JPH0577157A - 金属板の研磨方法 - Google Patents
金属板の研磨方法Info
- Publication number
- JPH0577157A JPH0577157A JP3241830A JP24183091A JPH0577157A JP H0577157 A JPH0577157 A JP H0577157A JP 3241830 A JP3241830 A JP 3241830A JP 24183091 A JP24183091 A JP 24183091A JP H0577157 A JPH0577157 A JP H0577157A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- lapping
- metal plate
- raw material
- plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 薄い金属板の研磨の加工時間を短縮し、安定
した面精度と鏡面仕上げを得る。 【構成】 ワーク盤に原材料を並べて接着剤で固着する
ことにより、強制加圧と高速加工を可能にし、またラッ
ピング盤の材質を軟質金属にし、ダイヤモンドスラリー
を塗布することにより加工時間を短縮する。
した面精度と鏡面仕上げを得る。 【構成】 ワーク盤に原材料を並べて接着剤で固着する
ことにより、強制加圧と高速加工を可能にし、またラッ
ピング盤の材質を軟質金属にし、ダイヤモンドスラリー
を塗布することにより加工時間を短縮する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は例えばバルブ用メタルダ
イヤフラム弁など、薄い金属板において、高精度な表面
仕上げを必要とする研磨の方法に関するものである。
イヤフラム弁など、薄い金属板において、高精度な表面
仕上げを必要とする研磨の方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】気密性を必要とするダイヤフラム弁にお
いては、面精度と外観の向上のために研磨が必要であ
る。従来の研磨方法を図3により説明する。図3(A)
の原材料1を図3(B)(C)のように原材料1の外径
よりも約0.1mm大きめの保持穴12aを持つキャリ
ア12を外ギヤ19と内ギヤ20間に取付けて、下ラッ
ピングプレート15の上面に原材料1をセットし、上ラ
ッピング盤14の自重で加圧する。次に、ラッピングス
ラリー13を供給しながら、上下ラッピング盤14、1
5とキャリヤ12を相対回転運動させることにより両面
同時に所定量をラッピングする。
いては、面精度と外観の向上のために研磨が必要であ
る。従来の研磨方法を図3により説明する。図3(A)
の原材料1を図3(B)(C)のように原材料1の外径
よりも約0.1mm大きめの保持穴12aを持つキャリ
ア12を外ギヤ19と内ギヤ20間に取付けて、下ラッ
ピングプレート15の上面に原材料1をセットし、上ラ
ッピング盤14の自重で加圧する。次に、ラッピングス
ラリー13を供給しながら、上下ラッピング盤14、1
5とキャリヤ12を相対回転運動させることにより両面
同時に所定量をラッピングする。
【0003】次に、図2(D)のようにポリシング盤1
7、18にポリシングクロス17a、18aを接着固定
させ、ポリシングスラリー16を供給しながら、ラッピ
ング工程と同様の運動を与えてポリシング加工を行いワ
ーク表面を高精度かつ鏡面に仕上げて完成させる。
7、18にポリシングクロス17a、18aを接着固定
させ、ポリシングスラリー16を供給しながら、ラッピ
ング工程と同様の運動を与えてポリシング加工を行いワ
ーク表面を高精度かつ鏡面に仕上げて完成させる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記運動機構において
は、ラッピング盤に錫などの軟質金属を用いると、ラッ
ピングプレート面の摩耗が大きく、変形し易いことから
面精度維持が困難であり、またキャリア12は加工負荷
で変形し易く高速研磨が困難であった。特に、ダイヤフ
ラム弁については、耐食性、弾性、硬度を考慮した材料
を用いると、圧延時に鏡面加工が困難であるので表面を
0.02mm程研磨により除去する必要がある。例え
ば、厚さ0.1mm、外径21mmの薄い金属円板を研
磨するのに、0.08mmのキャリヤを使わなければな
らず、加圧出来ず、高速加工が困難であることから加工
時間は、0.02mm研磨するのに3時間要しており、
生産性が低く製造コストが増大し、さらに品質的に問題
があった。
は、ラッピング盤に錫などの軟質金属を用いると、ラッ
ピングプレート面の摩耗が大きく、変形し易いことから
面精度維持が困難であり、またキャリア12は加工負荷
で変形し易く高速研磨が困難であった。特に、ダイヤフ
ラム弁については、耐食性、弾性、硬度を考慮した材料
を用いると、圧延時に鏡面加工が困難であるので表面を
0.02mm程研磨により除去する必要がある。例え
ば、厚さ0.1mm、外径21mmの薄い金属円板を研
磨するのに、0.08mmのキャリヤを使わなければな
らず、加圧出来ず、高速加工が困難であることから加工
時間は、0.02mm研磨するのに3時間要しており、
生産性が低く製造コストが増大し、さらに品質的に問題
があった。
【0005】本発明は上記課題を解決して、片面の研磨
だけ必要なダイヤフラム弁のような薄い金属板の研磨の
加工時間を短縮し、安定した面精度と鏡面仕上げを得ら
れる研磨方法を提供することを目的とする。
だけ必要なダイヤフラム弁のような薄い金属板の研磨の
加工時間を短縮し、安定した面精度と鏡面仕上げを得ら
れる研磨方法を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に採用した方法は、薄い金属板である原材料を研磨する
製造工程において、ワーク盤に原材料を並べて接着剤で
固着することにより、強制加圧と高速加工を可能にし、
またラッピング盤の材質を軟質金属にし、ダイヤモンド
スラリーを塗布することにより加工時間を短縮すること
を特徴とする。
に採用した方法は、薄い金属板である原材料を研磨する
製造工程において、ワーク盤に原材料を並べて接着剤で
固着することにより、強制加圧と高速加工を可能にし、
