JPH0571776A - 湿度発生装置 - Google Patents
湿度発生装置Info
- Publication number
- JPH0571776A JPH0571776A JP3230601A JP23060191A JPH0571776A JP H0571776 A JPH0571776 A JP H0571776A JP 3230601 A JP3230601 A JP 3230601A JP 23060191 A JP23060191 A JP 23060191A JP H0571776 A JPH0571776 A JP H0571776A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 第１に、分流法に基づいて目標湿度を得るこ
とができ、しかも、従来分流法では目標湿度発生部へ直
接導いていた分流後の乾燥気体を低露点飽和気体発生槽
を経て目標湿度発生部へ導くことで、その露点を制御で
きるようにし、それによって正確で、安定した湿度発生
を達成できる湿度発生装置を提供する。第２に、分流法
に基づく湿度発生又は二温度法に基づく湿度発生を任意
に選択できる湿度発生装置を提供する。 【構成】 試験槽１、高露点飽和気体発生槽２、低露点
飽和気体発生槽３、第１の流量制御手段（弁ＳＶ１、流
量計Ｆ１）、第２の流量制御手段（弁ＳＶ２、流量計Ｆ
２）、乾燥空気を前記第１の流量制御を経て槽２へ導
き、高露点飽和気体として試験槽１へ導く管４１、４
２、４４、４６、及び乾燥空気を前記第２の流量制御手
段を経て槽３へ導き、低露点飽和気体として試験槽１へ
導く管４１、４３、４５、４６を備えた湿度発生装置。
とができ、しかも、従来分流法では目標湿度発生部へ直
接導いていた分流後の乾燥気体を低露点飽和気体発生槽
を経て目標湿度発生部へ導くことで、その露点を制御で
きるようにし、それによって正確で、安定した湿度発生
を達成できる湿度発生装置を提供する。第２に、分流法
に基づく湿度発生又は二温度法に基づく湿度発生を任意
に選択できる湿度発生装置を提供する。 【構成】 試験槽１、高露点飽和気体発生槽２、低露点
飽和気体発生槽３、第１の流量制御手段（弁ＳＶ１、流
量計Ｆ１）、第２の流量制御手段（弁ＳＶ２、流量計Ｆ
２）、乾燥空気を前記第１の流量制御を経て槽２へ導
き、高露点飽和気体として試験槽１へ導く管４１、４
２、４４、４６、及び乾燥空気を前記第２の流量制御手
段を経て槽３へ導き、低露点飽和気体として試験槽１へ
導く管４１、４３、４５、４６を備えた湿度発生装置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は恒温恒湿器等の環境試験
装置その他湿度制御が要求される分野において目標とす
る湿度を得るための湿度発生装置に関する。
装置その他湿度制御が要求される分野において目標とす
る湿度を得るための湿度発生装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】目標とする湿度を発生させる方法に分流
法と二温度法があることは周知である。分流法による
と、図２に示すように、乾燥気体ａが二つの流れに分け
られ、一方は所定温度に制御された水Ｗを収容した飽和
空気発生槽８１に導かれ、ここで飽和空気となって目標
湿度発生槽８２へ導かれ、他方は直接、槽８２へ導か
れ、両者が混合されて槽８２内へ導入されることで目標
湿度が得られる。そして、湿度発生槽８２で得られる相
対湿度Ｈは、 Ｈ＝１００γ・Ｐｔ／〔Ｐｓ−（１−γ）ｅｓ〕で表さ
れる。
法と二温度法があることは周知である。分流法による
と、図２に示すように、乾燥気体ａが二つの流れに分け
られ、一方は所定温度に制御された水Ｗを収容した飽和
空気発生槽８１に導かれ、ここで飽和空気となって目標
湿度発生槽８２へ導かれ、他方は直接、槽８２へ導か
れ、両者が混合されて槽８２内へ導入されることで目標
湿度が得られる。そして、湿度発生槽８２で得られる相
対湿度Ｈは、 Ｈ＝１００γ・Ｐｔ／〔Ｐｓ−（１−γ）ｅｓ〕で表さ
れる。
【０００３】但し、γ：分流比、Ｐｔ：槽８２の気体の
全圧、Ｐｓ：槽８１の気体の全圧、ｅｓ：槽８１の気体
における飽和水蒸気圧である。分流比γは、例えば、乾
燥気体ａの分流後の各流量を流量計８０で測定して得た
値の比で求められる。二温度法によると、図３に示すよ
うに、通常は、乾燥気体ａが、所定温度に制御された水
Ｗを収容した飽和空気発生槽８３に導かれ、ここで所定
温度の飽和空気となり、その後、これと同温度又はこれ
より高温の所定温度に例えば恒温槽８５にて制御された
目標湿度発生槽８４へ導かれ、ここで目標とする温度、
湿度が得られる。
全圧、Ｐｓ：槽８１の気体の全圧、ｅｓ：槽８１の気体
における飽和水蒸気圧である。分流比γは、例えば、乾
燥気体ａの分流後の各流量を流量計８０で測定して得た
値の比で求められる。二温度法によると、図３に示すよ
うに、通常は、乾燥気体ａが、所定温度に制御された水
Ｗを収容した飽和空気発生槽８３に導かれ、ここで所定
温度の飽和空気となり、その後、これと同温度又はこれ
より高温の所定温度に例えば恒温槽８５にて制御された
目標湿度発生槽８４へ導かれ、ここで目標とする温度、
湿度が得られる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前記分流法に
よると、使用される乾燥気体ａは、その相対湿度が０％
ＲＨ又は限り無く０％ＲＨに近いことが前提とされ、例
えば露点温度に換算して乾球温度２０℃で、−５０℃
Ｄ．Ｐ．の定露点を有する乾燥気体が考えられる。とこ
ろが、このような乾燥気体を発生させる従来装置は、通
常、使用時間とともにその機能が低下する乾燥剤を用い
ているため、発生する乾燥気体の露点が時間と共に変化
し、数十時間使用すると、一定の露点を有する乾燥気体
を得られなくなるのが実情であり、従って、分流法で要
求される定露点の乾燥気体が発生している保証がない。
よると、使用される乾燥気体ａは、その相対湿度が０％
ＲＨ又は限り無く０％ＲＨに近いことが前提とされ、例
えば露点温度に換算して乾球温度２０℃で、−５０℃
Ｄ．Ｐ．の定露点を有する乾燥気体が考えられる。とこ
ろが、このような乾燥気体を発生させる従来装置は、通
常、使用時間とともにその機能が低下する乾燥剤を用い
ているため、発生する乾燥気体の露点が時間と共に変化
し、数十時間使用すると、一定の露点を有する乾燥気体
を得られなくなるのが実情であり、従って、分流法で要
求される定露点の乾燥気体が発生している保証がない。
【０００５】例えば、当初、−６０℃Ｄ．Ｐ．の露点の
乾燥空気が発生していたところ、これが、−３３．５℃
Ｄ．Ｐ．の空気しか発生しなくなったとすると、例えば
５℃において相対湿度が３％上がってしまい、用をなさ
ない。この問題を解決する手段として、乾燥剤を使用し
た乾燥気体発生装置を２組用い、露点計等で露点を確認
して使用装置を切り換える等が考えられるが、装置が大
型化し、コスト高につくという問題がある。
乾燥空気が発生していたところ、これが、−３３．５℃
Ｄ．Ｐ．の空気しか発生しなくなったとすると、例えば
５℃において相対湿度が３％上がってしまい、用をなさ
ない。この問題を解決する手段として、乾燥剤を使用し
た乾燥気体発生装置を２組用い、露点計等で露点を確認
して使用装置を切り換える等が考えられるが、装置が大
型化し、コスト高につくという問題がある。
【０００６】また、別の問題として、従来の湿度発生装
置は、前記分流法又は二温度法を原理とするもので、各
法の利点を生かすため、両法を使い分けるということが
できない。なお、分流法によると、二温度法に比べて速
く任意の湿度が得られるので、ある特定の温度での相対
湿度を手軽く得るのに適している。
置は、前記分流法又は二温度法を原理とするもので、各
法の利点を生かすため、両法を使い分けるということが
できない。なお、分流法によると、二温度法に比べて速
く任意の湿度が得られるので、ある特定の温度での相対
湿度を手軽く得るのに適している。
【０００７】また、二温度法によると、分流法よりも高
精度で目標湿度が得られ、湿度センサ等の各種湿度装置
の校正等に適している。そこで本発明は、第１に、分流
法に基づいて目標湿度を得ることができ、しかも、従来
分流法では目標湿度発生部へ直接導いていた分流後の乾
