JPH0581882A - 不揮発性半導体記憶装置 - Google Patents

不揮発性半導体記憶装置

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JPH0581882A
JPH0581882A JP23941391A JP23941391A JPH0581882A JP H0581882 A JPH0581882 A JP H0581882A JP 23941391 A JP23941391 A JP 23941391A JP 23941391 A JP23941391 A JP 23941391A JP H0581882 A JPH0581882 A JP H0581882A
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JP
Japan
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capacitor
memory cell
node
semiconductor memory
nonvolatile semiconductor
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Application number
JP23941391A
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English (en)
Inventor
Takao Akaogi
隆男 赤荻
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 不揮発性半導体記憶装置、特に、そのセンス
アンプ部の改良に関し、データ読出し時間を短縮した不
揮発性半導体記憶装置を提供することを目的とする。 【構成】 不揮発性メモリセルQ0 , 1 , …にはスイ
ッチングトランジスタQ SC及びキャパシタCC を接続
し、基準(ダミー)メモリセルQR には、スイッチング
トランジスタQSR及びキャパシタCR を接続する。アド
レス変化後のアドレス変化検出信号ATD*のローレベ
ルでスイッチングトランジスタQSC ,SRをオンとして
ノードNC , R を急速充電し、信号ATD*のハイレ
ベルへの回復後には、スイッチングトランジスタQSC ,
SRをオフとしてキャパシタCC からメモリセルQ0 ,
1 , …への放電とキャパシタCR からダミーセルQR
への放電との差からデータの読出しを図る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は不揮発性半導体記憶装
置、特に、そのセンスアンプ部の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、不揮発性半導体記憶装置(たとえ
ばフローティングゲート型メモリセルを有する記憶装
置)においても、データ読出しの高速化の要求が強く、
そのためのセンスアンプ回路の高速化が要求される。図
4に一般的な不揮発性半導体記憶装置が示される。すな
わち、メモリセルアレイ1はたとえば8つのブロックB
0 , BK1 , …,BK7 に分割され、これら各ブロッ
ク毎にセンスアンプS/A0 ,S/A1,…,S/A7
が接続されている。また、各センスアンプS/A0 , S
/A1 , …,S/A7 の2つの信号D,D*は差動アン
プ2−0,2−1,…, 2−7に供給され、この結果、
8ビット出力D0 ,D1 ,…,D7 が並列出力されるこ
とになる。3はメモリセルアレイ1の各ブロックBK
0 , BK1 , …,BK7 に供給されるアドレス信号X
0 , …,Y0 , …の変化を検出して一定期間のローレベ
ルを送出するアドレス変化検出回路(ATD)である。
【0003】図5は図4における1つのメモリセルブロ
ックBK0 に対する従来のセンスアンプの詳細を示す回
路図である。図5において、メモリセルブロックBK0
は、アドレス信号X0 , …に選択されるフローティング
ゲート型不揮発性メモリセルQ0 , 1 , …,Qn 及び
基準フローティングゲート型不揮発性メモリセルQR
により構成されている。ここで、メモリセルQ0 ,
1 , …,Qn には予め“1”,“0”が記憶され、つま
り、メモリセルQ0 ,Q1 ,…,Qn は、アドレス信号
0 (ハイレベル)に対して予め導通状態(“1”)、
非導通状態(“0”)とされているが、基準メモリセル
(ダミーセルとも呼ぶ)QR は予め導通状態(“1”)
とされている。
【0004】メモリセルQ0 , 1 , …,Qn に対して
は、センスアンプS/A0 は、負荷としてのPチャネル
トランジスタQLC, 定電流源CSC を備え、選択ゲート
G0, QG1, …, QGnを介してメモリセルQ0 ,Q1
…,Qn に接続されている。つまり、メモリセルQ0
1 ,…,Qn のいずれか1つがアドレス信号Y0 ,Y
1 ,…,Yn のいずれか1つがハイレベルとなることに
よって選択される。
【0005】他方、基準メモリセルQR に対しては、セ
ンスアンプS/A0 は、負荷としてのPチャネルトラン
ジスタQLR、定電流源CSR を備え、常オントランジス
タQ GRを介して基準メモリセルQR に接続されている。
PチャネルトランジスタQe はアドレス変化検出信号
(ATD*)がローレベルのときにノードNC , NR
電位を同一化するイコライザである。なお、CPC,CPR
は配線等による寄生容量である。
【0006】図5の回路においては、ノードNC , R
のデータD,D*を読出して差動アンプ2−0に送出す
るために、負荷トランジスタQLC, LRの駆動能力を
1:m(m>1)たどえば1:2とする。これにより、
たとえば、X0 =Y0 =“1”(ハイレベル)となり、
メモリセルQ0 が選択されたとすると、メモリセルQ0
が導通状態(“1”)であれば、ノードNC の電位がノ
ードNR の電位より低くない、従って、D<D*とな
り、差動アンプ2−0の出力D0 はハイレベル
(“1”)となる。他方、メモリセルQ0 が非導通状態
