JPH0568942A - 反射鏡の製造方法 - Google Patents
反射鏡の製造方法Info
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- JPH0568942A JPH0568942A JP3234347A JP23434791A JPH0568942A JP H0568942 A JPH0568942 A JP H0568942A JP 3234347 A JP3234347 A JP 3234347A JP 23434791 A JP23434791 A JP 23434791A JP H0568942 A JPH0568942 A JP H0568942A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 低温での焼き付けにより耐熱性、耐候性等に
優れた保護膜を反射鏡に施す。また、耐熱性があり、か
つ、反射特性、特に拡散反射率に優れた多層コーティン
グ反射鏡を得る。 【構成】 保護膜、または、多層コーティング反射鏡の
下地層を、下記のＡ成分、Ｂ成分およびＣ成分を、Ａ成
分の比率がＡとＢの合計１００重量部に対して１〜９９
重量部となるように混合して調製されたコーティング材
で形成する。 （Ａ）加水分解性オルガノシランを部分加水分解してな
る、オルガノシランのシリカ分散オリゴマー溶液。 （Ｂ）シラノール基含有ポリオルガノシロキサン。 （Ｃ）触媒。
優れた保護膜を反射鏡に施す。また、耐熱性があり、か
つ、反射特性、特に拡散反射率に優れた多層コーティン
グ反射鏡を得る。 【構成】 保護膜、または、多層コーティング反射鏡の
下地層を、下記のＡ成分、Ｂ成分およびＣ成分を、Ａ成
分の比率がＡとＢの合計１００重量部に対して１〜９９
重量部となるように混合して調製されたコーティング材
で形成する。 （Ａ）加水分解性オルガノシランを部分加水分解してな
る、オルガノシランのシリカ分散オリゴマー溶液。 （Ｂ）シラノール基含有ポリオルガノシロキサン。 （Ｃ）触媒。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、照明器具の反射板な
どとして用いられる反射鏡を製造する方法に関する。
どとして用いられる反射鏡を製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、屋外用照明反射板等に用いられる
反射鏡には、鉄、アルミニウム、ステンレス、強化プラ
スチック等が用いられているが、いずれも屋外で使用さ
れるため、耐食性、耐傷性に欠点があった。このため、
反射板表面を有機系塗料で被覆することが試みられてき
たが、塗膜自体に耐熱性、耐候性、耐食性がないため十
分な性能が得られなかった。そこで、それを改良するた
め、たとえば、特開昭６０−５１５７７号公報や特
開昭６２−８９７７５号公報ではアルカリ金属けい酸塩
を主成分とする無機塗料による被覆が試みられている。
反射鏡には、鉄、アルミニウム、ステンレス、強化プラ
スチック等が用いられているが、いずれも屋外で使用さ
れるため、耐食性、耐傷性に欠点があった。このため、
反射板表面を有機系塗料で被覆することが試みられてき
たが、塗膜自体に耐熱性、耐候性、耐食性がないため十
分な性能が得られなかった。そこで、それを改良するた
め、たとえば、特開昭６０−５１５７７号公報や特
開昭６２−８９７７５号公報ではアルカリ金属けい酸塩
を主成分とする無機塗料による被覆が試みられている。
【０００３】他方、屋外スポーツ照明、工場照明、道路
照明、広場照明等のＨＩＤ光源の照明器具の反射鏡に
は、高い鏡面性（反射率）および高温（ランプの輻射熱
による）に耐え得ること、ならびに、湿気、腐食性ガス
に対する耐性の良いことが求められる。このような要求
を満足させ、さらに反射鏡の反射率を上げるために、金
属基材の表面に耐熱樹脂を焼付けて表面を平滑にし、そ
の上にＡｌのような光輝性金属およびＳｉＯ2 のような
酸化物被膜を順次蒸着した多層コーティング反射板が考
えられた。特に、近年照明器具のランプの出力が増加す
るにつれて、反射板に対して２００℃以上のより高い耐
熱性が要求されてくるようになると、下地層の樹脂に
は、従来の耐熱性のない有機系塗料は使用できなくなっ
てきた。そこで、耐熱性がある多層コーティング反射板
用下地塗料が特開昭５９−９８８４２号公報などで提
案されている。また、さらに耐熱性を向上させるため、
特開平２−１６０３０５号公報のように、けい素アル
コキシドを主成分とする無機系コーティング材が提案さ
れている。
照明、広場照明等のＨＩＤ光源の照明器具の反射鏡に
は、高い鏡面性（反射率）および高温（ランプの輻射熱
による）に耐え得ること、ならびに、湿気、腐食性ガス
に対する耐性の良いことが求められる。このような要求
を満足させ、さらに反射鏡の反射率を上げるために、金
属基材の表面に耐熱樹脂を焼付けて表面を平滑にし、そ
の上にＡｌのような光輝性金属およびＳｉＯ2 のような
酸化物被膜を順次蒸着した多層コーティング反射板が考
えられた。特に、近年照明器具のランプの出力が増加す
るにつれて、反射板に対して２００℃以上のより高い耐
熱性が要求されてくるようになると、下地層の樹脂に
は、従来の耐熱性のない有機系塗料は使用できなくなっ
てきた。そこで、耐熱性がある多層コーティング反射板
用下地塗料が特開昭５９−９８８４２号公報などで提
案されている。また、さらに耐熱性を向上させるため、
特開平２−１６０３０５号公報のように、けい素アル
コキシドを主成分とする無機系コーティング材が提案さ
れている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】アルカリ金属けい酸塩
を主成分とする塗料では、どうしても塗膜中にアルカリ
金属が残ってしまい、それが長期的な実用試験で白華現
象を起こしてしまう。上記公報、では、それを改良
するため硝酸溶液による後処理が提案されているが、そ
の処理をもってしても塗膜中のアルカリ金属は完全には
なくならず、工程も複雑になるという欠点がある。しか
も、アルカリ金属けい酸塩を主成分とする塗料では、焼
き付け温度も２００℃以上の高温を必要とするためエネ
ルギーコストの上昇という問題があった。
を主成分とする塗料では、どうしても塗膜中にアルカリ
金属が残ってしまい、それが長期的な実用試験で白華現
象を起こしてしまう。上記公報、では、それを改良
するため硝酸溶液による後処理が提案されているが、そ
の処理をもってしても塗膜中のアルカリ金属は完全には
なくならず、工程も複雑になるという欠点がある。しか
も、アルカリ金属けい酸塩を主成分とする塗料では、焼
き付け温度も２００℃以上の高温を必要とするためエネ
ルギーコストの上昇という問題があった。
【０００５】そこで、この発明は、耐熱性、耐候性等に
優れた保護膜を反射鏡に施し、しかも焼き付けを１２０
℃以下の低温で行うことができる反射鏡の製造方法を提
供することを第１の課題とする。上記公報で提案され
た下地塗料を下地層に用いた場合、主成分が熱硬化型ア
クリル系であるため、２００〜３００℃で熱劣化が起こ
り、また、拡散反射率が高いため反射特性が悪い。上記
公報のように、けい素アルコキシドを主成分とする無
機系コーティング材の場合、耐熱性はあるものの、まだ
若干拡散反射率が高く、反射特性上十分満足できるもの
ではなかった。
優れた保護膜を反射鏡に施し、しかも焼き付けを１２０
℃以下の低温で行うことができる反射鏡の製造方法を提
供することを第１の課題とする。上記公報で提案され
た下地塗料を下地層に用いた場合、主成分が熱硬化型ア
クリル系であるため、２００〜３００℃で熱劣化が起こ
り、また、拡散反射率が高いため反射特性が悪い。上記