燥気体を低露点飽和気体発生槽を経て目標湿度発生部へ
導くことで、その露点を制御できるようにし、それによ
って正確で、安定した湿度発生を達成できる湿度発生装
置を提供することを目的とする。
精度で目標湿度が得られ、湿度センサ等の各種湿度装置
の校正等に適している。そこで本発明は、第１に、分流
法に基づいて目標湿度を得ることができ、しかも、従来
分流法では目標湿度発生部へ直接導いていた分流後の乾
燥気体を低露点飽和気体発生槽を経て目標湿度発生部へ
導くことで、その露点を制御できるようにし、それによ
って正確で、安定した湿度発生を達成できる湿度発生装
置を提供することを目的とする。
【０００８】本発明は、第２に、分流法に基づく湿度発
生又は二温度法に基づく湿度発生を任意に選択できる湿
度発生装置を提供することを目的とする。
生又は二温度法に基づく湿度発生を任意に選択できる湿
度発生装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は前記第１の目的
に従い、目標湿度発生部、高露点飽和気体発生槽、低露
点飽和気体発生槽、第１の流量制御手段、第２の流量制
御手段、乾燥気体を前記第１の流量制御手段を経て前記
高露点飽和気体発生槽へ導き、高露点飽和気体として前
記目標湿度発生部へ導く第１の気体通路、及び乾燥気体
を前記第２の流量制御手段を経て前記低露点飽和気体発
生槽へ導き、低露点飽和気体として前記目標湿度発生部
へ導く第２の気体通路を備えたことを特徴とする湿度発
生装置を提供するものである。
に従い、目標湿度発生部、高露点飽和気体発生槽、低露
点飽和気体発生槽、第１の流量制御手段、第２の流量制
御手段、乾燥気体を前記第１の流量制御手段を経て前記
高露点飽和気体発生槽へ導き、高露点飽和気体として前
記目標湿度発生部へ導く第１の気体通路、及び乾燥気体
を前記第２の流量制御手段を経て前記低露点飽和気体発
生槽へ導き、低露点飽和気体として前記目標湿度発生部
へ導く第２の気体通路を備えたことを特徴とする湿度発
生装置を提供するものである。
【００１０】また、本発明は前記第２の目的に従い、前
記目標湿度発生部が、それに導入される気体の温度を制
御する手段を有している湿度発生装置を提供するもので
ある。前記第１及び第２の流量制御手段は種々考えられ
るが、代表例として、開度調節可能の弁と流量計の組み
合わせを挙げることができる。
記目標湿度発生部が、それに導入される気体の温度を制
御する手段を有している湿度発生装置を提供するもので
ある。前記第１及び第２の流量制御手段は種々考えられ
るが、代表例として、開度調節可能の弁と流量計の組み
合わせを挙げることができる。
【００１１】
【作用】本発明湿度発生装置によると、乾燥気体が第１
の流量制御手段により予め定めた流量に制御されて低露
点飽和気体発生槽に導かれ、ここで低露点飽和気体とな
って目標湿度発生部へ導かれる。また同時に、同じ乾燥
気体が第２の流量制御手段によって流量制御された状態
で高露点気体発生槽に導かれ、ここで高露点飽和気体と
なって目標湿度発生部へ導かれる。両者は混合された状
態で目標湿度発生部へ流入し、ここで目標の湿度が得ら
れる。
の流量制御手段により予め定めた流量に制御されて低露
点飽和気体発生槽に導かれ、ここで低露点飽和気体とな
って目標湿度発生部へ導かれる。また同時に、同じ乾燥
気体が第２の流量制御手段によって流量制御された状態
で高露点気体発生槽に導かれ、ここで高露点飽和気体と
なって目標湿度発生部へ導かれる。両者は混合された状
態で目標湿度発生部へ流入し、ここで目標の湿度が得ら
れる。
【００１２】また、前記目標湿度発生部が該槽内に導入
される気体の温度を制御する手段を有しているときに
は、前述のように低露点飽和気体発生槽及び高露点飽和
気体発生槽の両者を用いて分流法により目標の湿度を得
ることもできるが、乾燥気体を高露点飽和気体発生槽又
は低露点飽和気体発生槽のいずれかに流して所定露点の
飽和気体としたうえ目標湿度発生部へ導き、一方、目標
湿度発生部を前記温度制御手段により予め導入されてく
る飽和気体の温度と同等又はそれ以上の所定の温度に制
御しておき、それによって該目標湿度発生部において目
