JPH0571776A - 湿度発生装置 - Google Patents
湿度発生装置Info
- Publication number
- JPH0571776A JPH0571776A JP3230601A JP23060191A JPH0571776A JP H0571776 A JPH0571776 A JP H0571776A JP 3230601 A JP3230601 A JP 3230601A JP 23060191 A JP23060191 A JP 23060191A JP H0571776 A JPH0571776 A JP H0571776A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 第1に、分流法に基づいて目標湿度を得るこ
とができ、しかも、従来分流法では目標湿度発生部へ直
接導いていた分流後の乾燥気体を低露点飽和気体発生槽
を経て目標湿度発生部へ導くことで、その露点を制御で
きるようにし、それによって正確で、安定した湿度発生
を達成できる湿度発生装置を提供する。第2に、分流法
に基づく湿度発生又は二温度法に基づく湿度発生を任意
に選択できる湿度発生装置を提供する。 【構成】 試験槽1、高露点飽和気体発生槽2、低露点
飽和気体発生槽3、第1の流量制御手段(弁SV1、流
量計F1)、第2の流量制御手段(弁SV2、流量計F
2)、乾燥空気を前記第1の流量制御を経て槽2へ導
き、高露点飽和気体として試験槽1へ導く管41、4
2、44、46、及び乾燥空気を前記第2の流量制御手
段を経て槽3へ導き、低露点飽和気体として試験槽1へ
導く管41、43、45、46を備えた湿度発生装置。
とができ、しかも、従来分流法では目標湿度発生部へ直
接導いていた分流後の乾燥気体を低露点飽和気体発生槽
を経て目標湿度発生部へ導くことで、その露点を制御で
きるようにし、それによって正確で、安定した湿度発生
を達成できる湿度発生装置を提供する。第2に、分流法
に基づく湿度発生又は二温度法に基づく湿度発生を任意
に選択できる湿度発生装置を提供する。 【構成】 試験槽1、高露点飽和気体発生槽2、低露点
飽和気体発生槽3、第1の流量制御手段(弁SV1、流
量計F1)、第2の流量制御手段(弁SV2、流量計F
2)、乾燥空気を前記第1の流量制御を経て槽2へ導
き、高露点飽和気体として試験槽1へ導く管41、4
2、44、46、及び乾燥空気を前記第2の流量制御手
段を経て槽3へ導き、低露点飽和気体として試験槽1へ
導く管41、43、45、46を備えた湿度発生装置。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は恒温恒湿器等の環境試験
装置その他湿度制御が要求される分野において目標とす
る湿度を得るための湿度発生装置に関する。
装置その他湿度制御が要求される分野において目標とす
る湿度を得るための湿度発生装置に関する。
【0002】
【従来の技術】目標とする湿度を発生させる方法に分流
法と二温度法があることは周知である。分流法による
と、図2に示すように、乾燥気体aが二つの流れに分け
られ、一方は所定温度に制御された水Wを収容した飽和
空気発生槽81に導かれ、ここで飽和空気となって目標
湿度発生槽82へ導かれ、他方は直接、槽82へ導か
れ、両者が混合されて槽82内へ導入されることで目標
湿度が得られる。そして、湿度発生槽82で得られる相
対湿度Hは、 H=100γ・Pt/〔Ps−(1−γ)es〕で表さ
れる。
法と二温度法があることは周知である。分流法による
と、図2に示すように、乾燥気体aが二つの流れに分け
られ、一方は所定温度に制御された水Wを収容した飽和
空気発生槽81に導かれ、ここで飽和空気となって目標
湿度発生槽82へ導かれ、他方は直接、槽82へ導か
れ、両者が混合されて槽82内へ導入されることで目標
湿度が得られる。そして、湿度発生槽82で得られる相
対湿度Hは、 H=100γ・Pt/〔Ps−(1−γ)es〕で表さ
れる。
【0003】但し、γ:分流比、Pt:槽82の気体の
全圧、Ps:槽81の気体の全圧、es:槽81の気体
における飽和水蒸気圧である。分流比γは、例えば、乾
燥気体aの分流後の各流量を流量計80で測定して得た
値の比で求められる。二温度法によると、図3に示すよ
うに、通常は、乾燥気体aが、所定温度に制御された水
Wを収容した飽和空気発生槽83に導かれ、ここで所定
温度の飽和空気となり、その後、これと同温度又はこれ
より高温の所定温度に例えば恒温槽85にて制御された
目標湿度発生槽84へ導かれ、ここで目標とする温度、
湿度が得られる。
全圧、Ps:槽81の気体の全圧、es:槽81の気体
における飽和水蒸気圧である。分流比γは、例えば、乾
燥気体aの分流後の各流量を流量計80で測定して得た
値の比で求められる。二温度法によると、図3に示すよ
うに、通常は、乾燥気体aが、所定温度に制御された水
Wを収容した飽和空気発生槽83に導かれ、ここで所定
温度の飽和空気となり、その後、これと同温度又はこれ
より高温の所定温度に例えば恒温槽85にて制御された
目標湿度発生槽84へ導かれ、ここで目標とする温度、
湿度が得られる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前記分流法に
よると、使用される乾燥気体aは、その相対湿度が0%
RH又は限り無く0%RHに近いことが前提とされ、例
えば露点温度に換算して乾球温度20℃で、−50℃
D.P.の定露点を有する乾燥気体が考えられる。とこ
ろが、このような乾燥気体を発生させる従来装置は、通
常、使用時間とともにその機能が低下する乾燥剤を用い
ているため、発生する乾燥気体の露点が時間と共に変化
し、数十時間使用すると、一定の露点を有する乾燥気体
を得られなくなるのが実情であり、従って、分流法で要
求される定露点の乾燥気体が発生している保証がない。
よると、使用される乾燥気体aは、その相対湿度が0%
RH又は限り無く0%RHに近いことが前提とされ、例
えば露点温度に換算して乾球温度20℃で、−50℃
D.P.の定露点を有する乾燥気体が考えられる。とこ
ろが、このような乾燥気体を発生させる従来装置は、通
常、使用時間とともにその機能が低下する乾燥剤を用い
ているため、発生する乾燥気体の露点が時間と共に変化
し、数十時間使用すると、一定の露点を有する乾燥気体
を得られなくなるのが実情であり、従って、分流法で要
求される定露点の乾燥気体が発生している保証がない。
【0005】例えば、当初、−60℃D.P.の露点の
乾燥空気が発生していたところ、これが、−33.5℃
D.P.の空気しか発生しなくなったとすると、例えば
5℃において相対湿度が3%上がってしまい、用をなさ
ない。この問題を解決する手段として、乾燥剤を使用し
た乾燥気体発生装置を2組用い、露点計等で露点を確認
して使用装置を切り換える等が考えられるが、装置が大
型化し、コスト高につくという問題がある。
乾燥空気が発生していたところ、これが、−33.5℃
D.P.の空気しか発生しなくなったとすると、例えば
5℃において相対湿度が3%上がってしまい、用をなさ
ない。この問題を解決する手段として、乾燥剤を使用し
た乾燥気体発生装置を2組用い、露点計等で露点を確認
して使用装置を切り換える等が考えられるが、装置が大
型化し、コスト高につくという問題がある。
【0006】また、別の問題として、従来の湿度発生装
置は、前記分流法又は二温度法を原理とするもので、各
法の利点を生かすため、両法を使い分けるということが
できない。なお、分流法によると、二温度法に比べて速
く任意の湿度が得られるので、ある特定の温度での相対
湿度を手軽く得るのに適している。
置は、前記分流法又は二温度法を原理とするもので、各
法の利点を生かすため、両法を使い分けるということが
できない。なお、分流法によると、二温度法に比べて速
く任意の湿度が得られるので、ある特定の温度での相対
湿度を手軽く得るのに適している。
【0007】また、二温度法によると、分流法よりも高
精度で目標湿度が得られ、湿度センサ等の各種湿度装置
の校正等に適している。そこで本発明は、第1に、分流
法に基づいて目標湿度を得ることができ、しかも、従来
分流法では目標湿度発生部へ直接導いていた分流後の乾
燥気体を低露点飽和気体発生槽を経て目標湿度発生部へ
導くことで、その露点を制御できるようにし、それによ
って正確で、安定した湿度発生を達成できる湿度発生装
置を提供することを目的とする。
精度で目標湿度が得られ、湿度センサ等の各種湿度装置
の校正等に適している。そこで本発明は、第1に、分流
法に基づいて目標湿度を得ることができ、しかも、従来
分流法では目標湿度発生部へ直接導いていた分流後の乾
燥気体を低露点飽和気体発生槽を経て目標湿度発生部へ
導くことで、その露点を制御できるようにし、それによ
って正確で、安定した湿度発生を達成できる湿度発生装
置を提供することを目的とする。
【0008】本発明は、第2に、分流法に基づく湿度発
生又は二温度法に基づく湿度発生を任意に選択できる湿
度発生装置を提供することを目的とする。
生又は二温度法に基づく湿度発生を任意に選択できる湿
度発生装置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は前記第1の目的
に従い、目標湿度発生部、高露点飽和気体発生槽、低露
点飽和気体発生槽、第1の流量制御手段、第2の流量制
御手段、乾燥気体を前記第1の流量制御手段を経て前記
高露点飽和気体発生槽へ導き、高露点飽和気体として前
記目標湿度発生部へ導く第1の気体通路、及び乾燥気体
を前記第2の流量制御手段を経て前記低露点飽和気体発
生槽へ導き、低露点飽和気体として前記目標湿度発生部
へ導く第2の気体通路を備えたことを特徴とする湿度発
生装置を提供するものである。
に従い、目標湿度発生部、高露点飽和気体発生槽、低露
点飽和気体発生槽、第1の流量制御手段、第2の流量制
御手段、乾燥気体を前記第1の流量制御手段を経て前記
高露点飽和気体発生槽へ導き、高露点飽和気体として前
記目標湿度発生部へ導く第1の気体通路、及び乾燥気体
を前記第2の流量制御手段を経て前記低露点飽和気体発
生槽へ導き、低露点飽和気体として前記目標湿度発生部
へ導く第2の気体通路を備えたことを特徴とする湿度発
生装置を提供するものである。
【0010】また、本発明は前記第2の目的に従い、前
記目標湿度発生部が、それに導入される気体の温度を制
御する手段を有している湿度発生装置を提供するもので
ある。前記第1及び第2の流量制御手段は種々考えられ
るが、代表例として、開度調節可能の弁と流量計の組み
合わせを挙げることができる。
記目標湿度発生部が、それに導入される気体の温度を制
御する手段を有している湿度発生装置を提供するもので
ある。前記第1及び第2の流量制御手段は種々考えられ
るが、代表例として、開度調節可能の弁と流量計の組み
合わせを挙げることができる。
【0011】
【作用】本発明湿度発生装置によると、乾燥気体が第1
の流量制御手段により予め定めた流量に制御されて低露
点飽和気体発生槽に導かれ、ここで低露点飽和気体とな
って目標湿度発生部へ導かれる。また同時に、同じ乾燥
気体が第2の流量制御手段によって流量制御された状態
で高露点気体発生槽に導かれ、ここで高露点飽和気体と
なって目標湿度発生部へ導かれる。両者は混合された状
態で目標湿度発生部へ流入し、ここで目標の湿度が得ら
れる。
の流量制御手段により予め定めた流量に制御されて低露
点飽和気体発生槽に導かれ、ここで低露点飽和気体とな
って目標湿度発生部へ導かれる。また同時に、同じ乾燥
気体が第2の流量制御手段によって流量制御された状態
で高露点気体発生槽に導かれ、ここで高露点飽和気体と
なって目標湿度発生部へ導かれる。両者は混合された状
態で目標湿度発生部へ流入し、ここで目標の湿度が得ら
れる。
【0012】また、前記目標湿度発生部が該槽内に導入
される気体の温度を制御する手段を有しているときに
は、前述のように低露点飽和気体発生槽及び高露点飽和
気体発生槽の両者を用いて分流法により目標の湿度を得
ることもできるが、乾燥気体を高露点飽和気体発生槽又
は低露点飽和気体発生槽のいずれかに流して所定露点の
飽和気体としたうえ目標湿度発生部へ導き、一方、目標
湿度発生部を前記温度制御手段により予め導入されてく
る飽和気体の温度と同等又はそれ以上の所定の温度に制
御しておき、それによって該目標湿度発生部において目
標とする温度及び湿度が得られる。
される気体の温度を制御する手段を有しているときに
は、前述のように低露点飽和気体発生槽及び高露点飽和
気体発生槽の両者を用いて分流法により目標の湿度を得
ることもできるが、乾燥気体を高露点飽和気体発生槽又