公報のように、けい素アルコキシドを主成分とする無
機系コーティング材の場合、耐熱性はあるものの、まだ
若干拡散反射率が高く、反射特性上十分満足できるもの
ではなかった。
【０００６】そこで、この発明は、前記したような多層
コーティング反射鏡の下地層を改良することによって、
耐熱性があり、かつ、反射特性、特に拡散反射率に優れ
た反射鏡の製造方法を提供することを第２の課題とす
る。
コーティング反射鏡の下地層を改良することによって、
耐熱性があり、かつ、反射特性、特に拡散反射率に優れ
た反射鏡の製造方法を提供することを第２の課題とす
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記第１の課題を解決す
るため、この発明の反射鏡の製造方法は、基体の表面
に、下記のように調製されたコーティング材を用いて保
護膜を形成する。上記第２の課題を解決するため、この
発明の反射鏡の製造方法（以下、この製造方法を「多層
コーティング反射鏡の製造方法」ということがある）
は、基体の表面に下地層、この下地層の上に光輝性金属
層、この光輝性金属層の上に無機化合物保護被膜層をと
順次形成する反射鏡の製造方法において、下地層を、下
記のように調製されたコーティング材を用いて形成す
る。
るため、この発明の反射鏡の製造方法は、基体の表面
に、下記のように調製されたコーティング材を用いて保
護膜を形成する。上記第２の課題を解決するため、この
発明の反射鏡の製造方法（以下、この製造方法を「多層
コーティング反射鏡の製造方法」ということがある）
は、基体の表面に下地層、この下地層の上に光輝性金属
層、この光輝性金属層の上に無機化合物保護被膜層をと
順次形成する反射鏡の製造方法において、下地層を、下
記のように調製されたコーティング材を用いて形成す
る。
【０００８】すなわち、この発明で用いるコーティング
材は、下記のＡ成分、Ｂ成分およびＣ成分を、Ａ成分と
Ｂ成分の比率がＡ成分１〜９９重量部に対してＢ成分９
９〜１重量部（Ａ成分とＢ成分の合計１００重量部）と
なるように混合して調製されたものである。 （Ａ）一般式 Ｒ1 n ＳｉＸ4-n …（Ｉ） 〔式中、Ｒ1 は同一または異種の置換もしくは非置換の
炭素数１〜８の１価炭化水素基を示し、ｎは０〜３の整
数、Ｘは加水分解性基を示す。〕で表され、少なくとも
５０モル％がｎ＝１のオルガノシランである加水分解性
オルガノシランを有機溶媒または水に分散されたコロイ
ダルシリカ中で上記加水分解性基（Ｘ）１モルに対し水
０．００１〜０．５モルを使用する条件下で部分加水分
解してなり、シリカを固形分として５〜９５重量％含有
するオルガノシランのシリカ分散オリゴマー溶液。 （Ｂ）平均組成式 Ｒ2 a Ｓｉ（ＯＨ）b Ｏ(4-a-b)/2 …（II） 〔式中、Ｒ2 は同一または異種の置換もしくは非置換の
炭素数１〜８の１価炭化水素基を示し、ａおよびｂはそ
れぞれ０．２≦ａ≦２、０．０００１≦ｂ≦３、ａ＋ｂ
＜４の関係を満たす数である。〕で表される、分子中に
シラノール基を含有するポリオルガノシロキサン。 （Ｃ）触媒。
材は、下記のＡ成分、Ｂ成分およびＣ成分を、Ａ成分と
Ｂ成分の比率がＡ成分１〜９９重量部に対してＢ成分９
９〜１重量部（Ａ成分とＢ成分の合計１００重量部）と
なるように混合して調製されたものである。 （Ａ）一般式 Ｒ1 n ＳｉＸ4-n …（Ｉ） 〔式中、Ｒ1 は同一または異種の置換もしくは非置換の
炭素数１〜８の１価炭化水素基を示し、ｎは０〜３の整
数、Ｘは加水分解性基を示す。〕で表され、少なくとも
５０モル％がｎ＝１のオルガノシランである加水分解性
オルガノシランを有機溶媒または水に分散されたコロイ
ダルシリカ中で上記加水分解性基（Ｘ）１モルに対し水
０．００１〜０．５モルを使用する条件下で部分加水分
解してなり、シリカを固形分として５〜９５重量％含有
するオルガノシランのシリカ分散オリゴマー溶液。 （Ｂ）平均組成式 Ｒ2 a Ｓｉ（ＯＨ）b Ｏ(4-a-b)/2 …（II） 〔式中、Ｒ2 は同一または異種の置換もしくは非置換の
炭素数１〜８の１価炭化水素基を示し、ａおよびｂはそ
れぞれ０．２≦ａ≦２、０．０００１≦ｂ≦３、ａ＋ｂ
＜４の関係を満たす数である。〕で表される、分子中に
シラノール基を含有するポリオルガノシロキサン。 （Ｃ）触媒。
【０００９】この発明で用いられるＡ成分のシリカ分散
オリゴマーは被膜形成に際して、硬化反応に預かる官能
性基としての加水分解性基（Ｘ）を有するベースポリマ
ーの主成分である。これは有機溶媒または水に分散され
たコロイダルシリカに、一般式（Ｉ）で表される加水分
解性基含有オルガノシランの１種または２種以上を加
え、コロイダルシリカ中の水あるいは別途添加された水
で、該加水分解性オルガノシランを部分加水分解するこ
とで得られる。
オリゴマーは被膜形成に際して、硬化反応に預かる官能
性基としての加水分解性基（Ｘ）を有するベースポリマ
ーの主成分である。これは有機溶媒または水に分散され
たコロイダルシリカに、一般式（Ｉ）で表される加水分
解性基含有オルガノシランの１種または２種以上を加
え、コロイダルシリカ中の水あるいは別途添加された水
で、該加水分解性オルガノシランを部分加水分解するこ
とで得られる。
【００１０】一般式（Ｉ）で表される加水分解性基含有
オルガノシラン中のＲ1 は炭素数１〜８の置換または非
置換の１価の炭化水素基を示し、たとえば、メチル基、
エチル、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基などのアルキル基；シクロ
ペンチル基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル
基；２−フェニルエチル基、３−フェニルプロピル基な
どのアラルキル基；フェニル基、トリル基などのような
アリール基；ビニル基、アリル基などのようなアルケニ
ル基；クロロメチル基、γ−クロロプロピル基、３，
３，３−トリフルオロプロピル基などのようなハロゲン
置換炭化水素基；および、γ−メタクリロキシプロピル
基、γ−グリシドキシプロピル基、３，４−エポキシシ
クロヘキシルエチル基、γ−メルカプトプロピル基など
の置換炭化水素を例示することができる。これらの中で
も合成の容易さ、あるいは入手の容易さから炭素数１〜
４のアルキル基およびフェニル基が好ましい。加水分解
性基Ｘとしては、アルコキシ基、アセトキシ基、オキシ
ム基、エノキシ基、アミノ基、アミノキシ基、アミド基
などが挙げられる。入手の容易さおよびシリカ分散オリ
ゴマー溶液を調製しやすいことからアルコキシ基が好ま
しい。
オルガノシラン中のＲ1 は炭素数１〜８の置換または非
置換の１価の炭化水素基を示し、たとえば、メチル基、
エチル、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基などのアルキル基；シクロ
ペンチル基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル
基；２−フェニルエチル基、３−フェニルプロピル基な
どのアラルキル基；フェニル基、トリル基などのような
アリール基；ビニル基、アリル基などのようなアルケニ
ル基；クロロメチル基、γ−クロロプロピル基、３，
３，３−トリフルオロプロピル基などのようなハロゲン
置換炭化水素基；および、γ−メタクリロキシプロピル
基、γ−グリシドキシプロピル基、３，４−エポキシシ
クロヘキシルエチル基、γ−メルカプトプロピル基など
の置換炭化水素を例示することができる。これらの中で
も合成の容易さ、あるいは入手の容易さから炭素数１〜
４のアルキル基およびフェニル基が好ましい。加水分解
性基Ｘとしては、アルコキシ基、アセトキシ基、オキシ
ム基、エノキシ基、アミノ基、アミノキシ基、アミド基