標とする温度及び湿度が得られる。
される気体の温度を制御する手段を有しているときに
は、前述のように低露点飽和気体発生槽及び高露点飽和
気体発生槽の両者を用いて分流法により目標の湿度を得
ることもできるが、乾燥気体を高露点飽和気体発生槽又
は低露点飽和気体発生槽のいずれかに流して所定露点の
飽和気体としたうえ目標湿度発生部へ導き、一方、目標
湿度発生部を前記温度制御手段により予め導入されてく
る飽和気体の温度と同等又はそれ以上の所定の温度に制
御しておき、それによって該目標湿度発生部において目
標とする温度及び湿度が得られる。
【００１３】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。図１は一実施例の概略構成を示している。この湿
度発生装置は、目標温度発生部である試験槽１を備えて
いる。この試験槽１は恒温槽１１中に納められており、
試験槽１の周囲には液体１２が満たされている。この液
体１２は恒温槽１１内に設置した加熱器及び冷却器を含
む温度制御装置１３により所定温度に制御可能である。
する。図１は一実施例の概略構成を示している。この湿
度発生装置は、目標温度発生部である試験槽１を備えて
いる。この試験槽１は恒温槽１１中に納められており、
試験槽１の周囲には液体１２が満たされている。この液
体１２は恒温槽１１内に設置した加熱器及び冷却器を含
む温度制御装置１３により所定温度に制御可能である。
【００１４】また図示の湿度発生装置は、高露点飽和気
体発生槽２及び低露点飽和気体発生槽３を備えており、
槽２は恒温槽２１内に設置され、該恒温槽２１内に収容
した液体２２を該槽内の温度制御装置２３で温度制御す
ることにより、高露点飽和気体発生槽２内の蒸留水Ｗ１
を所定の温度に制御することができる。また低露点飽和
気体発生槽３も恒温槽３１に納められており、該槽内に
収容した液体３２を該槽内に付設した温度制御装置３３
で温度制御することにより、低露点飽和気体発生槽３内
に収容した蒸留水Ｗ２を所定温度の氷に氷結させること
ができる。
体発生槽２及び低露点飽和気体発生槽３を備えており、
槽２は恒温槽２１内に設置され、該恒温槽２１内に収容
した液体２２を該槽内の温度制御装置２３で温度制御す
ることにより、高露点飽和気体発生槽２内の蒸留水Ｗ１
を所定の温度に制御することができる。また低露点飽和
気体発生槽３も恒温槽３１に納められており、該槽内に
収容した液体３２を該槽内に付設した温度制御装置３３
で温度制御することにより、低露点飽和気体発生槽３内
に収容した蒸留水Ｗ２を所定温度の氷に氷結させること
ができる。
【００１５】さらに、乾燥空気発生装置４が設けられて
おり、ここで発生した乾燥空気Ａが配管４１及びこれか
ら分岐した配管４２により槽２の液相部に接続されてい
るとともに、配管４１から分岐した配管４３によって槽
３の気相部に接続されている。また、槽２の気相部は配
管４４により、槽３の気相部は配管４５を経て一つの配
管４６に合流し、該配管４６は試験槽１に接続されてい
る。
おり、ここで発生した乾燥空気Ａが配管４１及びこれか
ら分岐した配管４２により槽２の液相部に接続されてい
るとともに、配管４１から分岐した配管４３によって槽
３の気相部に接続されている。また、槽２の気相部は配
管４４により、槽３の気相部は配管４５を経て一つの配
管４６に合流し、該配管４６は試験槽１に接続されてい
る。
【００１６】前記配管４２にはその途中に電磁弁ＳＶ１
及び流量計Ｆ１が接続されているとともに、配管４３中
には電磁弁ＳＶ２及び流量計Ｆ２が接続されている。以
上説明した湿度発生装置によると、分流法又は二温度法
に基づいて試験槽１に目標湿度を発生させることができ
る。まず分流法に基づく湿度発生について説明すると、
乾燥空気発生装置４で発生した乾燥空気Ａを電磁弁ＳＶ
１の開度を調節して開き、且つ、流量計Ｆ１で所定流量
であることを確認しつつ高露点飽和気体発生槽２に導
き、ここで所定温度の水に接触させて高露点飽和気体と
したのち試験槽１に導く一方、電磁弁ＳＶ２の開度を加
減して開き、且つ、流量計Ｆ２で所定流量であることを
確認しつつ乾燥空気Ａを低露点飽和気体発生槽３へ導