またラッピング盤の材質を軟質金属にし、ダイヤモンド
スラリーを塗布することにより加工時間を短縮すること
を特徴とする。
【0007】
【作用】上記方法によるので、本発明の方法では薄い金
属板を高速で強制加圧加工でき、安定した品質の鏡面仕
上げ面を得ることができる。
属板を高速で強制加圧加工でき、安定した品質の鏡面仕
上げ面を得ることができる。
【0008】
【実施例】以下、本発明の実施例について具体的に説明
する。図1は、本発明の研磨の準備工程を示した断面図
である。図1(A)の原材料1を、図1(B)のように
ワーク盤2に接着剤3により固定する。このとき原材料
1は、1個ではなく複数個接着するので、図1(C)の
ようにワーク加工表面の面を揃えるプレス盤4と原材料
1の厚みのバラツキを吸収するホットメルトタイプの接
着剤3を併用し、ワーク表面を同一平面に揃えてワーク
盤2に固定する。
する。図1は、本発明の研磨の準備工程を示した断面図
である。図1(A)の原材料1を、図1(B)のように
ワーク盤2に接着剤3により固定する。このとき原材料
1は、1個ではなく複数個接着するので、図1(C)の
ようにワーク加工表面の面を揃えるプレス盤4と原材料
1の厚みのバラツキを吸収するホットメルトタイプの接
着剤3を併用し、ワーク表面を同一平面に揃えてワーク
盤2に固定する。
【0009】図2は、本発明の研磨の工程を示した断面
図である。図2(A)のようにラッピング盤5にワーク
盤2に固定されたワーク表面を加圧力Fで強制加圧を行
いながら、ラッピング盤5およびワーク盤2を回転させ
て、ダイヤモンドスラリー4を塗布してラッピングを行
い、所定の厚みまで加工する。ラッピング盤5は錫など
の軟質金属を用いラッピング面はピッチの細かいネジ状
の研磨溝5aを設ける。
図である。図2(A)のようにラッピング盤5にワーク
盤2に固定されたワーク表面を加圧力Fで強制加圧を行
いながら、ラッピング盤5およびワーク盤2を回転させ
て、ダイヤモンドスラリー4を塗布してラッピングを行
い、所定の厚みまで加工する。ラッピング盤5は錫など
の軟質金属を用いラッピング面はピッチの細かいネジ状
の研磨溝5aを設ける。
【0010】次に仕上げ工程として図2(B)のよう
に、ポリシング盤7の表面にポリシングクロス7aにワ
ーク表面をセットし、ダイヤモンドスラリー6の微粉を
塗布し、ラッピング加工同様の加工運動をさせてポリシ
ングを行いワーク表面を鏡面にする。
に、ポリシング盤7の表面にポリシングクロス7aにワ
ーク表面をセットし、ダイヤモンドスラリー6の微粉を
塗布し、ラッピング加工同様の加工運動をさせてポリシ
ングを行いワーク表面を鏡面にする。
【0011】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、高速加工
ができ、0.02mm研磨するのに加工時間は30分に
短縮でき、さらに品質の安定した面精度と鏡面仕上げが
実現できる。
ができ、0.02mm研磨するのに加工時間は30分に
短縮でき、さらに品質の安定した面精度と鏡面仕上げが
実現できる。
【図1】本発明の研磨の準備工程を示す断面図である。
【図2】本発明の研磨の工程を示す断面図である。
【図3】(A)(B)(D)は従来の工程を説明した断
面図で、(C)は(B)の上ラッピング盤をはずした状
態の平面図である。
面図で、(C)は(B)の上ラッピング盤をはずした状
態の平面図である。
1 原材料 2 ワーク盤 3 接着剤 4 プレス盤 5 ラッピング盤 5a 研磨溝 6 ダイヤモンドスラリー 7 ポリシング盤 7a ポリシングクロス F 加圧力
Claims (1)
- 【請求項1】 原材料を並べて接着剤で固定したワーク
盤と、軟質金属からなるラッピング盤の間にダイヤモン
ドスラリーを塗布し、強制加圧しながら研磨することを
特徴とする金属板の研磨方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3241830A JPH0577157A (ja) | 1991-09-20 | 1991-09-20 | 金属板の研磨方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3241830A JPH0577157A (ja) | 1991-09-20 | 1991-09-20 | 金属板の研磨方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0577157A true JPH0577157A (ja) | 1993-03-30 |
Family
ID=17080133
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3241830A Pending JPH0577157A (ja) | 1991-09-20 | 1991-09-20 | 金属板の研磨方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0577157A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0746039A1 (de) * | 1995-06-01 | 1996-12-04 | Siemens Aktiengesellschaft | Bipolartransistor vom pnp-Typ |
JP2009162319A (ja) * | 2008-01-08 | 2009-07-23 | Kitz Sct:Kk | 真空バルブ |
-
1991
- 1991-09-20 JP JP3241830A patent/JPH0577157A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0746039A1 (de) * | 1995-06-01 | 1996-12-04 | Siemens Aktiengesellschaft | Bipolartransistor vom pnp-Typ |
JP2009162319A (ja) * | 2008-01-08 | 2009-07-23 | Kitz Sct:Kk | 真空バルブ |
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