Process for preparing azetidinones | |
| JPH0435477B2 (ja) | ||
| CH634556A5 (fr) | Sulfures de mercure et d'azetidinone et leur preparation. | |
| JPH0623189B2 (ja) | アゼチジノン誘導体の製造法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |