JPH0576523A - Ｘ線絞り機構 - Google Patents
Ｘ線絞り機構Info
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- JPH0576523A JPH0576523A JP3242294A JP24229491A JPH0576523A JP H0576523 A JPH0576523 A JP H0576523A JP 3242294 A JP3242294 A JP 3242294A JP 24229491 A JP24229491 A JP 24229491A JP H0576523 A JPH0576523 A JP H0576523A
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- blade
- blades
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- slit
- rays
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 4
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000003079 width control Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 Ｘ線シャットアウト時のＸ線漏れを防止する
ことのできるＸ線絞り機構を提供することを目的とす
る。 【構成】 Ｘ線絞り機構を構成する２枚のブレードを、
一方のブレードの上端面と他方のブレードの下端面とが
同一平面となるように配設する。そして、Ｘ線シャット
アウト時には、両方のブレードを少し重複させる。 【効果】 Ｘ線漏れを確実に防止することができる。
ことのできるＸ線絞り機構を提供することを目的とす
る。 【構成】 Ｘ線絞り機構を構成する２枚のブレードを、
一方のブレードの上端面と他方のブレードの下端面とが
同一平面となるように配設する。そして、Ｘ線シャット
アウト時には、両方のブレードを少し重複させる。 【効果】 Ｘ線漏れを確実に防止することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、Ｘ線ＣＴスキャナ等に
おけるＸ線の照射幅を制御するＸ線絞り機構に関する。
おけるＸ線の照射幅を制御するＸ線絞り機構に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、Ｘ線ＣＴ装置では被写体のスラ
イス厚を制御するためＸ線絞り機構（以下、スリットと
いう）が用いられている。図５は従来のスリットを示す
構成図であり、２枚のブレード１ａ，１ｂと、各ブレー
ドの両端を連結するリンク２ａ，２ｂ、及び、リンク２
ａの中心部位を所定の角度単位で回転させるパルスモー
タ３から構成されている。そして、パルスモータを回転
させるとブレード１ａと１ｂとの間隔が変わるので、Ｘ
線の照射幅を調整することができ、これによってＣＴ画
像のスライス厚を制御している。
イス厚を制御するためＸ線絞り機構（以下、スリットと
いう）が用いられている。図５は従来のスリットを示す
構成図であり、２枚のブレード１ａ，１ｂと、各ブレー
ドの両端を連結するリンク２ａ，２ｂ、及び、リンク２
ａの中心部位を所定の角度単位で回転させるパルスモー
タ３から構成されている。そして、パルスモータを回転
させるとブレード１ａと１ｂとの間隔が変わるので、Ｘ
線の照射幅を調整することができ、これによってＣＴ画
像のスライス厚を制御している。
【０００３】図６は前記したスリットの断面図であり、
同図（ａ）は開口しているとき、同図（ｂ）はＸ線をシ
ャットアウトしているときを示している。図示のよう
に、各ブレード１ａ，１ｂの側面は平面状に加工されて
おり、Ｘ線をシャットアウトする際には、この側面が突
き合わされてＸ線の通過を遮断している。
同図（ａ）は開口しているとき、同図（ｂ）はＸ線をシ
ャットアウトしているときを示している。図示のよう
に、各ブレード１ａ，１ｂの側面は平面状に加工されて
おり、Ｘ線をシャットアウトする際には、この側面が突
き合わされてＸ線の通過を遮断している。
【０００４】ところが、このような従来のスリットで
は、面接触によってＸ線をシャットアウトしているの
で、すき間があるとＸ線が漏れてしまうことがある。ま
た、製造時にすき間のないように精密加工した場合であ
っても、経過変化によって摩耗、損傷することがあるの
で、完全にＸ線をシャットアウトすることは不可能であ
った。
は、面接触によってＸ線をシャットアウトしているの
で、すき間があるとＸ線が漏れてしまうことがある。ま
た、製造時にすき間のないように精密加工した場合であ
っても、経過変化によって摩耗、損傷することがあるの