は低露点飽和気体発生槽のいずれかに流して所定露点の
飽和気体としたうえ目標湿度発生部へ導き、一方、目標
湿度発生部を前記温度制御手段により予め導入されてく
る飽和気体の温度と同等又はそれ以上の所定の温度に制
御しておき、それによって該目標湿度発生部において目
標とする温度及び湿度が得られる。
【0013】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。図1は一実施例の概略構成を示している。この湿
度発生装置は、目標温度発生部である試験槽1を備えて
いる。この試験槽1は恒温槽11中に納められており、
試験槽1の周囲には液体12が満たされている。この液
体12は恒温槽11内に設置した加熱器及び冷却器を含
む温度制御装置13により所定温度に制御可能である。
する。図1は一実施例の概略構成を示している。この湿
度発生装置は、目標温度発生部である試験槽1を備えて
いる。この試験槽1は恒温槽11中に納められており、
試験槽1の周囲には液体12が満たされている。この液
体12は恒温槽11内に設置した加熱器及び冷却器を含
む温度制御装置13により所定温度に制御可能である。
【0014】また図示の湿度発生装置は、高露点飽和気
体発生槽2及び低露点飽和気体発生槽3を備えており、
槽2は恒温槽21内に設置され、該恒温槽21内に収容
した液体22を該槽内の温度制御装置23で温度制御す
ることにより、高露点飽和気体発生槽2内の蒸留水W1
を所定の温度に制御することができる。また低露点飽和
気体発生槽3も恒温槽31に納められており、該槽内に
収容した液体32を該槽内に付設した温度制御装置33
で温度制御することにより、低露点飽和気体発生槽3内
に収容した蒸留水W2を所定温度の氷に氷結させること
ができる。
体発生槽2及び低露点飽和気体発生槽3を備えており、
槽2は恒温槽21内に設置され、該恒温槽21内に収容
した液体22を該槽内の温度制御装置23で温度制御す
ることにより、高露点飽和気体発生槽2内の蒸留水W1
を所定の温度に制御することができる。また低露点飽和
気体発生槽3も恒温槽31に納められており、該槽内に
収容した液体32を該槽内に付設した温度制御装置33
で温度制御することにより、低露点飽和気体発生槽3内
に収容した蒸留水W2を所定温度の氷に氷結させること
ができる。
【0015】さらに、乾燥空気発生装置4が設けられて
おり、ここで発生した乾燥空気Aが配管41及びこれか
ら分岐した配管42により槽2の液相部に接続されてい
るとともに、配管41から分岐した配管43によって槽
3の気相部に接続されている。また、槽2の気相部は配
管44により、槽3の気相部は配管45を経て一つの配
管46に合流し、該配管46は試験槽1に接続されてい
る。
おり、ここで発生した乾燥空気Aが配管41及びこれか
ら分岐した配管42により槽2の液相部に接続されてい
るとともに、配管41から分岐した配管43によって槽
3の気相部に接続されている。また、槽2の気相部は配
管44により、槽3の気相部は配管45を経て一つの配
管46に合流し、該配管46は試験槽1に接続されてい
る。
【0016】前記配管42にはその途中に電磁弁SV1
及び流量計F1が接続されているとともに、配管43中
には電磁弁SV2及び流量計F2が接続されている。以
上説明した湿度発生装置によると、分流法又は二温度法
に基づいて試験槽1に目標湿度を発生させることができ
る。まず分流法に基づく湿度発生について説明すると、
乾燥空気発生装置4で発生した乾燥空気Aを電磁弁SV
1の開度を調節して開き、且つ、流量計F1で所定流量
であることを確認しつつ高露点飽和気体発生槽2に導
き、ここで所定温度の水に接触させて高露点飽和気体と
したのち試験槽1に導く一方、電磁弁SV2の開度を加
減して開き、且つ、流量計F2で所定流量であることを
確認しつつ乾燥空気Aを低露点飽和気体発生槽3へ導
き、ここの氷に接触させて低露点飽和気体としたのち試
験槽1へ導く。高露点飽和気体発生槽2及び低露点飽和
気体発生槽3から試験槽1へ導かれる両気体は途中合流
して混合され、目標の湿度の状態となって試験槽1に流
入する。
及び流量計F1が接続されているとともに、配管43中
