JPH0580260A - 描画装置 - Google Patents
描画装置Info
- Publication number
- JPH0580260A JPH0580260A JP3239361A JP23936191A JPH0580260A JP H0580260 A JPH0580260 A JP H0580260A JP 3239361 A JP3239361 A JP 3239361A JP 23936191 A JP23936191 A JP 23936191A JP H0580260 A JPH0580260 A JP H0580260A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polygon mirror
- light beam
- error
- spot
- correction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ポリゴンミラーの回転ムラによる露光位置の
誤差を補正することができる描画装置を提供することを
目的とする。 【構成】 レーザー11から発した光束を偏向するポリゴ
ンミラー14と、偏向された光束を感光材料20の上にスポ
ットとして結像させるfθレンズ16と、ポリゴンミラー1
4の回転位置を検出する回転位置検出回路48と、検出さ
れた回転位置に基づいてポリゴンミラー14の回転ムラを
積分して誤差信号を出力する積分回路49と、積分回路49
からの誤差信号に対応して誤差によるスポットの位置ズ
レを補正するよう光束の方向を変化させる補正用偏向手
段3とを備えることを特徴とする。
誤差を補正することができる描画装置を提供することを
目的とする。 【構成】 レーザー11から発した光束を偏向するポリゴ
ンミラー14と、偏向された光束を感光材料20の上にスポ
ットとして結像させるfθレンズ16と、ポリゴンミラー1
4の回転位置を検出する回転位置検出回路48と、検出さ
れた回転位置に基づいてポリゴンミラー14の回転ムラを
積分して誤差信号を出力する積分回路49と、積分回路49
からの誤差信号に対応して誤差によるスポットの位置ズ
レを補正するよう光束の方向を変化させる補正用偏向手
段3とを備えることを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、描画対象物である感
光材料をステージに載置して走査光学系により露光する
描画装置に関し、より詳細には、ポリゴンミラーの回転
ムラによる描画誤差を補正できる描画装置に関する。
光材料をステージに載置して走査光学系により露光する
描画装置に関し、より詳細には、ポリゴンミラーの回転
ムラによる描画誤差を補正できる描画装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】この種の描画装置としては、従来からレ
ーザーフォトプロッターが使用されている。従来のレー
ザーフォトプロッターは、感光材料を移動可能なステー
ジに載置し、走査光学系により感光体上にビームスポッ
トを走査させつつステージを移動させて感光体上に露光
パターンを描画する。
ーザーフォトプロッターが使用されている。従来のレー
ザーフォトプロッターは、感光材料を移動可能なステー
ジに載置し、走査光学系により感光体上にビームスポッ
トを走査させつつステージを移動させて感光体上に露光
パターンを描画する。
【０００３】正確なパターンを描画するためには、走査
光学系内のポリゴンミラーの回転速度を一定に保つこと
により、スポットの走査速度を一定に保つ必要がある。
従来のプロッターは、ポリゴンミラーの回転ムラを検出
し、ポリゴンミラーを回転させるモータにフィードバッ
クをかけて誤差を補正している。
光学系内のポリゴンミラーの回転速度を一定に保つこと
により、スポットの走査速度を一定に保つ必要がある。
従来のプロッターは、ポリゴンミラーの回転ムラを検出
し、ポリゴンミラーを回転させるモータにフィードバッ
クをかけて誤差を補正している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ようにモータにフィードバックをかける構成であると、
補正の応答速度が遅いため、例えば一走査内で回転速度
を変化させるような精密な制御はできない。したがっ
て、より高い描画精度が要求される場合には、従来の装
置では対応することができなかった。
ようにモータにフィードバックをかける構成であると、
補正の応答速度が遅いため、例えば一走査内で回転速度
を変化させるような精密な制御はできない。したがっ
て、より高い描画精度が要求される場合には、従来の装
置では対応することができなかった。
【０００５】