などが挙げられる。入手の容易さおよびシリカ分散オリ
ゴマー溶液を調製しやすいことからアルコキシ基が好ま
しい。
【００１１】このような加水分解性基含有オルガノシラ
ンとしては、一般式（Ｉ）中のｎが０〜３の整数である
モノ−、ジ−、トリ−、テトラ−の各官能性のアルコキ
シシラン類、アセトキシシラン類、オキシムシラン類、
エノキシシラン類、アミノシラン類、アミノキシシラン
類、アミドシラン類などが挙げられる。入手の容易さお
よびシリカ分散オルガノシランオリゴマー溶液を調製し
やすいことからアルコキシシラン類が好ましい。
ンとしては、一般式（Ｉ）中のｎが０〜３の整数である
モノ−、ジ−、トリ−、テトラ−の各官能性のアルコキ
シシラン類、アセトキシシラン類、オキシムシラン類、
エノキシシラン類、アミノシラン類、アミノキシシラン
類、アミドシラン類などが挙げられる。入手の容易さお
よびシリカ分散オルガノシランオリゴマー溶液を調製し
やすいことからアルコキシシラン類が好ましい。
【００１２】特に、ｎ＝０のテトラアルコキシシランと
してはテトラメトキシシラン、テトラエトキシシランな
どが例示でき、ｎ＝１のオルガノトリアルコキシシラン
としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエト
キシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、フェニ
ルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、
３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン
などが例示できる。また、ｎ＝２のジオルガノジアルコ
キシシランとしては、ジメチルジメトキシシラン、ジメ
チルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、
ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキ
シシランなどが例示でき、ｎ＝３のトリオルガノアルコ
キシシランとしてはトリメチルメトキシシラン、トリメ
チルエトキシシラン、トリメチルイソプロポキシシラ
ン、ジメチルイソブチルメトキシシランなどが例示でき
る。さらに、一般にシランカップリング剤とよばれるオ
ルガノシラン化合物もアルコキシシラン類に含まれる。
してはテトラメトキシシラン、テトラエトキシシランな
どが例示でき、ｎ＝１のオルガノトリアルコキシシラン
としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエト
キシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、フェニ
ルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、
３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン
などが例示できる。また、ｎ＝２のジオルガノジアルコ
キシシランとしては、ジメチルジメトキシシラン、ジメ
チルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、
ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキ
シシランなどが例示でき、ｎ＝３のトリオルガノアルコ
キシシランとしてはトリメチルメトキシシラン、トリメ
チルエトキシシラン、トリメチルイソプロポキシシラ
ン、ジメチルイソブチルメトキシシランなどが例示でき
る。さらに、一般にシランカップリング剤とよばれるオ
ルガノシラン化合物もアルコキシシラン類に含まれる。
【００１３】これらの一般式（Ｉ）で表される加水分解
性基含有オルガノシランのうち５０モル％以上がｎ＝１
で表される三官能性のものであることが必要である。そ
れらは、より好ましくは６０モル％以上であり、最も好
ましくは７０モル％以上である。これが５０モル％未満
では十分な塗膜硬度が得られないと共に、乾燥硬化性が
劣り易い。
性基含有オルガノシランのうち５０モル％以上がｎ＝１
で表される三官能性のものであることが必要である。そ
れらは、より好ましくは６０モル％以上であり、最も好
ましくは７０モル％以上である。これが５０モル％未満
では十分な塗膜硬度が得られないと共に、乾燥硬化性が
劣り易い。
【００１４】Ａ成分中のコロイダルシリカはコーティン
グ材の硬化被膜の硬度を高くするために必須のものであ
る。このようなコロイダルシリカとしては、水分散性あ
るいはアルコールなどの非水系の有機溶媒分散性コロイ
ダルシリカが使用できる。一般にこのようなコロイダル
シリカは固形分としてのシリカを２０〜５０重量％含有
している。また、水分散性コロイダルシリカを使用する
場合、固形分以外の成分として存在する水は後に示すよ
うに、硬化剤として用いることができる。これらは通常
水ガラスから作られるが、このようなコロイダルシリカ
は市販品を容易に入手することができる。また、有機溶
媒分散コロイダルシリカは前記水分散性コロイダルシリ
カの水を有機溶媒と置換することで容易に調製すること
ができる。このような有機溶剤分散コロイダルシリカも
水分散コロイダルシリカ同様に市販品として容易に入手
することができる。コロイダルシリカが分散している有
機溶媒の種類は、たとえば、メタノール、エタノール、
イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール等
の低級脂肪族アルコール類；エチレングリコール、エチ
レングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリ
コールモノエチルエーテル等のエチレングリコール誘導
体；ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノ
ブチルエーテル等のジエチレングリコールの誘導体およ
びジアセトンアルコール等を挙げることができ、これら
からなる群より選ばれる１種もしくは２種以上のものを
使用することができる。これらの親水性有機溶剤として
併用してトルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メ
チルエチルケトオキシムなども用いることができる。
グ材の硬化被膜の硬度を高くするために必須のものであ
る。このようなコロイダルシリカとしては、水分散性あ
るいはアルコールなどの非水系の有機溶媒分散性コロイ
ダルシリカが使用できる。一般にこのようなコロイダル
シリカは固形分としてのシリカを２０〜５０重量％含有
している。また、水分散性コロイダルシリカを使用する
場合、固形分以外の成分として存在する水は後に示すよ
うに、硬化剤として用いることができる。これらは通常
水ガラスから作られるが、このようなコロイダルシリカ
は市販品を容易に入手することができる。また、有機溶
媒分散コロイダルシリカは前記水分散性コロイダルシリ
カの水を有機溶媒と置換することで容易に調製すること
ができる。このような有機溶剤分散コロイダルシリカも
水分散コロイダルシリカ同様に市販品として容易に入手
することができる。コロイダルシリカが分散している有
機溶媒の種類は、たとえば、メタノール、エタノール、
イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール等
の低級脂肪族アルコール類；エチレングリコール、エチ
レングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリ
コールモノエチルエーテル等のエチレングリコール誘導
体；ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノ
ブチルエーテル等のジエチレングリコールの誘導体およ
びジアセトンアルコール等を挙げることができ、これら
からなる群より選ばれる１種もしくは２種以上のものを
使用することができる。これらの親水性有機溶剤として
併用してトルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メ
チルエチルケトオキシムなども用いることができる。
【００１５】なお、上記成分（Ａ）としてコロイダルシ
リカを用いる場合、上記配合割合は、分散媒も含む重量
部である。Ａ成分中においてコロイダルシリカはシリカ
分として５〜９５重量％の範囲で含有され、より好まし
くは１０〜９０重量％、最も好ましくは２０〜８５重量
％の範囲である。含有量が５重量％未満であると所望の
被膜硬度が得られず、また、９５重量％を超えるとシリ
カの均一分散が困難となりＡ成分がゲル化などの不都合
を招来することがある。
リカを用いる場合、上記配合割合は、分散媒も含む重量
部である。Ａ成分中においてコロイダルシリカはシリカ
分として５〜９５重量％の範囲で含有され、より好まし
くは１０〜９０重量％、最も好ましくは２０〜８５重量
％の範囲である。含有量が５重量％未満であると所望の
被膜硬度が得られず、また、９５重量％を超えるとシリ
カの均一分散が困難となりＡ成分がゲル化などの不都合
を招来することがある。
【００１６】Ａ成分のシリカ分散オリゴマーは、通常加
水分解性基含有オルガノシランを水分散コロイダルシリ
カまたは有機溶媒分散コロイダルシリカ中で部分加水分
解して得ることができる。加水分解性オルガノシランに
対する水の使用量は、加水分解性基（Ｘ）１モルに対し
て水０．００１〜０．５モルがよい。０．００１モル未
満だと十分な部分加水分解物が得られず、０．５モルを
越えると部分加水分解物の安定性が悪くなる。部分加水
分解する方法は特に限定されず、加水分解性オルガノア
ルコキシシランとコロイダルシリカとを混合して、必要
量の水を添加配合すればよく、このとき部分加水分解反
応は常温で進行する。部分加水分解反応を促進させるた
め６０〜１００℃に加温してもよい。さらに部分加水分
解反応を促進させる目的で、塩酸、酢酸、ハロゲン化シ
ラン、クロロ酢酸、クエン酸、安息香酸、ジメチルマロ
ン酸、蟻酸、プロピオン酸、グルタル酸、グリコール
酸、マレイン酸、マロン酸、トルエンスルホン酸、シュ
ウ酸などの有機酸および無機酸を触媒に用いてもよい。
水分解性基含有オルガノシランを水分散コロイダルシリ
カまたは有機溶媒分散コロイダルシリカ中で部分加水分
解して得ることができる。加水分解性オルガノシランに
対する水の使用量は、加水分解性基（Ｘ）１モルに対し
て水０．００１〜０．５モルがよい。０．００１モル未
満だと十分な部分加水分解物が得られず、０．５モルを
越えると部分加水分解物の安定性が悪くなる。部分加水
分解する方法は特に限定されず、加水分解性オルガノア
ルコキシシランとコロイダルシリカとを混合して、必要
量の水を添加配合すればよく、このとき部分加水分解反
応は常温で進行する。部分加水分解反応を促進させるた
め６０〜１００℃に加温してもよい。さらに部分加水分
解反応を促進させる目的で、塩酸、酢酸、ハロゲン化シ
ラン、クロロ酢酸、クエン酸、安息香酸、ジメチルマロ
ン酸、蟻酸、プロピオン酸、グルタル酸、グリコール
酸、マレイン酸、マロン酸、トルエンスルホン酸、シュ
ウ酸などの有機酸および無機酸を触媒に用いてもよい。
【００１７】Ａ成分は長期的に安定して性能を得るため
には、液のｐＨを２．０〜７．０、好ましくは２．５〜
６．５、より好ましくは３．０〜６．０にするとよい。
ｐＨがこの範囲外であると、特に水の使用量がＸ１モル
に対し０．３モル以上でＡ成分の長期的な性能低下が著
しい。Ａ成分のｐＨがこの範囲外にあるときは、この範
囲より酸性側であれば、アンモニア、エチレンジアミン
等の塩基性試薬を添加して調整すれば良く、塩基性側の
ときも塩酸、硝酸、酢酸等の酸性試薬を用いて調整すれ
ば良い。しかし、その調整方法は特に限定されるもので
はない。
には、液のｐＨを２．０〜７．０、好ましくは２．５〜
６．５、より好ましくは３．０〜６．０にするとよい。
ｐＨがこの範囲外であると、特に水の使用量がＸ１モル
に対し０．３モル以上でＡ成分の長期的な性能低下が著
しい。Ａ成分のｐＨがこの範囲外にあるときは、この範
囲より酸性側であれば、アンモニア、エチレンジアミン
等の塩基性試薬を添加して調整すれば良く、塩基性側の
ときも塩酸、硝酸、酢酸等の酸性試薬を用いて調整すれ
ば良い。しかし、その調整方法は特に限定されるもので
はない。
【００１８】Ｂ成分のシラノール基含有ポリオルガノシ
ロキサンは、この発明の特徴をなす重要な成分である。
このようなＢ成分は上記平均組成式（II）で表すことが
できる。（II）式中、Ｒ2 としては上記（Ｉ）式中のＲ
1 と同じものが例示されるが、好ましくは、炭素数１〜
４のアルキル基、フェニル基、ビニル基、γ−グリシド
キシプロピル基、γ−メタクリロキシプロピル基、γ−
アミノプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル
基などの置換炭化水素基、より好ましくはメチル基およ
びフェニル基である。また、式中、ａおよびｂはそれぞ
れ上記の関係を満たす数であり、ａが０．２未満または
ｂが３を超えると硬化被膜にクラックを生じるなどの不
都合があり、また、ａが２を超え４以下の場合またはｂ
が０．０００１未満では硬化がうまく進行しない。
ロキサンは、この発明の特徴をなす重要な成分である。
このようなＢ成分は上記平均組成式（II）で表すことが
できる。（II）式中、Ｒ2 としては上記（Ｉ）式中のＲ
1 と同じものが例示されるが、好ましくは、炭素数１〜
４のアルキル基、フェニル基、ビニル基、γ−グリシド
キシプロピル基、γ−メタクリロキシプロピル基、γ−
アミノプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル
基などの置換炭化水素基、より好ましくはメチル基およ
びフェニル基である。また、式中、ａおよびｂはそれぞ
れ上記の関係を満たす数であり、ａが０．２未満または
ｂが３を超えると硬化被膜にクラックを生じるなどの不
都合があり、また、ａが２を超え４以下の場合またはｂ
が０．０００１未満では硬化がうまく進行しない。
【００１９】このようなシラノール基含有ポリオルガノ
シロキサンはメチルトリクロロシラン、ジメチルジクロ
ロシラン、フェニルトリクロロシラン、ジフェニルジク
ロロシラン、もしくは、これらに対応するアルコキシシ
ランの１種もしくは２種以上の混合物を公知の方法によ
り大量の水で加水分解することで得ることができる。シ
ラノール基含有ポリオルガノシロキサンを得るのに、ア
ルコキシシランを用いて公知の方法で加水分解した場
合、加水分解されないアルコキシ基が微量に残る場合が
ある。つまりシラノール基と極微量のアルコキシ基が共
存するようなポリオルガノシロキサンが得られることも
あるが、このようなポリオルガノシロキサンを用いても
差し支えない。
シロキサンはメチルトリクロロシラン、ジメチルジクロ
ロシラン、フェニルトリクロロシラン、ジフェニルジク
ロロシラン、もしくは、これらに対応するアルコキシシ
ランの１種もしくは２種以上の混合物を公知の方法によ
り大量の水で加水分解することで得ることができる。シ
ラノール基含有ポリオルガノシロキサンを得るのに、ア
ルコキシシランを用いて公知の方法で加水分解した場
合、加水分解されないアルコキシ基が微量に残る場合が
ある。つまりシラノール基と極微量のアルコキシ基が共