には電磁弁SV2及び流量計F2が接続されている。以
上説明した湿度発生装置によると、分流法又は二温度法
に基づいて試験槽1に目標湿度を発生させることができ
る。まず分流法に基づく湿度発生について説明すると、
乾燥空気発生装置4で発生した乾燥空気Aを電磁弁SV
1の開度を調節して開き、且つ、流量計F1で所定流量
であることを確認しつつ高露点飽和気体発生槽2に導
き、ここで所定温度の水に接触させて高露点飽和気体と
したのち試験槽1に導く一方、電磁弁SV2の開度を加
減して開き、且つ、流量計F2で所定流量であることを
確認しつつ乾燥空気Aを低露点飽和気体発生槽3へ導
き、ここの氷に接触させて低露点飽和気体としたのち試
験槽1へ導く。高露点飽和気体発生槽2及び低露点飽和
気体発生槽3から試験槽1へ導かれる両気体は途中合流
して混合され、目標の湿度の状態となって試験槽1に流
入する。
【0017】この装置によると、従来ならば分流された
あと直接試験槽1へ導かれていた乾燥空気が、ここでは
低露点飽和気体発生槽3に通され、露点が正確に分かっ
た、しかも任意に設定された露点の乾燥空気として、高
露点飽和気体発生槽を通過してきた空気と混合されるの
で、従来に比べ正確で安定した湿度発生を達成すること
ができる。例えば低露点飽和気体発生槽3において−6
0℃D.P.に設定すると、該槽3の出口からは−60
℃の露点を有する乾燥空気が出て、高露点飽和気体発生
槽2からの飽和空気と混合される。なお槽2及び槽3を
通過する空気の流量は流量計F1、F2によって測定で
きるので、前述の相対湿度Hを求める式における分流比
γはこれから容易に求めることができる。
あと直接試験槽1へ導かれていた乾燥空気が、ここでは
低露点飽和気体発生槽3に通され、露点が正確に分かっ
た、しかも任意に設定された露点の乾燥空気として、高
露点飽和気体発生槽を通過してきた空気と混合されるの
で、従来に比べ正確で安定した湿度発生を達成すること
ができる。例えば低露点飽和気体発生槽3において−6
0℃D.P.に設定すると、該槽3の出口からは−60
℃の露点を有する乾燥空気が出て、高露点飽和気体発生
槽2からの飽和空気と混合される。なお槽2及び槽3を
通過する空気の流量は流量計F1、F2によって測定で
きるので、前述の相対湿度Hを求める式における分流比
γはこれから容易に求めることができる。
【0018】前記装置を二温度法に基づいて目標湿度を
得るようにするためには、電磁弁SV1又はSV2のい
ずれか一方を開け、他方は閉じたままとし、開けた方の
弁に対応する飽和槽2又は3のいずれかに乾燥空気を通
過させ、飽和気体としたのち試験槽1に導き、一方、試
験槽1は恒温槽11中の液体12の温度を制御すること
により導入されてくる飽和気体の温度と同等又はそれ以
上の所定温度としておき、それによって試験槽1に目標
の温度及び湿度を発生させることができる。
得るようにするためには、電磁弁SV1又はSV2のい
ずれか一方を開け、他方は閉じたままとし、開けた方の
弁に対応する飽和槽2又は3のいずれかに乾燥空気を通
過させ、飽和気体としたのち試験槽1に導き、一方、試
験槽1は恒温槽11中の液体12の温度を制御すること
により導入されてくる飽和気体の温度と同等又はそれ以
上の所定温度としておき、それによって試験槽1に目標
の温度及び湿度を発生させることができる。
【0019】
【発明の効果】以上説明したように本発明によると、第
1に、分流法に基づいて目標湿度を得ることができ、し
かも、従来分流法では目標湿度発生部へ直接導いていた
分流後の乾燥気体を低露点飽和気体発生槽を経て目標湿
度発生部へ導くことで、その露点を制御できるように
し、それによって正確で、安定した湿度発生を達成でき
る湿度発生装置が提供される。
1に、分流法に基づいて目標湿度を得ることができ、し
かも、従来分流法では目標湿度発生部へ直接導いていた
分流後の乾燥気体を低露点飽和気体発生槽を経て目標湿
度発生部へ導くことで、その露点を制御できるように
し、それによって正確で、安定した湿度発生を達成でき
る湿度発生装置が提供される。
【0020】第2に、前記目標湿度発生部に、それへ導
く気体の温度を制御する手段を設けることで、分流法に
基づく湿度発生又は二温度法に基づく湿度発生を任意に