【発明の目的】この発明は、上述した従来技術の課題に
鑑みてなされたものであり、ポリゴンミラーの回転ムラ
によるスポットの位置の誤差を高い精度で補正すること
ができる描画装置を提供することを目的とする。
鑑みてなされたものであり、ポリゴンミラーの回転ムラ
によるスポットの位置の誤差を高い精度で補正すること
ができる描画装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明にかかる描画装
置は、上記の目的を達成させるため、光源から発した光
束を偏向するポリゴンミラーと、偏向された光束を描画
対象の上にスポットとして結像させる結像レンズと、ポ
リゴンミラーの回転ムラを検出する回転ムラ検出手段
と、光源とポリゴンミラーとの間に設けられ、回転ムラ
検出手段から出力される誤差信号に対応して該誤差によ
るスポットの位置ズレを補正するよう光束の方向を変化
させる補正用偏向手段とを備えることを特徴とする。
置は、上記の目的を達成させるため、光源から発した光
束を偏向するポリゴンミラーと、偏向された光束を描画
対象の上にスポットとして結像させる結像レンズと、ポ
リゴンミラーの回転ムラを検出する回転ムラ検出手段
と、光源とポリゴンミラーとの間に設けられ、回転ムラ
検出手段から出力される誤差信号に対応して該誤差によ
るスポットの位置ズレを補正するよう光束の方向を変化
させる補正用偏向手段とを備えることを特徴とする。
【０００７】
【実施例】以下、この発明を図面に基づいて説明する。
図1はこの発明の一実施例を示したものである。
図1はこの発明の一実施例を示したものである。
【０００８】実施例の描画装置は、走査光学系10と描画
対象物であるプリント基板等の感光材料20が載置された
ステージ30とを有し、ラスタースキャンによって感光材
料20に露光パターンを形成する。
対象物であるプリント基板等の感光材料20が載置された
ステージ30とを有し、ラスタースキャンによって感光材
料20に露光パターンを形成する。
【０００９】描画光学系10は、レーザー11から発した光
束を描画用AO(超音波光学)変調器12、補正用偏向装置13
を介してポリゴンミラー14に入射させると共に、ポリゴ
ンミラー14で反射、偏向された光束をミラー15を介して
結像レンズとしてのfθレンズ16に入射させ、感光材料2
0の上にスポットとして結像させる。
束を描画用AO(超音波光学)変調器12、補正用偏向装置13
を介してポリゴンミラー14に入射させると共に、ポリゴ
ンミラー14で反射、偏向された光束をミラー15を介して
結像レンズとしてのfθレンズ16に入射させ、感光材料2
0の上にスポットとして結像させる。
【００１０】描画用AO変調器12は、画像信号に基づいて
レーザー光をON/OFFする。一方、補正用偏向装置13は、
光束をそれぞれ主走査方向、副走査方向に偏向する2つ
のAO変調器から構成され、補正信号に基づいて光束の方
向を変化させ、感光材料20上を走査するスポットの主走
査方向、及び副走査方向の位置を補正する。補正用偏向
装置13内のAO変調器によるレーザー光の回折角度は、印
加される電圧の周波数に比例して変化するため、電圧を
調整することにより感光材料20上のスポットの位置を調
整することができる。
レーザー光をON/OFFする。一方、補正用偏向装置13は、
光束をそれぞれ主走査方向、副走査方向に偏向する2つ
のAO変調器から構成され、補正信号に基づいて光束の方
向を変化させ、感光材料20上を走査するスポットの主走
査方向、及び副走査方向の位置を補正する。補正用偏向
装置13内のAO変調器によるレーザー光の回折角度は、印
加される電圧の周波数に比例して変化するため、電圧を
調整することにより感光材料20上のスポットの位置を調
整することができる。
【００１１】ステージ30は、モータ41とボールスクリュ
ー42とによって構成される駆動手段により駆動される。
モータ41は、描画制御回路45からの移動量信号に基づい
てモータに駆動信号を出力するサーボドライバ47により
駆動される。そして、ステージ30の位置は、レーザー干
渉システムを用いた位置センサ43により検出され、その
現在位置は偏差カウンタ44に入力される。
ー42とによって構成される駆動手段により駆動される。
モータ41は、描画制御回路45からの移動量信号に基づい
てモータに駆動信号を出力するサーボドライバ47により
駆動される。そして、ステージ30の位置は、レーザー干
渉システムを用いた位置センサ43により検出され、その
現在位置は偏差カウンタ44に入力される。
【００１２】偏差カウンタ44には描画制御回路45からス
テージの移動量の指令値が入力されており、この指令値
と位置センサ43から検出される現在位置との差を誤差信