で、完全にＸ線をシャットアウトすることは不可能であ
った。
【０００５】また、図７はスリットの動作を模式的に示
す説明図であり、同図（ａ）はブレード１ａ，１ｂとリ
ンク２ａ，２ｂとが直角となっている状態、同図（ｂ）
は回転中心６にてリンク２ａが４５°回転したときの状
態を示している。
す説明図であり、同図（ａ）はブレード１ａ，１ｂとリ
ンク２ａ，２ｂとが直角となっている状態、同図（ｂ）
は回転中心６にてリンク２ａが４５°回転したときの状
態を示している。
【０００６】いま、同図（ａ）の状態をθ＝０°とし、
同図（ｂ）の状態をθ＝４５°として回転角θを決める
と、θ＝０°のときがスリット全開状態（Ｌ＝Ｌ0 ）で
あり、θが９０°に近づくに従ってスリット幅Ｌが小さ
くなることが理解できる。ここで、パルスモータ３の回
転角θとスリット幅Ｌとの関係は、回転角θが０°に近
い程、θの変化に対するＬの変化量が小さく、θが９０
°に近づくにつれて、θの変化に対するＬの変化量が大
きくなる。これは、幾何学的に容易に証明されるので、
ここではその説明を省略する。
同図（ｂ）の状態をθ＝４５°として回転角θを決める
と、θ＝０°のときがスリット全開状態（Ｌ＝Ｌ0 ）で
あり、θが９０°に近づくに従ってスリット幅Ｌが小さ
くなることが理解できる。ここで、パルスモータ３の回
転角θとスリット幅Ｌとの関係は、回転角θが０°に近
い程、θの変化に対するＬの変化量が小さく、θが９０
°に近づくにつれて、θの変化に対するＬの変化量が大
きくなる。これは、幾何学的に容易に証明されるので、
ここではその説明を省略する。
【０００７】つまり、簡単に言えば、回転角θが０°か
ら５°まで変化したときのスリット幅Ｌの変化が５［m
m］であるのに対し、θが４５°から５０°まで変化し
たときのＬの変化が１０［mm］となるということであ
る。
ら５°まで変化したときのスリット幅Ｌの変化が５［m
m］であるのに対し、θが４５°から５０°まで変化し
たときのＬの変化が１０［mm］となるということであ
る。
【０００８】従って、本来精密な制御が要求されるＬ＝
０近傍においては大まかな制御しかできず、あまり精度
が要求されないＬ＝Ｌ0 近傍ではきめ細かい制御ができ
る。そこで、何とかＬ＝０近傍において高精度に制御し
たいという要望が高まりつつある。
０近傍においては大まかな制御しかできず、あまり精度
が要求されないＬ＝Ｌ0 近傍ではきめ細かい制御ができ
る。そこで、何とかＬ＝０近傍において高精度に制御し
たいという要望が高まりつつある。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来にお
けるスリットでは、２枚のブレードが面接触することで
Ｘ線をシャットアウトするので、Ｘ線が漏れることがあ
り、Ｘ線を照射させながらメンテナンスを行なう場合に
は、作業者が漏れたＸ線によって被曝してしまい健康を
害するという欠点等がある。
けるスリットでは、２枚のブレードが面接触することで
Ｘ線をシャットアウトするので、Ｘ線が漏れることがあ
り、Ｘ線を照射させながらメンテナンスを行なう場合に
は、作業者が漏れたＸ線によって被曝してしまい健康を
害するという欠点等がある。
【００１０】また、従来のスリットでは、スリット幅が
狭くなるにつれて、スリット幅の制御ステップが大きく
なるので、高精度なスリット幅の制御ができないという
問題点があった。
狭くなるにつれて、スリット幅の制御ステップが大きく
なるので、高精度なスリット幅の制御ができないという
問題点があった。
【００１１】この発明はこのような従来の課題を解決す
るためになされたもので、その第１の目的は、Ｘ線シャ
ットアウト時のＸ線漏れを確実に防止するＸ線絞り機構
を提供することである。また、第２の目的は、スリット
幅を高精度に制御することのできるＸ線絞り機構を提供
することである。
るためになされたもので、その第１の目的は、Ｘ線シャ
ットアウト時のＸ線漏れを確実に防止するＸ線絞り機構
を提供することである。また、第２の目的は、スリット
幅を高精度に制御することのできるＸ線絞り機構を提供
することである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、相対峙する２枚のブレード間隔を適宜調
整してＸ線管から照射されたＸ線の照射幅を制御するＸ
線絞り機構において、前記一方のブレードの下端面と前
記他方のブレードの上端面が略同一平面となるように両
ブレードを配設し、Ｘ線シャットアウト時には前記２枚
のブレードを微小量重複させることが特徴である。
め、本発明は、相対峙する２枚のブレード間隔を適宜調
整してＸ線管から照射されたＸ線の照射幅を制御するＸ
線絞り機構において、前記一方のブレードの下端面と前
記他方のブレードの上端面が略同一平面となるように両
ブレードを配設し、Ｘ線シャットアウト時には前記２枚