選択できるコンパクトな湿度発生装置を提供することが
できる。
く気体の温度を制御する手段を設けることで、分流法に
基づく湿度発生又は二温度法に基づく湿度発生を任意に
選択できるコンパクトな湿度発生装置を提供することが
できる。
【図1】本発明の一実施例の概略構成を示す図である。
【図2】分流法による従来装置例の説明図である。
【図3】二温度法による従来装置例の説明図である。
1 試験槽(目標温度発生部) 2 高露点飽和気体発生槽 3 低露点飽和気体発生槽 41〜46 配管 SV1、SV2 電磁弁 F1、F2 流量計
Claims (2)
- 【請求項1】 目標湿度発生部、高露点飽和気体発生
槽、低露点飽和気体発生槽、第1の流量制御手段、第2
の流量制御手段、乾燥気体を前記第1の流量制御手段を
経て前記高露点飽和気体発生槽へ導き、高露点飽和気体
として前記目標湿度発生部へ導く第1の気体通路、及び
乾燥気体を前記第2の流量制御手段を経て前記低露点飽
和気体発生槽へ導き、低露点飽和気体として前記目標湿
度発生部へ導く第2の気体通路を備えたことを特徴とす
る湿度発生装置。 - 【請求項2】 前記目標湿度発生部がそれに導入される
気体の温度を制御する手段を有している請求項1記載の
湿度発生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3230601A JPH0571776A (ja) | 1991-09-10 | 1991-09-10 | 湿度発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3230601A JPH0571776A (ja) | 1991-09-10 | 1991-09-10 | 湿度発生装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0571776A true JPH0571776A (ja) | 1993-03-23 |
Family
ID=16910304
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3230601A Withdrawn JPH0571776A (ja) | 1991-09-10 | 1991-09-10 | 湿度発生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0571776A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007101130A (ja) * | 2005-10-07 | 2007-04-19 | Shinshu Univ | ガス調湿装置 |
JP2008275185A (ja) * | 2007-04-25 | 2008-11-13 | Taiyo Nippon Sanso Corp | 加湿ガス供給方法 |
CN104503499A (zh) * | 2014-12-16 | 2015-04-08 | 中国科学院上海应用物理研究所 | 一种湿度控制系统 |
KR101529468B1 (ko) * | 2013-12-31 | 2015-06-18 | 한국표준과학연구원 | 극저상점 습공기 발생장치 |
CN108508945A (zh) * | 2018-05-02 | 2018-09-07 | 郑州迪邦科技有限公司 | 饱和湿度发生装置 |
CN109358662A (zh) * | 2018-10-29 | 2019-02-19 | 北京航空航天大学 | 一种高低温舱室低露点控制系统及方法 |
CN114047226A (zh) * | 2021-11-02 | 2022-02-15 | 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所 | 一种气体露点发生装置 |
-
1991
- 1991-09-10 JP JP3230601A patent/JPH0571776A/ja not_active Withdrawn
Cited By (9)
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