(“0”)であれば、ノードNC の電位がノードNR
電位より高くなり、差動アンプ2−0の出力D0 はロー
レベル(“0”)となる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図5の
センスアンプS/A0 においては、データ読出し開始ま
でに要する時間が長いという課題がある。すなわち、図
6に示すように、アドレスADD(X0 ,…,Y0 …)
が変化後、アドレス変化検出信号ATD*がローレベル
となると、イコライザQe によりノードNC ,NR の電
位がその中間値で等しくなるが、寄生容量CPC, CPR
存在のために定常状態となるまでの時間T 11が長くなる
ので、アドレス変化検出回路3の出力信号ATD*のロ
ーレベル期間を長くしなければならず、しかも、信号A
TD*がハイレベルに回復後も、ノードNC , R の充
電、放電は、負荷トランジスタQLC, LRのオン状態で
行われるので、ノードNC ,NR (データD,D*)の
確定まで時間T12も長くなる。この結果、図6に示すご
とく、データ読出しに要する時間T1 は長くなる。
【0008】なお、データ読出し時間を短縮するのに負
荷トランジスタQLC, QLRの駆動能力を大きくすること
も考えられるが、この場合、ノードNC , R (データ
D,D*)の電位が上昇すると、負荷トランジスタ
LC, QLRの駆動能力は低下し、根本的な解決とならな
い。従って、本発明の目的は、データ読出し時間を短縮
した不揮発性半導体記憶装置を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めの手段は図1に示される。すなわち、不揮発性メモリ
セルQC を、第1の電源端子GNDと第1のノードNC
との間に接続し、書込み状態の基準不揮発性メモリセル
R を、第1の電源端子GNDと第2のノードNR との
間に接続する。また、第1のキャパシタCC を、第1の
電源端子GNDと第1のノードNC との間に接続し、第
2のキャパシタCRを第1の電源端子GNDと第2のノ
ードNR との間に接続する。第1のキャパシタCC と異
なる容量を有する選択手段SELは、不揮発性メモリセ
ルQC 及び基準不揮発性メモリセルQR を選択し、スイ
ッチング手段はこの選択手段SELの選択が変化後所定
期間のみオンとなって第1, 第2のキャパシタCC ,
R を第2の電源端子VCCの電位により充電するものであ
る。
【0010】
【作用】上述の手段によれば、選択手段の選択が変化後
の所定期間は、両ノードNC , R (データのD,D
*)をスイッチング手段はオンとなって積極的に充電す
るので、定常状態になるまで時間は短くなる。しかも、
上記所定期間経過後はスイッチング手段はオフとなって
ノードNC ,R の電位は速やかに確定する。
【0011】
【実施例】図2は本発明に係る不揮発性半導体記憶装置
の一実施例を示す回路図である。図2においては、図5
のイコライザQe 、負荷トランジスタQLC, QLRの代わ
りに、スイッチング手段としてのPチャネルトランジス
タQSC, QSR、及び負荷容量としてのキャパシタCC ,
R を設けてある。
【0012】図2の回路においては、ノードNC , R
のデータD,D*を読出して差動アンプ2−0に送出す
るために、キャパシタCC , R の容量を1:m′
(m′>1)たとえば1:2とする。これにより、たと
えば、X0 =Y0 =“1”(ハイレベル)となり、メモ
リセルQ0 が選択されたとすると、メモリセルQ0 が導
通状態(“1”)であれば、キャパシタCC の放電電位
の低下が大きいのでノードNC の電位がノードNRの電
位より低くない、従って、D<D*となり、差動アンプ
2−0の出力D0 はハイレベル(“1”)となる。他
方、メモリセルQ0 が非導通状態(“0”)であれば、
キャパシタCR の放電電位の低下が大きいのでノードN
C の電位がノードNR の電位より高くなり、差動アンプ
2−0の出力D 0 はローレベル(“0”)となる。
【0013】図2の回路動作を図3を参照して説明す
る。すなわち、図2に示すように、アドレスADD(X
0 ,…,Y0 …)が変化後、アドレス変化検出信号AT
D*がハイレベルからローレベルとなると、スイッチン
グ手段としてのトランジスタQ SC,QSRはだだちにオン
となり、この結果ノードNC ,NR (データD,D*)
の電位レベルに関係なく、ただちにハイレベル(VCC)
となる。この場合に要する時間T21はトランジスタQ
SC, SRのオン駆動能力に依存するが、このオン駆動能
力はPチャネルトランジスタにより大きくできる。従っ
て、上記時間T21は短くなるので、アドレス変化検出回
路3の出力信号ATD*のローレベル期間を短くでき
る。しかも、信号ATD*がハイレベルに回復後は、ト
ランジスタQSC, QSRはただちにオフ状態となるので、
ノードNC ,NR (データD,D*)の確定まで時間T
22も短くなる。この結果、図2に示すごとく、データ読
出しに要する時間T2 は短くなる。
【0014】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、ス
イッチング手段によりセンスアンプ内のノードを迅速に
充電するので、データ読出し期間を短くでき、従って、
高速読出しが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の基本構成を示すブロック回路図であ
る。
【図2】本発明に係る不揮発性半導体記憶装置の一実施
例を示す回路図である。
【図3】図2の回路動作を説明するタイミング図であ
る。
【図4】一般的な不揮発性半導体記憶装置を示すブロッ
ク回路図である。
【図5】従来の不揮発性半導体記憶装置を示す回路図で
ある。
【図6】図5の回路動作を説明するタイミング図であ
る。
【符号の説明】
1…メモリセルアレイ BK0,BK1,…メモリセルアレイブロック S/A0,S/A1 …センスアンプ 2−0,2−1,…差動アンプ 3…アドレス変化検出回路 Q0 , 1 , …Qn , …不揮発性メモリセル QR …基準不揮発性メモリセル