のブレードを微小量重複させることが特徴である。
【００１３】また、他の発明では、コの字形に形成さ
れ、凹部側が相対峙して配設される２枚のブレードと、
前記両ブレード両端の突部どうしを結合するリンクと、
該リンクの中心部位を回転させて両ブレード間の間隔を
調整するモータと、を有することを特徴とする。
れ、凹部側が相対峙して配設される２枚のブレードと、
前記両ブレード両端の突部どうしを結合するリンクと、
該リンクの中心部位を回転させて両ブレード間の間隔を
調整するモータと、を有することを特徴とする。
【００１４】
【作用】上述の如く構成すれば、Ｘ線シャットアウト時
には２枚のブレードが重複されるように動作するので、
経年変化による損傷、摩耗等に関係なく、確実にＸ線を
シャットアウトすることができるようになる。また他の
発明では、モータの回転角θとスリット幅（ブレード間
の距離）Ｌとの関係が、 Ｌ＝Ｌ0 −２Ｒsin θ Ｌ0 ：θ＝０のときのスリット幅 Ｒ：リンクの回転半径 で表わされるので、θが９０°に近づくほどθの変化に
対するＬの変化量が小さくなる。従って、スリット幅Ｌ
が零近傍できめ細かい制御ができるようになる。
には２枚のブレードが重複されるように動作するので、
経年変化による損傷、摩耗等に関係なく、確実にＸ線を
シャットアウトすることができるようになる。また他の
発明では、モータの回転角θとスリット幅（ブレード間
の距離）Ｌとの関係が、 Ｌ＝Ｌ0 −２Ｒsin θ Ｌ0 ：θ＝０のときのスリット幅 Ｒ：リンクの回転半径 で表わされるので、θが９０°に近づくほどθの変化に
対するＬの変化量が小さくなる。従って、スリット幅Ｌ
が零近傍できめ細かい制御ができるようになる。
【００１５】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。図１は本発明が適用されたスリットの第１実施例
を示す構成図である。
する。図１は本発明が適用されたスリットの第１実施例
を示す構成図である。
【００１６】同図に示すスリットは、２枚のブレード７
ａ，７ｂと、各ブレード７ａ，７ｂの両端を連結するリ
ンク８ａ，８ｂと、ブレード７ａの下端面とブレード７
ｂの上端面が同一平面となるようにブレード７ｂの位置
を調整するスペーサ９、及び、リンク８ａの中心部位を
回転させて各ブレード間の距離を制御するパルスモータ
３から構成されている。
ａ，７ｂと、各ブレード７ａ，７ｂの両端を連結するリ
ンク８ａ，８ｂと、ブレード７ａの下端面とブレード７
ｂの上端面が同一平面となるようにブレード７ｂの位置
を調整するスペーサ９、及び、リンク８ａの中心部位を
回転させて各ブレード間の距離を制御するパルスモータ
３から構成されている。
【００１７】また、ブレード７ａのＸ線通過側側面は、
Ｘ線管側（上側）に向けてテーパ状に切欠かれており、
ブレード７ｂのＸ線通過側側面は、Ｘ線管とは反対側
（下側）に向けてテーパ状に切欠かれている。図２は上
記したスリットの断面図であり、同図（ａ）は開口時、
同図（ｂ）はＸ線をシャットアウトしたときの状態を示
している。
Ｘ線管側（上側）に向けてテーパ状に切欠かれており、
ブレード７ｂのＸ線通過側側面は、Ｘ線管とは反対側
（下側）に向けてテーパ状に切欠かれている。図２は上
記したスリットの断面図であり、同図（ａ）は開口時、
同図（ｂ）はＸ線をシャットアウトしたときの状態を示
している。
【００１８】そして、同図（ｂ）から明らかなように、
Ｘ線５をシャットアウトするときにはブレード７ａと７
ｂとが重複するので、Ｘ線５の漏れを確実に防止するこ
とができる。また、同図（ａ）から明らかなように、Ｘ
線５を遮断する面が、ブレード７ａの下端面、及びブレ
ード７ｂの上端面であり、これらの面は同一平面である
ので、スリットを通過するＸ線５が乱れることはない。
Ｘ線５をシャットアウトするときにはブレード７ａと７
ｂとが重複するので、Ｘ線５の漏れを確実に防止するこ
とができる。また、同図（ａ）から明らかなように、Ｘ
線５を遮断する面が、ブレード７ａの下端面、及びブレ
ード７ｂの上端面であり、これらの面は同一平面である
ので、スリットを通過するＸ線５が乱れることはない。
【００１９】図３は本発明が適用されたスリットの第２
実施例を示す構成図である。図示のようにこのスリット
は、コの字形に形成された２枚のブレード１０ａ，１０
ｂを有し、これらのブレード１０ａ，１０ｂは凹部側が
相対峙して配置される。
実施例を示す構成図である。図示のようにこのスリット
は、コの字形に形成された２枚のブレード１０ａ，１０
ｂを有し、これらのブレード１０ａ，１０ｂは凹部側が
相対峙して配置される。
【００２０】また、各ブレード１０ａ，１０ｂ両端の突
出部は、リンク１１ａ，１１ｂにて連結されており、リ
ンク１１ａの中心部位は所定の角度単位で回転するパル