号として補正量演算回路46に入力する。
テージの移動量の指令値が入力されており、この指令値
と位置センサ43から検出される現在位置との差を誤差信
号として補正量演算回路46に入力する。
【００１３】一方、ポリゴンミラーの回転ムラを検出す
る回転ムラ検出手段は、ロータリーエンコーダー等を利
用した回転位置検出回路48と、検出された回転位置に基
づいてポリゴンミラーの回転ムラを積分して誤差信号を
補正量演算回路46へ出力する積分回路49とから構成され
ている。
る回転ムラ検出手段は、ロータリーエンコーダー等を利
用した回転位置検出回路48と、検出された回転位置に基
づいてポリゴンミラーの回転ムラを積分して誤差信号を
補正量演算回路46へ出力する積分回路49とから構成され
ている。
【００１４】補正量演算回路46は、偏差カウンタ44から
入力されるステージの移動量誤差信号と積分回路49から
入力されるポリゴンミラー14の回転ムラに起因する補正
信号とに基づいて光束の偏向角度を決定し、それに対応
した電圧を補正用偏向装置13のAO変調器に印加する。
入力されるステージの移動量誤差信号と積分回路49から
入力されるポリゴンミラー14の回転ムラに起因する補正
信号とに基づいて光束の偏向角度を決定し、それに対応
した電圧を補正用偏向装置13のAO変調器に印加する。
【００１５】なお、ポリゴンミラーの回転ムラは主とし
てスポットの主走査方向の位置誤差を生じさせ、ステー
ジの移動量誤差は主としてスポットの副走査方向の位置
誤差を生じさせる。このため、補正量演算回路46は、そ
れぞれの原因に基づくスポット位置の誤差を主走査方向
と副走査方向とに分離して演算し、各方向の誤差をポリ
ゴンミラーによる主走査のタイミングに合わせて補正す
るよう補正用偏向装置13に電圧を印加する。
てスポットの主走査方向の位置誤差を生じさせ、ステー
ジの移動量誤差は主としてスポットの副走査方向の位置
誤差を生じさせる。このため、補正量演算回路46は、そ
れぞれの原因に基づくスポット位置の誤差を主走査方向
と副走査方向とに分離して演算し、各方向の誤差をポリ
ゴンミラーによる主走査のタイミングに合わせて補正す
るよう補正用偏向装置13に電圧を印加する。
【００１６】AO変調器を使用した補正用偏向装置13によ
る光束の角度の調整は電気的に行なわれるため、きわめ
て応答速度が速く、一走査内で補正量を連続的に変化さ
せるような制御も可能となる。
る光束の角度の調整は電気的に行なわれるため、きわめ
て応答速度が速く、一走査内で補正量を連続的に変化さ
せるような制御も可能となる。
【００１７】ステージの移動速度に誤差がある場合のみ
でなく、ステージが移動機構のガタツキ等によって所定
の移動方向以外のジグザク等の偏った移動をする場合に
も、ステージの移動状態を検出することにより、このジ
グザグ移動によるスポット位置のズレを補正することが
できる。
でなく、ステージが移動機構のガタツキ等によって所定
の移動方向以外のジグザク等の偏った移動をする場合に
も、ステージの移動状態を検出することにより、このジ
グザグ移動によるスポット位置のズレを補正することが
できる。
【００１８】なお、上記の例のようにポリゴンミラーの
回転位置を常時検出するのではなく、例えば走査範囲外
の所定位置に受光素子を設け、ビームが受光素子に達し
たときに信号を出力する面の切換信号を出力する構成を
利用することもできる。この場合には、切換信号の発生
周期によりポリゴンミラーの回転速度を判断できるた
め、規定の回転速度との差を演算して補正をかけること
ができる。
回転位置を常時検出するのではなく、例えば走査範囲外
の所定位置に受光素子を設け、ビームが受光素子に達し
たときに信号を出力する面の切換信号を出力する構成を
利用することもできる。この場合には、切換信号の発生
周期によりポリゴンミラーの回転速度を判断できるた
め、規定の回転速度との差を演算して補正をかけること
ができる。
【００１９】また、ステージの移動量補正は、上記の実
施例のように必ずしも補正用偏向装置13によって行なわ
せる必要はなく、偏差カウンタ44の出力をサーボドライ
バ47に入力させることによりクローズドループを形成
し、ポリゴンミラーの回転ムラによる影響とは独立して
行なわせる構成としてもよい。
施例のように必ずしも補正用偏向装置13によって行なわ
せる必要はなく、偏差カウンタ44の出力をサーボドライ
バ47に入力させることによりクローズドループを形成
し、ポリゴンミラーの回転ムラによる影響とは独立して
行なわせる構成としてもよい。
【００２０】
【効果】以上説明したように、この発明によれば、ポリ
ゴンミラーの回転ムラを描画光学系側で補正することに
より、精度の高い補正が可能となり、高精度のパターン