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1の電源端子(GND)と第1のノー
    ド(NC )との間に接続された不揮発性メモリセル(Q
    C )と、 前記第1の電源端子と第2のノード(NR ) との間に接
    続され、書込み状態の基準不揮発性メモリセル(QR )
    と、 前記第1の電源端子と前記第1のノードとの間に接続さ
    れた第1のキャパシタ(CC ) と、 前記第1の電源端子と前記第2のノードとの間に接続さ
    れ、前記第1のキャパシタと異なる容量を有する第2の
    キャパシタ(CR ) と、 前記不揮発性メモリセル及び前記基準不揮発性メモリセ
    ルを選択する選択手段(SEL)と、 該選択手段の選択が変化後所定期間のみオンとなって前
    記第1,第2のキャパシタを第2の電源端子(VCC) の
    電位により充電するスイッチング手段と、 を具備する半導体記憶装置。
JP23941391A 1991-09-19 1991-09-19 不揮発性半導体記憶装置 Pending JPH0581882A (ja)

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JPH0581882A true JPH0581882A (ja) 1993-04-02

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07114795A (ja) * 1993-10-13 1995-05-02 Nec Corp 半導体メモリ装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07114795A (ja) * 1993-10-13 1995-05-02 Nec Corp 半導体メモリ装置

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Effective date: 20020507