スモータ３によって回転し得るようになっている。ま
た、リンク１１ａの中心部位とリンク１１ｂの中心部位
はリンク１２を介して連結されており、パルスモータ３
の回転力がリンク１１ｂの中心部位へ伝達されるように
なっている。
出部は、リンク１１ａ，１１ｂにて連結されており、リ
ンク１１ａの中心部位は所定の角度単位で回転するパル
スモータ３によって回転し得るようになっている。ま
た、リンク１１ａの中心部位とリンク１１ｂの中心部位
はリンク１２を介して連結されており、パルスモータ３
の回転力がリンク１１ｂの中心部位へ伝達されるように
なっている。
【００２１】このような構成において、パルスモータ３
を回転させたときのブレード間距離の変化を図４を参照
しながら説明する。いま、リンク１１ａ，１１ｂとブレ
ード１０ａ，１０ｂの長辺部とが平行なときの回転角θ
を０°とする。そして、リンク１１ａの中心部位Ａを図
中矢印の方向（反時計回り）に回転させることでスリッ
ト幅Ｌが調整される。また、リンク１１ａの中心部位Ａ
から、リンク１１ａとブレード１１ｂとの接続点Ｂまで
の距離をＲとし、θ＝０のときのスリット幅をＬ0 とす
れば、回転角θのときのスリット幅Ｌは、次の（１）式
で示される。 Ｌ＝Ｌ0 −２Ｒsin θ …（１）
を回転させたときのブレード間距離の変化を図４を参照
しながら説明する。いま、リンク１１ａ，１１ｂとブレ
ード１０ａ，１０ｂの長辺部とが平行なときの回転角θ
を０°とする。そして、リンク１１ａの中心部位Ａを図
中矢印の方向（反時計回り）に回転させることでスリッ
ト幅Ｌが調整される。また、リンク１１ａの中心部位Ａ
から、リンク１１ａとブレード１１ｂとの接続点Ｂまで
の距離をＲとし、θ＝０のときのスリット幅をＬ0 とす
れば、回転角θのときのスリット幅Ｌは、次の（１）式
で示される。 Ｌ＝Ｌ0 −２Ｒsin θ …（１）
【００２２】（１）式から明らかなように、回転角θが
０°に近い程、θの変化に対するＬの変化量が大きく、
θが９０°に近づくにつれてθの変化に対するＬの変化
量が小さくなる。
０°に近い程、θの変化に対するＬの変化量が大きく、
θが９０°に近づくにつれてθの変化に対するＬの変化
量が小さくなる。
【００２３】従って、従来例で示した場合とは反対に、
精密な制御が要求されるＬ＝０近傍（θ＝９０°近傍）
においてきめの細かい制御ができるようになる。その結
果、高精度なスリット幅の制御が可能となる。
精密な制御が要求されるＬ＝０近傍（θ＝９０°近傍）
においてきめの細かい制御ができるようになる。その結
果、高精度なスリット幅の制御が可能となる。
【００２４】なお、図３に示したスリットでは構造上Ｌ
＝０とすること、即ち、Ｘ線をシャットアウトすること
はできないが、前記第１実施例で示したように、各ブレ
ードの上下位置をずらして、一方のブレードの上端面と
他方のブレードの下端面とが同一平面上となるように配
置すれば、容易にスリット幅Ｌを零とすることができる
ようになる。
＝０とすること、即ち、Ｘ線をシャットアウトすること
はできないが、前記第１実施例で示したように、各ブレ
ードの上下位置をずらして、一方のブレードの上端面と
他方のブレードの下端面とが同一平面上となるように配
置すれば、容易にスリット幅Ｌを零とすることができる
ようになる。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明では、Ｘ線
絞り機構（スリット）を構成する２枚のブレードを上下
方向にずらし、一方のブレードの上端面と他方のブレー
ドの下端面とが同一平面上となるように配設している。
そして、Ｘ線シャットアウト時には、両ブレードを重複
させている。従って、Ｘ線が漏れることなく確実にＸ線
をシャットアウトすることができるようなる。その結
果、Ｘ線を照射させながらメンテナンスを行なう際等に
作業者が被曝するという欠点は解消される。また、スリ
ット幅が狭くなるほどスリット幅の制御ステップが小さ
くなるので、高精度なスリット幅制御が可能になるとい
う効果が得られる。
絞り機構（スリット）を構成する２枚のブレードを上下
方向にずらし、一方のブレードの上端面と他方のブレー
ドの下端面とが同一平面上となるように配設している。
そして、Ｘ線シャットアウト時には、両ブレードを重複
させている。従って、Ｘ線が漏れることなく確実にＸ線
をシャットアウトすることができるようなる。その結
果、Ｘ線を照射させながらメンテナンスを行なう際等に
作業者が被曝するという欠点は解消される。また、スリ
ット幅が狭くなるほどスリット幅の制御ステップが小さ
くなるので、高精度なスリット幅制御が可能になるとい
う効果が得られる。
【図１】本発明の第１実施例を示す構成図である。
【図２】第１実施例のスリットの断面図である。
【図３】本発明の第２実施例を示す構成図である。
【図４】第２実施例におけるモータの回転角とスリット