を形成することができる。
ゴンミラーの回転ムラを描画光学系側で補正することに
より、精度の高い補正が可能となり、高精度のパターン
を形成することができる。
【図１】 実施例にかかる描画装置の構成を示すブロッ
ク図である。
ク図である。
10…走査光学系 11…レーザー 12…描画用AO変調器 13…補正用AO変調器 20…感光材料 30…ステージ
Claims (2)
- 【請求項１】光源から発した光束を偏向するポリゴンミ
ラーと、 偏向された光束を描画対象の上にスポットとして結像さ
せる結像レンズと、 前記ポリゴンミラーの回転ムラを検出する回転ムラ検出
手段と、 前記光源と前記ポリゴンミラーとの間に設けられ、前記
回転ムラ検出手段から出力される誤差信号に対応して該
誤差による前記スポットの位置ズレを補正するよう前記
光束の方向を変化させる補正用偏向手段とを備えること
を特徴とする描画装置。 - 【請求項２】描画対象物が載置されるステージと、 該ステージを駆動する駆動手段と、 光源から発した光束を偏向するポリゴンミラー、偏向さ
れた光束を描画対象の上にスポットとして結像させる結
像レンズを備える描画光学系と、 前記ステージの移動誤差を検出する移動誤差検出手段
と、 前記ポリゴンミラーの回転ムラを検出する回転ムラ検出
手段と、 前記光源と前記ポリゴンミラーとの間に設けられ、前記
移動誤差検出手段、及び前記回転ムラ検出手段からの信
号に対応して該誤差による前記スポットの位置ズレを前
記ポリゴンミラーによる主走査のタイミングに合わせて
補正するよう前記光束の方向を変化させる補正用偏向手
段とを備えることを特徴とする描画装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3239361A JPH0580260A (ja) | 1991-09-19 | 1991-09-19 | 描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3239361A JPH0580260A (ja) | 1991-09-19 | 1991-09-19 | 描画装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0580260A true JPH0580260A (ja) | 1993-04-02 |
Family
ID=17043619
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3239361A Pending JPH0580260A (ja) | 1991-09-19 | 1991-09-19 | 描画装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0580260A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002023278A3 (en) * | 2000-09-15 | 2002-05-30 | Strobbe Graphics Nv | Device and method for exposing photosensitive plates for printing presses |
| KR20190054764A (ko) * | 2017-11-14 | 2019-05-22 | 연세대학교 산학협력단 | 실시간 오차 보정이 가능한 스캐닝 간섭 리소그래피 시스템 |
| JP2020194167A (ja) * | 2015-03-20 | 2020-12-03 | 株式会社ニコン | パターン描画装置 |
-
1991
- 1991-09-19 JP JP3239361A patent/JPH0580260A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002023278A3 (en) * | 2000-09-15 | 2002-05-30 | Strobbe Graphics Nv | Device and method for exposing photosensitive plates for printing presses |
| JP2020194167A (ja) * | 2015-03-20 | 2020-12-03 | 株式会社ニコン | パターン描画装置 |
| KR20190054764A (ko) * | 2017-11-14 | 2019-05-22 | 연세대학교 산학협력단 | 실시간 오차 보정이 가능한 스캐닝 간섭 리소그래피 시스템 |
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