JPH0571921B2 - - Google Patents
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- JPH0571921B2 JPH0571921B2 JP56147832A JP14783281A JPH0571921B2 JP H0571921 B2 JPH0571921 B2 JP H0571921B2 JP 56147832 A JP56147832 A JP 56147832A JP 14783281 A JP14783281 A JP 14783281A JP H0571921 B2 JPH0571921 B2 JP H0571921B2
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- Japan
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- microlens
- light
- lenses
- lens
- light shielding
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 17
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、マイクロレンズと称される、平面基
板上に多数個のレンズを一体的に配列したレンズ
アレイの遮光装置に関するものである。
板上に多数個のレンズを一体的に配列したレンズ
アレイの遮光装置に関するものである。
マイクロレンズとは、例えばガラス基板にアレ
イ状に並列した円形マスクを介してTiを拡散し
て、ガラス基板に屈折率分布を与え、レンズ効果
を持たせたものであり、多数個のレンズが一体的
に集積されている。更に詳しくはこのマイクロレ
ンズ１は第１図に示すように、ガラス基板２上
に、断面で示すような水平方向、垂直方向に屈折
率のインデツクス分布を持つて微小レンズ１１，
１２，１３がアレイ状に配置されている。このと
きマイクロレンズ１をレンズ１１の上下に位置す
るＡとＢとの間の結像素子として用いると、レン
ズ１１ではＡの逆像をＢに結像する本来の目的以
外に、レンズ１２，１３に於いてもＡの像をB′，
B″として別の個所に像を形成し、得られる画像
上に悪影響を及ぼすことになる。又、レンズ１１
に於いても、その屈折光はガラス面３でＬのよう
なフレネル反射が発生し逆光が生ずる。従つてこ
のマイクロレンズ１を例えば複写機の撮像系等の
結像レンズに使用する場合に、特に１個のレンズ
の結像範囲外の光、換言すれば大きく傾いた高画
角の光が他のレンズにより作成され、画像に影響
を与え、コントラストの悪化が避けられない。
又、基板２内での多重反射による迷光も、像のコ
ントラストの伝達率を悪くすることになる。そこ
でやむを得ず、マイクロレンズ１の前面又は後面
に、肉厚のマスクを設置することが必要となり、
小型化に対する大きな障害となつている。又、マ
スクによつてもこれらの像を悪化させる原因は十
分に除去しきれない場合もある。
イ状に並列した円形マスクを介してTiを拡散し
て、ガラス基板に屈折率分布を与え、レンズ効果
を持たせたものであり、多数個のレンズが一体的
に集積されている。更に詳しくはこのマイクロレ
ンズ１は第１図に示すように、ガラス基板２上
に、断面で示すような水平方向、垂直方向に屈折
率のインデツクス分布を持つて微小レンズ１１，
１２，１３がアレイ状に配置されている。このと
きマイクロレンズ１をレンズ１１の上下に位置す
るＡとＢとの間の結像素子として用いると、レン
ズ１１ではＡの逆像をＢに結像する本来の目的以
外に、レンズ１２，１３に於いてもＡの像をB′，
B″として別の個所に像を形成し、得られる画像
上に悪影響を及ぼすことになる。又、レンズ１１
に於いても、その屈折光はガラス面３でＬのよう
なフレネル反射が発生し逆光が生ずる。従つてこ
のマイクロレンズ１を例えば複写機の撮像系等の
結像レンズに使用する場合に、特に１個のレンズ
の結像範囲外の光、換言すれば大きく傾いた高画
角の光が他のレンズにより作成され、画像に影響
を与え、コントラストの悪化が避けられない。
又、基板２内での多重反射による迷光も、像のコ
ントラストの伝達率を悪くすることになる。そこ
でやむを得ず、マイクロレンズ１の前面又は後面
に、肉厚のマスクを設置することが必要となり、
小型化に対する大きな障害となつている。又、マ
スクによつてもこれらの像を悪化させる原因は十
分に除去しきれない場合もある。
本発明の目的は、上述の問題点を解消し、鮮鋭
な画像を得ることのできるマイクロレンズの遮光
装置を提供することにあり、その要旨は、平面基
板に多数個のレンズを一体的に配列したマイクロ
レンズに於いて、前記多数個のレンズはガラス基
板にマスクパターニング法により屈折率分布を与
えレンズ効果を持たせ、個々のレンズ同志の境界
部の基板表面をマスクパターニング法によりエツ
チングて溝を形成し、これらの溝内に光吸収物質
を充填又は塗布して遮光部を作成したことを特徴
とするものである。
な画像を得ることのできるマイクロレンズの遮光
装置を提供することにあり、その要旨は、平面基
板に多数個のレンズを一体的に配列したマイクロ
レンズに於いて、前記多数個のレンズはガラス基
板にマスクパターニング法により屈折率分布を与
えレンズ効果を持たせ、個々のレンズ同志の境界
部の基板表面をマスクパターニング法によりエツ
チングて溝を形成し、これらの溝内に光吸収物質
を充填又は塗布して遮光部を作成したことを特徴
とするものである。
本発明を第２図以下に図示の実施例に基づいて
詳細に説明すると、第２図ａはマイクロレンズ１
の断面図であり、ガラス基板２にレンズ１１，１
２，１３，…が設けられている。そしてこれらの
レンズ１１，１２，１３，…のそれぞれの境界部
のガラス基板２内に板体状の遮光部２１，２２，
２３…が仕切り壁のように挿入されている。尚、
この遮光部２１，２２，２３，…は例えばガラス
基板２をエツジングして溝を形成し、この溝内に
光吸収物質を充填又は塗布して作成されている。
又、第２図ｂは他の実施例であり、レンズ作成面
の反対側のガラス面３に同様にレンズ１１，１
２，１３…間の境界部に位置するように遮光部２
１，２２，２３，…が挿入される。
詳細に説明すると、第２図ａはマイクロレンズ１
の断面図であり、ガラス基板２にレンズ１１，１
２，１３，…が設けられている。そしてこれらの
レンズ１１，１２，１３，…のそれぞれの境界部
のガラス基板２内に板体状の遮光部２１，２２，
２３…が仕切り壁のように挿入されている。尚、
この遮光部２１，２２，２３，…は例えばガラス
基板２をエツジングして溝を形成し、この溝内に
光吸収物質を充填又は塗布して作成されている。
又、第２図ｂは他の実施例であり、レンズ作成面
の反対側のガラス面３に同様にレンズ１１，１
２，１３…間の境界部に位置するように遮光部２
１，２２，２３，…が挿入される。
第３図ａ，ｂ，ｃの実施例は、マイクロレンズ
１の表面側から見た平面図であり、それぞれ円、
四角、多角の筒型に遮光部２１，２２，２３，…
が形成され、レンズ１１，１２，１３，…はこれ
らの遮光部２１，２２，２３，…内に設けられて
いる。尚、これらの遮光部２１，２２，２３，…
は、第２図ａに対する第２図ｂのように、レンズ
作成面の反対側に配置しても支障はない。
１の表面側から見た平面図であり、それぞれ円、
四角、多角の筒型に遮光部２１，２２，２３，…
が形成され、レンズ１１，１２，１３，…はこれ
らの遮光部２１，２２，２３，…内に設けられて
いる。尚、これらの遮光部２１，２２，２３，…
は、第２図ａに対する第２図ｂのように、レンズ
作成面の反対側に配置しても支障はない。
従つて第２図ａの実施例で云えば第４図に示す
ようにレンズ１１の上方に位置するＡの像をＢに
結像する場合に、ガラス基板２のガラス面で発生
するフレネル反射による迷光Ｌは、例えば遮光部
２２により吸収され、高角度で他のレンズ方向に
進行する光L1は例えば遮光部２２，２３により
遮断されることになる。かくして迷光やレンズ１
１，１２，１３，…相互間の重複像が大巾に減少
し、解像力の高い画像が得られる。
ようにレンズ１１の上方に位置するＡの像をＢに
結像する場合に、ガラス基板２のガラス面で発生
するフレネル反射による迷光Ｌは、例えば遮光部
２２により吸収され、高角度で他のレンズ方向に
進行する光L1は例えば遮光部２２，２３により
遮断されることになる。かくして迷光やレンズ１
１，１２，１３，…相互間の重複像が大巾に減少
し、解像力の高い画像が得られる。
遮光部２１，２２，２３，…は例えばガラスエ
ツジングにより作成できる。第５図ａに示すよう
に、表面にホトレジスト等の方法によるマスク４
を付着したガラス基板２を、フツ酸などのエツジ
ング液５に浸漬する。ここで予めガラス基板２は
Tiと置換可能なNa、Ｋ等を含んでいる。このマ
スクパターニング法によるエツチングによりガラ
ス基板２には第５図ｂに示すように溝６が刻設さ
れ、この溝６内に第５図ｃに示すように吸光物質
７を充填して遮光部２１，２２，２３…とする。
吸光物質７は充填の代りに溝６の内壁に塗布して
もよい。次に遮光部２１，２２，２３，…のレン
ズ作成面にマスク８を形成し、第５図ｄに示すよ
うにTiイオンを含む液９中に浸漬し、ガラス基
板２中のNa、Ｋイオン等をTiイオンと置換する
ことにより、レンズ１１，１２，１３，…を製作
する。
ツジングにより作成できる。第５図ａに示すよう
に、表面にホトレジスト等の方法によるマスク４
を付着したガラス基板２を、フツ酸などのエツジ
ング液５に浸漬する。ここで予めガラス基板２は
Tiと置換可能なNa、Ｋ等を含んでいる。このマ
スクパターニング法によるエツチングによりガラ
ス基板２には第５図ｂに示すように溝６が刻設さ
れ、この溝６内に第５図ｃに示すように吸光物質
７を充填して遮光部２１，２２，２３…とする。
吸光物質７は充填の代りに溝６の内壁に塗布して
もよい。次に遮光部２１，２２，２３，…のレン
ズ作成面にマスク８を形成し、第５図ｄに示すよ
うにTiイオンを含む液９中に浸漬し、ガラス基
板２中のNa、Ｋイオン等をTiイオンと置換する
ことにより、レンズ１１，１２，１３，…を製作
する。
第６図、第７図はこのマイクロレンズを複写機
の結像系に使用した応用例を示すものであり、第
６図は第２図ｂに示したマイクロレンズが２個使
用され、マイクロレンズ１ａ，１ｂの遮光部２
１，２２，２３…同志は対向して密着されてい
る。Ａの像はマイクロレンズ１ａのレンズ１１に
よりマイクロレンズ１ａ，１ｂの境界面に一旦逆
像B′として形成され、更にマイクロレンズ１ｂ
のレンズ１１によりＢの像として正像に戻され
る。この過程に於いて、２個のマイクロレンズ１
ａ，１ｂの遮光部２１，２２，２３，…の存在に
より、レンズ１１，１２，１３，…間の重複像が
減少し、フレネル反射による迷光が少なくなり、
高解像の像が形成される。又、マイクロレンズ１
ａのレンズ作成面のレンズ１１，１２，１３，…
間に３１，３２，３３，…を配置することも好適
であり、その結果更に良質の像を得ることができ
る。
の結像系に使用した応用例を示すものであり、第
６図は第２図ｂに示したマイクロレンズが２個使
用され、マイクロレンズ１ａ，１ｂの遮光部２
１，２２，２３…同志は対向して密着されてい
る。Ａの像はマイクロレンズ１ａのレンズ１１に
よりマイクロレンズ１ａ，１ｂの境界面に一旦逆
像B′として形成され、更にマイクロレンズ１ｂ
のレンズ１１によりＢの像として正像に戻され
る。この過程に於いて、２個のマイクロレンズ１
ａ，１ｂの遮光部２１，２２，２３，…の存在に
より、レンズ１１，１２，１３，…間の重複像が
減少し、フレネル反射による迷光が少なくなり、
高解像の像が形成される。又、マイクロレンズ１
ａのレンズ作成面のレンズ１１，１２，１３，…
間に３１，３２，３３，…を配置することも好適
であり、その結果更に良質の像を得ることができ
る。
第７図の場合は第２図ａに示した３個のマイク
ロレンズ１ｃ，１ｄ，１ｃを重合して使用したも
のであり、中間のマイクロレンズ１ｄはフイール
ドレンズの役割を果し、第６図の場合と同様に正
像が得られ、遮光部２１，２２，２３，…の存在
により鮮鋭な像が結像される。
ロレンズ１ｃ，１ｄ，１ｃを重合して使用したも
のであり、中間のマイクロレンズ１ｄはフイール
ドレンズの役割を果し、第６図の場合と同様に正
像が得られ、遮光部２１，２２，２３，…の存在
により鮮鋭な像が結像される。
本発明に係るマイクロレンズの遮光装置の効果
を列挙すれば次の通りである。
を列挙すれば次の通りである。
(1) 遮光部により結像すべきレンズ以外のレンズ
による多重像やガラス面での反射による迷光を
減少することができ、解像度の高い画像を得る
ことができる。
による多重像やガラス面での反射による迷光を
減少することができ、解像度の高い画像を得る
ことができる。
(2) 遮光部は、マイクロレンズの製造と同様にマ
スクパターン技術による加工法により加工でき
るので、高い寸法精度が得られ、均一な性能の
マイクロレンズが製造できる。
スクパターン技術による加工法により加工でき
るので、高い寸法精度が得られ、均一な性能の
マイクロレンズが製造できる。
(3) 遮光部はマイクロレンズ内に形成するので外
部に突出する部品も無く小型化できる。
部に突出する部品も無く小型化できる。
(4) マイクロレンズの製造過程でレンズの作成に
先立ち、遮光部を先に作成すれば、レンズ自体
のオーバラツプを防止することができる。
先立ち、遮光部を先に作成すれば、レンズ自体
のオーバラツプを防止することができる。
第１図はマイクロレンズを説明するための斜視
断面図、第２図以下は本発明に得るマイクロレン
ズ遮光装置を示す実施例であり、第２図ａ，ｂは
その断面図、第３図ａ，ｂ，ｃは平面図、第４図
は遮光部の効果の説明図、第５図ａ，ｂ，ｃ，ｄ
はマイクロレンズの製造工程の説明図、第６図、
第７図は応用例を示す断面図である。 符号１，１ａ，〜１ｅはマイクロレンズ、２は
ガラス基板、３はガラス面、１１，１２，１３，
…はレンズ、２１，２２，２３，…は遮光部であ
る。
断面図、第２図以下は本発明に得るマイクロレン
ズ遮光装置を示す実施例であり、第２図ａ，ｂは
その断面図、第３図ａ，ｂ，ｃは平面図、第４図
は遮光部の効果の説明図、第５図ａ，ｂ，ｃ，ｄ
はマイクロレンズの製造工程の説明図、第６図、
第７図は応用例を示す断面図である。 符号１，１ａ，〜１ｅはマイクロレンズ、２は
ガラス基板、３はガラス面、１１，１２，１３，
…はレンズ、２１，２２，２３，…は遮光部であ
る。
Claims (1)
- １ 平面基板に多数個のレンズを一体的に配列し
たマイクロレンズに於いて、前記多数個のレンズ
はガラス基板にマスクパターニング法により屈折
率分布を与えレンズ効果を持たせ、個々のレンズ
同志の境界部の基板表面をマスクパターニング法
によりエツチングして溝を形成し、これらの溝内
に光吸収物質を充填又は塗布して遮光部を作成し
たことを特徴とするマイクロレンズの遮光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14783281A JPS5849903A (ja) | 1981-09-21 | 1981-09-21 | マイクロレンズの遮光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14783281A JPS5849903A (ja) | 1981-09-21 | 1981-09-21 | マイクロレンズの遮光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5849903A JPS5849903A (ja) | 1983-03-24 |