幅との関係を示す説明図である。
幅との関係を示す説明図である。
【図５】従来例を示す構成図である。
【図６】従来のスリットの断面図である。
【図７】従来のスリットにおけるモータの回転角とスリ
ット幅との関係を示す説明図である。
ット幅との関係を示す説明図である。
１ ブレード ２ リンク ３ パルスモータ ７ ブレード ８ リンク ９ スペーサ １０ ブレード １１ リンク １２ リンク
Claims (3)
- 【請求項１】 相対峙する２枚のブレード間隔を適宜調
整してＸ線管から照射されたＸ線の照射幅を制御するＸ
線絞り機構において、 前記一方のブレード（第１のブレード）の下端面と前記
他方のブレード（第２のブレード）の上端面が略同一平
面となるように両ブレードを配設し、Ｘ線シャットアウ
ト時には前記２枚のブレードを微小量重複させることを
特徴とするＸ線絞り機構。 - 【請求項２】 前記第１のブレードのＸ線通過側側面は
Ｘ線管側にテーパ加工され、前記第２のブレードのＸ線
通過側側面はＸ線管とは反対側にテーパ加工される請求
項１記載のＸ線絞り機構。 - 【請求項３】 コの字形に形成され、凹部側が相対峙し
て配設される２枚のブレードと、前記両ブレード両端の
突部どうしを結合するリンクと、該リンクの中心部位を
回転させて両ブレード間の間隔を調整するモータと、を
有することを特徴とするＸ線絞り機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3242294A JPH0576523A (ja) | 1991-09-24 | 1991-09-24 | Ｘ線絞り機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3242294A JPH0576523A (ja) | 1991-09-24 | 1991-09-24 | Ｘ線絞り機構 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0576523A true JPH0576523A (ja) | 1993-03-30 |
Family
ID=17087100
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3242294A Pending JPH0576523A (ja) | 1991-09-24 | 1991-09-24 | Ｘ線絞り機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0576523A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009000526A (ja) * | 2007-06-22 | 2009-01-08 | Siemens Ag | コリメータ装置、コリメータ装置の制御方法および制御装置ならびにｘ線コンピュータ断層撮影装置 |
| CN103533893A (zh) * | 2011-05-31 | 2014-01-22 | 株式会社日立医疗器械 | X射线光阑机构以及x射线ct装置 |
| DE102020004935A1 (de) | 2020-08-13 | 2022-02-17 | Singulus Technologies Aktiengesellschaft | Spaltblende |
-
1991
- 1991-09-24 JP JP3242294A patent/JPH0576523A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009000526A (ja) * | 2007-06-22 | 2009-01-08 | Siemens Ag | コリメータ装置、コリメータ装置の制御方法および制御装置ならびにｘ線コンピュータ断層撮影装置 |
| CN103533893A (zh) * | 2011-05-31 | 2014-01-22 | 株式会社日立医疗器械 | X射线光阑机构以及x射线ct装置 |
| JPWO2012165450A1 (ja) * | 2011-05-31 | 2015-02-23 | 株式会社日立メディコ | Ｘ線絞り機構及びｘ線ｃｔ装置 |
| DE102020004935A1 (de) | 2020-08-13 | 2022-02-17 | Singulus Technologies Aktiengesellschaft | Spaltblende |
| DE102020004935B4 (de) | 2020-08-13 | 2022-08-25 | Singulus Technologies Aktiengesellschaft | Spaltblende |
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