き、ここの氷に接触させて低露点飽和気体としたのち試
験槽１へ導く。高露点飽和気体発生槽２及び低露点飽和
気体発生槽３から試験槽１へ導かれる両気体は途中合流
して混合され、目標の湿度の状態となって試験槽１に流
入する。
及び流量計Ｆ１が接続されているとともに、配管４３中
には電磁弁ＳＶ２及び流量計Ｆ２が接続されている。以
上説明した湿度発生装置によると、分流法又は二温度法
に基づいて試験槽１に目標湿度を発生させることができ
る。まず分流法に基づく湿度発生について説明すると、
乾燥空気発生装置４で発生した乾燥空気Ａを電磁弁ＳＶ
１の開度を調節して開き、且つ、流量計Ｆ１で所定流量
であることを確認しつつ高露点飽和気体発生槽２に導
き、ここで所定温度の水に接触させて高露点飽和気体と
したのち試験槽１に導く一方、電磁弁ＳＶ２の開度を加
減して開き、且つ、流量計Ｆ２で所定流量であることを
確認しつつ乾燥空気Ａを低露点飽和気体発生槽３へ導
き、ここの氷に接触させて低露点飽和気体としたのち試
験槽１へ導く。高露点飽和気体発生槽２及び低露点飽和
気体発生槽３から試験槽１へ導かれる両気体は途中合流
して混合され、目標の湿度の状態となって試験槽１に流
入する。
【００１７】この装置によると、従来ならば分流された
あと直接試験槽１へ導かれていた乾燥空気が、ここでは
低露点飽和気体発生槽３に通され、露点が正確に分かっ
た、しかも任意に設定された露点の乾燥空気として、高
露点飽和気体発生槽を通過してきた空気と混合されるの
で、従来に比べ正確で安定した湿度発生を達成すること
ができる。例えば低露点飽和気体発生槽３において−６
０℃Ｄ．Ｐ．に設定すると、該槽３の出口からは−６０
℃の露点を有する乾燥空気が出て、高露点飽和気体発生
槽２からの飽和空気と混合される。なお槽２及び槽３を
通過する空気の流量は流量計Ｆ１、Ｆ２によって測定で
きるので、前述の相対湿度Ｈを求める式における分流比
γはこれから容易に求めることができる。
あと直接試験槽１へ導かれていた乾燥空気が、ここでは
低露点飽和気体発生槽３に通され、露点が正確に分かっ
た、しかも任意に設定された露点の乾燥空気として、高
露点飽和気体発生槽を通過してきた空気と混合されるの
で、従来に比べ正確で安定した湿度発生を達成すること
ができる。例えば低露点飽和気体発生槽３において−６
０℃Ｄ．Ｐ．に設定すると、該槽３の出口からは−６０
℃の露点を有する乾燥空気が出て、高露点飽和気体発生
槽２からの飽和空気と混合される。なお槽２及び槽３を
通過する空気の流量は流量計Ｆ１、Ｆ２によって測定で
きるので、前述の相対湿度Ｈを求める式における分流比
γはこれから容易に求めることができる。
【００１８】前記装置を二温度法に基づいて目標湿度を
得るようにするためには、電磁弁ＳＶ１又はＳＶ２のい
ずれか一方を開け、他方は閉じたままとし、開けた方の
弁に対応する飽和槽２又は３のいずれかに乾燥空気を通
過させ、飽和気体としたのち試験槽１に導き、一方、試
験槽１は恒温槽１１中の液体１２の温度を制御すること
により導入されてくる飽和気体の温度と同等又はそれ以
上の所定温度としておき、それによって試験槽１に目標
の温度及び湿度を発生させることができる。
得るようにするためには、電磁弁ＳＶ１又はＳＶ２のい
ずれか一方を開け、他方は閉じたままとし、開けた方の
弁に対応する飽和槽２又は３のいずれかに乾燥空気を通
過させ、飽和気体としたのち試験槽１に導き、一方、試
験槽１は恒温槽１１中の液体１２の温度を制御すること
により導入されてくる飽和気体の温度と同等又はそれ以
上の所定温度としておき、それによって試験槽１に目標
の温度及び湿度を発生させることができる。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように本発明によると、第
１に、分流法に基づいて目標湿度を得ることができ、し
かも、従来分流法では目標湿度発生部へ直接導いていた
分流後の乾燥気体を低露点飽和気体発生槽を経て目標湿
度発生部へ導くことで、その露点を制御できるように
し、それによって正確で、安定した湿度発生を達成でき
る湿度発生装置が提供される。
１に、分流法に基づいて目標湿度を得ることができ、し