存するようなポリオルガノシロキサンが得られることも
あるが、このようなポリオルガノシロキサンを用いても
差し支えない。
【００２０】この発明のＣ成分である硬化触媒は、上記
のようにＡ成分とＢ成分との縮合反応を促進し、被膜を
硬化させるものである。このような触媒としては、たと
えば、アルキルチタン酸塩、オクチル酸錫およびジブチ
ル錫ジラウレート、ジオクチル錫ジマレート等のカルボ
ン酸の金属塩；ジブチルアミン−２−ヘキソエート、ジ
メチルアミンアセテート、エタノールアミンアセテート
等のアミン塩；酢酸テトラメチルアンモニウム等のカル
ボン酸第４級アンモニウム塩；テトラエチルペンタミン
のようなアミン類；Ｎ−β−アミノエチル−γ−アミノ
プロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−アミノエチル−
γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン等のアミン
系シランカップリング剤；ｐ−トルエンスルホン酸、フ
タル酸、塩酸等の酸類；アルミニウムアルコキシド、ア
ルミニウムキレート等のアルミニウム化合物、水酸化カ
リウムなどのアルカリ触媒；テトライソプロピルチタネ
ート、テトラブチルチタネート、チタニウムテトラアセ
チルアセトネート等のチタニウム化合物、メチルトリク
ロロシン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルモノク
ロロシラン等のハロゲン化シラン等があるが、前記触媒
の他にＡ成分およびＢ成分との縮合反応に有効なもので
あれば特に制限はない。
のようにＡ成分とＢ成分との縮合反応を促進し、被膜を
硬化させるものである。このような触媒としては、たと
えば、アルキルチタン酸塩、オクチル酸錫およびジブチ
ル錫ジラウレート、ジオクチル錫ジマレート等のカルボ
ン酸の金属塩；ジブチルアミン−２−ヘキソエート、ジ
メチルアミンアセテート、エタノールアミンアセテート
等のアミン塩；酢酸テトラメチルアンモニウム等のカル
ボン酸第４級アンモニウム塩；テトラエチルペンタミン
のようなアミン類；Ｎ−β−アミノエチル−γ−アミノ
プロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−アミノエチル−
γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン等のアミン
系シランカップリング剤；ｐ−トルエンスルホン酸、フ
タル酸、塩酸等の酸類；アルミニウムアルコキシド、ア
ルミニウムキレート等のアルミニウム化合物、水酸化カ
リウムなどのアルカリ触媒；テトライソプロピルチタネ
ート、テトラブチルチタネート、チタニウムテトラアセ
チルアセトネート等のチタニウム化合物、メチルトリク
ロロシン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルモノク
ロロシラン等のハロゲン化シラン等があるが、前記触媒
の他にＡ成分およびＢ成分との縮合反応に有効なもので
あれば特に制限はない。
【００２１】Ａ成分およびＢ成分の配合割合は、Ａ成分
１〜９９重量部に対してＢ成分９９〜１重量部であり、
より好ましくはＡ成分５〜９５重量部に対してＢ成分９
５〜５重量部、最も好ましくはＡ成分１０〜９０重量部
に対してＢ成分９０〜１０重量部である。Ａ成分が１重
量部未満であると常温硬化性に劣り、また十分な被膜硬
度が得られない。一方、Ａ成分が９９重量部を超えると
硬化性が不安定でかつ良好な塗膜が得られないことがあ
る。
１〜９９重量部に対してＢ成分９９〜１重量部であり、
より好ましくはＡ成分５〜９５重量部に対してＢ成分９
５〜５重量部、最も好ましくはＡ成分１０〜９０重量部
に対してＢ成分９０〜１０重量部である。Ａ成分が１重
量部未満であると常温硬化性に劣り、また十分な被膜硬
度が得られない。一方、Ａ成分が９９重量部を超えると
硬化性が不安定でかつ良好な塗膜が得られないことがあ
る。
【００２２】また、Ｃ成分の添加量は、Ａ成分とＢ成分
との合計１００重量部に対して０．０００１〜１０重量
部であることが好ましく、より好ましくは０．０００５
〜８重量部であり、最も好ましくは０．０００７〜５重
量部である。Ｃ成分の添加量が０．０００１重量部未満
だと常温で硬化しないし、また、１０重量部を超えると
耐熱性、耐候性が悪くなる。
との合計１００重量部に対して０．０００１〜１０重量
部であることが好ましく、より好ましくは０．０００５
〜８重量部であり、最も好ましくは０．０００７〜５重
量部である。Ｃ成分の添加量が０．０００１重量部未満
だと常温で硬化しないし、また、１０重量部を超えると
耐熱性、耐候性が悪くなる。
【００２３】Ａ成分のシリカ分散オリゴマーに含有され
る加水分解性基とＢ成分のシラノール基とは、Ｃ成分の
硬化触媒存在下で、常温もしくは低温加熱することによ
り縮合反応して硬化被膜を形成する。従って、湿気硬化
タイプのコーティング用組成物のように、この発明で用
いるコーティング材（コーティング用組成物）は常温で
硬化するときにも湿度の影響をほとんど受けない。ま
た、加熱処理により縮合反応を促進して硬化被膜を形成
することができる。反射板製造の際は、生産性を考え、
６０℃以上で１０分以上焼き付けることが好ましい。
る加水分解性基とＢ成分のシラノール基とは、Ｃ成分の
硬化触媒存在下で、常温もしくは低温加熱することによ
り縮合反応して硬化被膜を形成する。従って、湿気硬化
タイプのコーティング用組成物のように、この発明で用
いるコーティング材（コーティング用組成物）は常温で
硬化するときにも湿度の影響をほとんど受けない。ま
た、加熱処理により縮合反応を促進して硬化被膜を形成
することができる。反射板製造の際は、生産性を考え、
６０℃以上で１０分以上焼き付けることが好ましい。
【００２４】このコーティング材は、取扱いの容易さか
ら各種有機溶媒で希釈して使用できる。有機溶媒の種類
は、Ａ成分あるいはＢ成分の１価炭化水素基の種類もし
くは分子量の大きさによって選定することができる。こ
のような有機溶媒としては、コロイダルシリカの分散溶
媒として示した、メタノール、エタノール、イソプロパ
ノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール等の低級脂肪
族アルコール類；エチレングリコール、エチレングリコ
ールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノ
エチルエーテル等のエチレングリコール誘導体；ジエチ
レングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエー
テル等のジエチレングリコールの誘導体およびジアセト
ンアルコール等を挙げることができ、これらからなる群
より選ばれた１種もしくは２種以上のものを使用するこ
とができる。これらの親水性有機溶剤と併用してトルエ
ン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトオ
キシムなども例示することができる。
ら各種有機溶媒で希釈して使用できる。有機溶媒の種類
は、Ａ成分あるいはＢ成分の１価炭化水素基の種類もし
くは分子量の大きさによって選定することができる。こ
のような有機溶媒としては、コロイダルシリカの分散溶
媒として示した、メタノール、エタノール、イソプロパ
ノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール等の低級脂肪
族アルコール類；エチレングリコール、エチレングリコ
ールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノ
エチルエーテル等のエチレングリコール誘導体；ジエチ
レングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエー
テル等のジエチレングリコールの誘導体およびジアセト
ンアルコール等を挙げることができ、これらからなる群
より選ばれた１種もしくは２種以上のものを使用するこ
とができる。これらの親水性有機溶剤と併用してトルエ
ン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトオ
キシムなども例示することができる。
【００２５】このコーティング材には、顔料を添加する
ことができる。添加する顔料種は、カーボンブラック、
キナクリドン、ナフトールレッド、シアニンブルー、シ
アニングリーン、ハンザエロー等の有機顔料；酸化チタ
ン、硫酸バリウム、弁柄、複合金属酸化物等の無機顔料
が良く、これらの群から選ばれる１種もしくは２種以上
を組み合わせて使用しても差し支えない。
ことができる。添加する顔料種は、カーボンブラック、
キナクリドン、ナフトールレッド、シアニンブルー、シ
アニングリーン、ハンザエロー等の有機顔料；酸化チタ
ン、硫酸バリウム、弁柄、複合金属酸化物等の無機顔料
が良く、これらの群から選ばれる１種もしくは２種以上
を組み合わせて使用しても差し支えない。
【００２６】顔料の分散は、通常の方法で行えばよい。
また、その際、分散剤、分散助剤、増粘剤、カップリン
グ剤等の使用が可能である。さらには、レベリング剤、
染料、金属粉、ガラス粉、抗酸化剤、紫外線吸収剤等を
添加することができる。多層コーティング反射鏡の製造
方法は、基板上に下地層が密着形成され、この下地層の
上に光輝性金属膜を密着形成し、さらにこの光輝性金属
膜の上に無機化合物保護被膜が密着形成されている反射
鏡において、下地層として、上述のこの発明で用いるコ
ーティング材を用いることにより、反射特性に優れた反
射鏡を製造することができる。
また、その際、分散剤、分散助剤、増粘剤、カップリン
グ剤等の使用が可能である。さらには、レベリング剤、
染料、金属粉、ガラス粉、抗酸化剤、紫外線吸収剤等を
添加することができる。多層コーティング反射鏡の製造
方法は、基板上に下地層が密着形成され、この下地層の
上に光輝性金属膜を密着形成し、さらにこの光輝性金属
膜の上に無機化合物保護被膜が密着形成されている反射
鏡において、下地層として、上述のこの発明で用いるコ
ーティング材を用いることにより、反射特性に優れた反
射鏡を製造することができる。
【００２７】ここで、光輝性金属膜に用いる光輝性金属
としては、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｎｉ等が挙げられる。し
かし、反射率、コスト、蒸着の容易さ等の点から、Ａｌ
を用いることが最も実用的である。無機化合物保護被膜
に用いる無機化合物としては、たとえば、ＳｉＯ、Ｓｉ
Ｏ 2 、ＴｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、ＭｇＦ2 等が挙げられ
る。しかしながら、透明性、安定性、経済性の点からＳ
ｉＯ2 を用いることが最も実用的である。また、保護被
膜として、上述のこの発明で用いるコーティング材を塗
装して低温で焼き付けてもよい。
としては、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｎｉ等が挙げられる。し
かし、反射率、コスト、蒸着の容易さ等の点から、Ａｌ
を用いることが最も実用的である。無機化合物保護被膜
に用いる無機化合物としては、たとえば、ＳｉＯ、Ｓｉ
Ｏ 2 、ＴｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、ＭｇＦ2 等が挙げられ
る。しかしながら、透明性、安定性、経済性の点からＳ
ｉＯ2 を用いることが最も実用的である。また、保護被
膜として、上述のこの発明で用いるコーティング材を塗
装して低温で焼き付けてもよい。
【００２８】この発明の多層コーティング反射鏡の製造
方法は、上記のような原材料を用い、たとえば、次のよ
うにして行われる。すなわち、金属基材などの基体（反
射面となる面は平面でも曲面であってもよい）を予め脱
脂乾燥し、これに上記この発明で用いるコーティング材
をスプレー法、静電塗装法、浸漬法等の方法によって塗
布する。この場合、塗膜厚は、基材の凹凸の影響をなく
するため、５μｍ以上が好ましい。次に、この塗膜の乾
燥、焼き付けを行い、下地層を形成する。焼き付け温度
は、このコーティング材の場合、８０℃程度の低温でも
十分に硬化するが、塗膜中の残存溶剤等による光輝性金
属膜のくもりを避けるため、１５０℃以上の温度で焼き
付けることが好ましい。そして、この下地層の上に光輝
性金属を蒸着する。蒸着は通常の方法で行えばよい。す
なわち、１０-4〜１０-5Torrの真空下で光輝性金属を抵
抗加熱または電子線加熱により蒸発させて下地層の上に
金属膜を形成する。この膜厚は３００〜１０００Åの範
囲に設定することが好ましい。膜厚が３００Å未満にな
ると、下地層が透けて見えるようになり反射率が悪くな
る。逆に１０００Åを越えても、効果の増大がそれ以上
望めずコストの点で不経済になる。なお、必要な場合に
は、下地層と金属膜との密着性を向上させるために、蒸
着の直前にボンバード処理を行うようにしてもよい。次
に、上記金属膜の上に無機化合物を蒸着する。すなわ
ち、１０-4〜１０-5Torrの真空下で電子線加熱により無
機化合物を蒸発させて所定の膜を形成する。この膜厚は
０．３〜２μｍの範囲に設定することが好ましい。膜厚
が０．３μｍ未満になると無機化合物保護被膜にピンホ
ールが多くなり、耐食性が悪くなる。逆に２μｍを超え
ても効果の増大がこれ以上望めず蒸着に時間がかかり不
経済になる。なお、この無機化合物保護被膜の形成の際
にも、必要に応じて無機化合物蒸着直前にボンバード処
理を行って、無機化合物保護被膜と金属膜との間の密着
性を向上させてもよい。更に、無機化合物保護被膜の形
成方法として、イオンプレーティング法を用いて、無機
化合物保護被膜と金属膜間の密着性をより向上させ、ラ
ンプ点灯時の輻射熱による無機化合物保護被膜へのクラ
ックの発生温度を向上させてもよい。また、保護被膜形
成後、反射鏡を１５０℃〜３００℃中で１〜１２時間エ
ージング処理を行ってもよい。
方法は、上記のような原材料を用い、たとえば、次のよ
うにして行われる。すなわち、金属基材などの基体（反
射面となる面は平面でも曲面であってもよい）を予め脱
脂乾燥し、これに上記この発明で用いるコーティング材
をスプレー法、静電塗装法、浸漬法等の方法によって塗
布する。この場合、塗膜厚は、基材の凹凸の影響をなく
するため、５μｍ以上が好ましい。次に、この塗膜の乾
燥、焼き付けを行い、下地層を形成する。焼き付け温度
は、このコーティング材の場合、８０℃程度の低温でも
十分に硬化するが、塗膜中の残存溶剤等による光輝性金
属膜のくもりを避けるため、１５０℃以上の温度で焼き
付けることが好ましい。そして、この下地層の上に光輝
性金属を蒸着する。蒸着は通常の方法で行えばよい。す
なわち、１０-4〜１０-5Torrの真空下で光輝性金属を抵
抗加熱または電子線加熱により蒸発させて下地層の上に
金属膜を形成する。この膜厚は３００〜１０００Åの範
囲に設定することが好ましい。膜厚が３００Å未満にな
ると、下地層が透けて見えるようになり反射率が悪くな
る。逆に１０００Åを越えても、効果の増大がそれ以上
望めずコストの点で不経済になる。なお、必要な場合に
は、下地層と金属膜との密着性を向上させるために、蒸
着の直前にボンバード処理を行うようにしてもよい。次