| JPH0571921B2 true JPH0571921B2 (ja) | 1993-10-08 |
Family
ID=15439248
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14783281A Granted JPS5849903A (ja) | 1981-09-21 | 1981-09-21 | マイクロレンズの遮光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5849903A (ja) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4501468A (en) * | 1983-08-04 | 1985-02-26 | Corning Glass Works | Integral optical imaging devices using grin lens systems |
| JPS6050426A (ja) * | 1983-08-31 | 1985-03-20 | Fujitsu Ltd | 赤外線検知器 |
| JPS61267003A (ja) * | 1985-05-22 | 1986-11-26 | Nitto Jushi Kogyo Kk | 透過光制御部材 |
| JP2718689B2 (ja) * | 1988-03-09 | 1998-02-25 | 株式会社リコー | レンズ・アレイ |
| JPH05196927A (ja) * | 1992-01-17 | 1993-08-06 | Nitto Denko Corp | 液晶表示装置及び導光板 |
| JP2815130B2 (ja) * | 1992-11-04 | 1998-10-27 | キヤノン株式会社 | レンズアレイ及びそれを用いた密着型イメージセンサー |
| DE19715760A1 (de) * | 1997-04-16 | 1998-10-22 | Einighammer Hans J Dr | Verfahren zur Abbildung mit großem Gesichtsfeld mittels kleiner Optik und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
| JP2003329895A (ja) * | 2002-05-14 | 2003-11-19 | Sony Corp | 光リンク装置 |
| KR100730212B1 (ko) * | 2006-03-28 | 2007-06-19 | 삼성에스디아이 주식회사 | 필터 조립체 및 이를 구비하는 플라즈마 디스플레이 장치 |
| WO2011055655A1 (ja) * | 2009-11-05 | 2011-05-12 | コニカミノルタオプト株式会社 | 撮像装置、光学ユニット、ウエハレンズ積層体及びウエハレンズ積層体の製造方法 |
| KR101615397B1 (ko) * | 2010-03-31 | 2016-04-25 | 가부시키가이샤 제이올레드 | 표시 패널 장치 및 표시 패널 장치의 제조 방법 |
| JP6750216B2 (ja) * | 2015-12-22 | 2020-09-02 | 大日本印刷株式会社 | 撮像モジュール、撮像装置 |
| CN108206397B (zh) * | 2016-12-16 | 2021-12-24 | 富士康(昆山)电脑接插件有限公司 | 连接器组件 |
| WO2023058353A1 (ja) * | 2021-10-07 | 2023-04-13 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 発光装置、発光装置の製造方法、および測距装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5590923A (en) * | 1978-12-28 | 1980-07-10 | Canon Inc | Production of compound eye lens device |
-
1981
- 1981-09-21 JP JP14783281A patent/JPS5849903A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5590923A (en) * | 1978-12-28 | 1980-07-10 | Canon Inc | Production of compound eye lens device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5849903A (ja) | 1983-03-24 |
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