かも、従来分流法では目標湿度発生部へ直接導いていた
分流後の乾燥気体を低露点飽和気体発生槽を経て目標湿
度発生部へ導くことで、その露点を制御できるように
し、それによって正確で、安定した湿度発生を達成でき
る湿度発生装置が提供される。
【００２０】第２に、前記目標湿度発生部に、それへ導
く気体の温度を制御する手段を設けることで、分流法に
基づく湿度発生又は二温度法に基づく湿度発生を任意に
選択できるコンパクトな湿度発生装置を提供することが
できる。
く気体の温度を制御する手段を設けることで、分流法に
基づく湿度発生又は二温度法に基づく湿度発生を任意に
選択できるコンパクトな湿度発生装置を提供することが
できる。
【図１】本発明の一実施例の概略構成を示す図である。
【図２】分流法による従来装置例の説明図である。
【図３】二温度法による従来装置例の説明図である。
１ 試験槽（目標温度発生部） ２ 高露点飽和気体発生槽 ３ 低露点飽和気体発生槽 ４１〜４６ 配管 ＳＶ１、ＳＶ２ 電磁弁 Ｆ１、Ｆ２ 流量計
Claims (2)
- 【請求項１】 目標湿度発生部、高露点飽和気体発生
槽、低露点飽和気体発生槽、第１の流量制御手段、第２
の流量制御手段、乾燥気体を前記第１の流量制御手段を
経て前記高露点飽和気体発生槽へ導き、高露点飽和気体
として前記目標湿度発生部へ導く第１の気体通路、及び
乾燥気体を前記第２の流量制御手段を経て前記低露点飽
和気体発生槽へ導き、低露点飽和気体として前記目標湿
度発生部へ導く第２の気体通路を備えたことを特徴とす
る湿度発生装置。 - 【請求項２】 前記目標湿度発生部がそれに導入される
気体の温度を制御する手段を有している請求項１記載の
湿度発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3230601A JPH0571776A (ja) | 1991-09-10 | 1991-09-10 | 湿度発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3230601A JPH0571776A (ja) | 1991-09-10 | 1991-09-10 | 湿度発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0571776A true JPH0571776A (ja) | 1993-03-23 |
Family
ID=16910304
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3230601A Withdrawn JPH0571776A (ja) | 1991-09-10 | 1991-09-10 | 湿度発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0571776A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007101130A (ja) * | 2005-10-07 | 2007-04-19 | Shinshu Univ | ガス調湿装置 |
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| CN104503499A (zh) * | 2014-12-16 | 2015-04-08 | 中国科学院上海应用物理研究所 | 一种湿度控制系统 |
| KR101529468B1 (ko) * | 2013-12-31 | 2015-06-18 | 한국표준과학연구원 | 극저상점 습공기 발생장치 |
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| CN114047226A (zh) * | 2021-11-02 | 2022-02-15 | 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所 | 一种气体露点发生装置 |
-
1991
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