に、上記金属膜の上に無機化合物を蒸着する。すなわ
ち、１０-4〜１０-5Torrの真空下で電子線加熱により無
機化合物を蒸発させて所定の膜を形成する。この膜厚は
０．３〜２μｍの範囲に設定することが好ましい。膜厚
が０．３μｍ未満になると無機化合物保護被膜にピンホ
ールが多くなり、耐食性が悪くなる。逆に２μｍを超え
ても効果の増大がこれ以上望めず蒸着に時間がかかり不
経済になる。なお、この無機化合物保護被膜の形成の際
にも、必要に応じて無機化合物蒸着直前にボンバード処
理を行って、無機化合物保護被膜と金属膜との間の密着
性を向上させてもよい。更に、無機化合物保護被膜の形
成方法として、イオンプレーティング法を用いて、無機
化合物保護被膜と金属膜間の密着性をより向上させ、ラ
ンプ点灯時の輻射熱による無機化合物保護被膜へのクラ
ックの発生温度を向上させてもよい。また、保護被膜形
成後、反射鏡を１５０℃〜３００℃中で１〜１２時間エ
ージング処理を行ってもよい。
【００２９】この発明で用いられる基体は板状のものに
限定されない。
限定されない。
【００３０】
【作用】低温で硬化する無機系コーティング材を用いる
ことで、１２０℃以下の低温で焼き付けても、耐熱性、
耐候性等に優れた塗膜性能を有する反射鏡を得ることが
できる。このような優れたコーティング材を用いて下地
層を形成すると、耐熱性、耐湿性、耐食性等は従来の無
機系コーティング材と同等の性能を確保でき、分光反射
率特性に優れた多層コーティング反射鏡を製造すること
ができる。
ことで、１２０℃以下の低温で焼き付けても、耐熱性、
耐候性等に優れた塗膜性能を有する反射鏡を得ることが
できる。このような優れたコーティング材を用いて下地
層を形成すると、耐熱性、耐湿性、耐食性等は従来の無
機系コーティング材と同等の性能を確保でき、分光反射
率特性に優れた多層コーティング反射鏡を製造すること
ができる。
【００３１】
【実施例】以下に、この発明の具体的な実施例および比
較例を示すが、この発明は下記実施例に限定されない。
以下では、「部」は「重量部」のことである。まず、Ａ
成分の調製例を示す。 −Ａ成分の調製例１− 攪拌機、加温ジャケット、コンデンサーおよび温度計を
取り付けたフラスコ中にメタノール分散コロイダルシリ
カゾルＭＡ−ＳＴ（粒子径１０〜２０ｍμ、固形分３０
％、Ｈ2 Ｏ０．５％、日産化学工業社製）１００部、メ
チルトリメトキシシラン６８部、水１０．８部を投入し
て攪拌しながら６５℃の温度で約５時間かけて部分加水
分解反応を行い冷却してＡ成分を得た。このものは、室
温で４８時間放置したときの固形分が３６％であった。
ここで得たＡ成分をＡ−１と称する。Ａ−１の調製条件 ・加水分解性基１モルに対する水のモル数 …０．４ ・Ａ成分のシリカ分含有量 …４７．３％ ・ｎ＝１の加水分解性基含有オルガノシランのモル％ …１００モル％ −Ａ成分の調製例２− 攪拌機、加温ジャケット、コンデンサーおよび温度計を
取り付けたフラスコ中にイソプロピルアルコール分散コ
ロイダルシリカゾルＩＰＡ−ＳＴ（粒子径１０〜２０ｍ
μ、固形分３０％、Ｈ2 Ｏ０．５％、日産化学工業社
製）１００部、メチルトリメトキシシラン６８部、ジメ
チルジメトキシシラン１８部、水２．７部、無水酢酸
０．１部を投入して攪拌しながら８０℃の温度で約３時
間かけて部分加水分解反応を行い冷却してＡ成分を得
た。このものは、室温で４８時間放置したときの固形分
が３６％であった。ここで得たＡ成分をＡ−２と称す
る。Ａ−２の調製条件 ・加水分解性基１モルに対する水のモル数 …０．１ ・Ａ成分のシリカ分含有量 …４０．２％ ・ｎ＝１の加水分解性基含有オルガノシランのモル％ …７７モル％ 次に、Ｂ成分の調製例を示す。
較例を示すが、この発明は下記実施例に限定されない。
以下では、「部」は「重量部」のことである。まず、Ａ
成分の調製例を示す。 −Ａ成分の調製例１− 攪拌機、加温ジャケット、コンデンサーおよび温度計を
取り付けたフラスコ中にメタノール分散コロイダルシリ
カゾルＭＡ−ＳＴ（粒子径１０〜２０ｍμ、固形分３０
％、Ｈ2 Ｏ０．５％、日産化学工業社製）１００部、メ
チルトリメトキシシラン６８部、水１０．８部を投入し
て攪拌しながら６５℃の温度で約５時間かけて部分加水
分解反応を行い冷却してＡ成分を得た。このものは、室
温で４８時間放置したときの固形分が３６％であった。
ここで得たＡ成分をＡ−１と称する。Ａ−１の調製条件 ・加水分解性基１モルに対する水のモル数 …０．４ ・Ａ成分のシリカ分含有量 …４７．３％ ・ｎ＝１の加水分解性基含有オルガノシランのモル％ …１００モル％ −Ａ成分の調製例２− 攪拌機、加温ジャケット、コンデンサーおよび温度計を
取り付けたフラスコ中にイソプロピルアルコール分散コ
ロイダルシリカゾルＩＰＡ−ＳＴ（粒子径１０〜２０ｍ
μ、固形分３０％、Ｈ2 Ｏ０．５％、日産化学工業社
製）１００部、メチルトリメトキシシラン６８部、ジメ
チルジメトキシシラン１８部、水２．７部、無水酢酸
０．１部を投入して攪拌しながら８０℃の温度で約３時
間かけて部分加水分解反応を行い冷却してＡ成分を得
た。このものは、室温で４８時間放置したときの固形分
が３６％であった。ここで得たＡ成分をＡ−２と称す
る。Ａ−２の調製条件 ・加水分解性基１モルに対する水のモル数 …０．１ ・Ａ成分のシリカ分含有量 …４０．２％ ・ｎ＝１の加水分解性基含有オルガノシランのモル％ …７７モル％ 次に、Ｂ成分の調製例を示す。
【００３２】−Ｂ成分の調製例１− 攪拌機、加温ジャケット、コンデンサー、滴下ロートお
よび温度計を取り付けたフラスコにメチルトリイソプロ
ポキシシラン２２０部（１モル）とトルエン１５０部と
の混合液を計り取り、１％塩酸水溶液１０８部を上記混
合液に２０分で滴下してメチルトリイソプロポキシシラ
ンを加水分解した。滴下４０分後に攪拌を止め、二層に
分離した少量の塩酸を含んだ下層の水とイソプロピルア
ルコールの混合液を分液し、次に残ったトルエンの樹脂
溶液の塩酸を水洗で除去し、さらにトルエンを減圧除去
した後、イソプロピルアルコールで希釈し平均分子量約
２０００のシラノール基含有オルガノポリシロキサンの
イソプロピルアルコール４０％溶液を得た。これをＢ−
１と称する。
よび温度計を取り付けたフラスコにメチルトリイソプロ
ポキシシラン２２０部（１モル）とトルエン１５０部と
の混合液を計り取り、１％塩酸水溶液１０８部を上記混
合液に２０分で滴下してメチルトリイソプロポキシシラ
ンを加水分解した。滴下４０分後に攪拌を止め、二層に
分離した少量の塩酸を含んだ下層の水とイソプロピルア
ルコールの混合液を分液し、次に残ったトルエンの樹脂
溶液の塩酸を水洗で除去し、さらにトルエンを減圧除去
した後、イソプロピルアルコールで希釈し平均分子量約
２０００のシラノール基含有オルガノポリシロキサンの
イソプロピルアルコール４０％溶液を得た。これをＢ−
１と称する。
【００３３】−Ｂ成分の調製例２− 攪拌機、加温ジャケット、コンデンサー、滴下ロートお
よび温度計を取り付けたフラスコに水１０００部、アセ
トン５０部を計り取り、その混合溶液中に、メチルトリ
クロロシラン４４．８部（０．３モル）、ジメチルジク
ロロシラン３８．７部（０．３モル）、フェニルトリク
ロロシラン８４．６部（０．４モル）をトルエン２００
部に溶解したものを攪拌下に滴下しながら加水分解し
た。滴下４０分後に攪拌を止め、反応液を分液ロートに
移し入れて静置した後、二層に分離した下層の塩酸水を
分液除去し、次に上層のオルガノポリシロキサンのトル
エン溶液を減圧ストリッピングにより残存している水お
よび塩酸を過剰のトルエンと共に留去して除去し、平均
分子量約３０００のシラノール基含有オルガノポリシロ
キサンのトルエン６０％溶液を得た。これをＢ−２と称
する。
よび温度計を取り付けたフラスコに水１０００部、アセ
トン５０部を計り取り、その混合溶液中に、メチルトリ
クロロシラン４４．８部（０．３モル）、ジメチルジク
ロロシラン３８．７部（０．３モル）、フェニルトリク
ロロシラン８４．６部（０．４モル）をトルエン２００
部に溶解したものを攪拌下に滴下しながら加水分解し
た。滴下４０分後に攪拌を止め、反応液を分液ロートに
移し入れて静置した後、二層に分離した下層の塩酸水を
分液除去し、次に上層のオルガノポリシロキサンのトル
エン溶液を減圧ストリッピングにより残存している水お
よび塩酸を過剰のトルエンと共に留去して除去し、平均
分子量約３０００のシラノール基含有オルガノポリシロ
キサンのトルエン６０％溶液を得た。これをＢ−２と称
する。
【００３４】−Ａ、ＢおよびＣ成分の混合例１〜５− 表１に示すとおり、Ａ成分、Ｂ成分およびＣ成分をそれ
ぞれ所定量混合攪拌し、コーティング材を得た。Ｃ成分
としては、Ｎ−β−アミノエチル−γ−アミノプロピル
メチルジメトキシシランを用いた。
ぞれ所定量混合攪拌し、コーティング材を得た。Ｃ成分
としては、Ｎ−β−アミノエチル−γ−アミノプロピル
メチルジメトキシシランを用いた。
【００３５】
【表１】
【００３６】まず、混合例１〜５で得られたコーティン
グ材をトップコート（低温硬化保護被膜）に用いた場合
の実施例を示す。 −実施例１〜５− 反射板の基体として、１mm厚のアルミニウム板を５cm×
８cmの大きさに切断したものを用いた。コーティング層
の形成には、前記アルミ板を脱脂乾燥した後、混合例１
〜５のコーティング材をスプレーで塗布した。塗布量
は、硬化後に３μｍ厚になるように設定した。塗布後の
セッティングを１０分間とった後、１００℃で２０分間
焼き付けを行った。
グ材をトップコート（低温硬化保護被膜）に用いた場合
の実施例を示す。 −実施例１〜５− 反射板の基体として、１mm厚のアルミニウム板を５cm×
８cmの大きさに切断したものを用いた。コーティング層
の形成には、前記アルミ板を脱脂乾燥した後、混合例１
〜５のコーティング材をスプレーで塗布した。塗布量
は、硬化後に３μｍ厚になるように設定した。塗布後の
セッティングを１０分間とった後、１００℃で２０分間
焼き付けを行った。
【００３７】得られた反射鏡（反射板）の性能評価は次
のように行った。結果を表２に示した。耐 熱 性 １６０℃の恒温槽中で１０日間加熱を実施し、クラッ
ク、白華の発生状況を評価した。○は、クラックおよび
白華のいずれも発生しなかったことを、×は、クラック
または白華のいずれか一方または両方が発生したことを
それぞれ示す。耐 候 性 １２０℃の恒温槽中で水銀灯照射を１０日間実施し、ク
ラック、白華の発生状況を評価した。○は、クラックお
よび白華のいずれも発生しなかったことを、×は、クラ
ックまたは白華のいずれか一方または両方が発生したこ
とをそれぞれ示す。
のように行った。結果を表２に示した。耐 熱 性 １６０℃の恒温槽中で１０日間加熱を実施し、クラッ
ク、白華の発生状況を評価した。○は、クラックおよび
白華のいずれも発生しなかったことを、×は、クラック
または白華のいずれか一方または両方が発生したことを
それぞれ示す。耐 候 性 １２０℃の恒温槽中で水銀灯照射を１０日間実施し、ク
ラック、白華の発生状況を評価した。○は、クラックお
よび白華のいずれも発生しなかったことを、×は、クラ
ックまたは白華のいずれか一方または両方が発生したこ
とをそれぞれ示す。
【００３８】−比較例１− 実施例と同様のアルミ板を用い、同様の脱脂乾燥の後、
市販のアルカリ珪酸塩無機塗料をスプレーで塗布した。
塗布量は、硬化後に３μｍ厚になるように設定した。塗
布後のセッティングを１０分間とった後、２００℃で２
０分間焼き付けを行った。評価は、実施例と同様に行っ
た。結果を表２に示した。
市販のアルカリ珪酸塩無機塗料をスプレーで塗布した。
塗布量は、硬化後に３μｍ厚になるように設定した。塗
布後のセッティングを１０分間とった後、２００℃で２
０分間焼き付けを行った。評価は、実施例と同様に行っ
た。結果を表２に示した。
【００３９】
【表２】
【００４０】表２にみるように、実施例１〜５で得られ
た反射鏡は耐熱性、耐候性の両方に優れていたが、比較
例１のものは焼き付け温度が高かったにも関わらずそれ
の性能がいずれも劣っていた。次に、混合例１〜５で得
られたコーティング材を下地層に用い、多層コーティン
グ反射鏡を得た場合の実施例を示す。
た反射鏡は耐熱性、耐候性の両方に優れていたが、比較
例１のものは焼き付け温度が高かったにも関わらずそれ
の性能がいずれも劣っていた。次に、混合例１〜５で得
られたコーティング材を下地層に用い、多層コーティン
グ反射鏡を得た場合の実施例を示す。
【００４１】−実施例６〜１０− 塗布量を硬化後に５μｍ厚となるように設定したこと以
外は、実施例１〜５と同様にしてコーティング材を塗布
した。焼き付け条件は、塗膜中の溶剤を完全に除去する
ために２００℃×４０分行い、下地層を形成した。次
に、下地層を形成した基体を蒸着装置に装着し、５×１
０-5Torrの真空中で抵抗加熱により高純度アルミニウム
（９９．９９％）を蒸着して、１０００Åのアルミニウ
ム膜からなる光輝性金属層を下地層の上に形成した。次
に、真空度を５×１０-5Torrに保ったまま、電子線加熱
によりＳｉＯ2 を蒸着して５０００ÅのＳｉＯ2 膜から
なる保護皮膜層を形成した。このようにして得られた多
層コーティング反射板の分光反射率特性を、分光光度計
（ＵＶ−３５０：島津製作所製）により測定波長域３８
０〜７８０nmで測定した。各サンプルの全反射率および
拡散反射率の平均値を表３に示した。
外は、実施例１〜５と同様にしてコーティング材を塗布
した。焼き付け条件は、塗膜中の溶剤を完全に除去する
ために２００℃×４０分行い、下地層を形成した。次
に、下地層を形成した基体を蒸着装置に装着し、５×１
０-5Torrの真空中で抵抗加熱により高純度アルミニウム
（９９．９９％）を蒸着して、１０００Åのアルミニウ
ム膜からなる光輝性金属層を下地層の上に形成した。次
に、真空度を５×１０-5Torrに保ったまま、電子線加熱
によりＳｉＯ2 を蒸着して５０００ÅのＳｉＯ2 膜から
なる保護皮膜層を形成した。このようにして得られた多
層コーティング反射板の分光反射率特性を、分光光度計
（ＵＶ−３５０：島津製作所製）により測定波長域３８
０〜７８０nmで測定した。各サンプルの全反射率および
拡散反射率の平均値を表３に示した。
【００４２】−比較例２− メチルトリメトキシシラン１００部に、テトラエトキシ
シラン１５部、ＩＰＡオルガノシリカゾル（商品名「Ｏ
ＳＣＡＬ１４３２」触媒化成工業社製）７０部、ジメチ
ルジメトキシシラン３５部、イソプロピルアルコール
（ＩＰＡ）１００部を混合し、更に、Ｈ2 Ｏ９５部を添
加し、攪拌した。これを６０℃の恒温槽中で分子量をＭ
ｗ＝１０００（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．４９）に調整した。こ
のコーティング材を下地層形成に用いて、実施例６〜１
０と同様にして多層コーティング反射板を得た。この分
光測定結果を表３に示した。
シラン１５部、ＩＰＡオルガノシリカゾル（商品名「Ｏ
ＳＣＡＬ１４３２」触媒化成工業社製）７０部、ジメチ
ルジメトキシシラン３５部、イソプロピルアルコール
（ＩＰＡ）１００部を混合し、更に、Ｈ2 Ｏ９５部を添
加し、攪拌した。これを６０℃の恒温槽中で分子量をＭ
ｗ＝１０００（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．４９）に調整した。こ
のコーティング材を下地層形成に用いて、実施例６〜１
０と同様にして多層コーティング反射板を得た。この分
光測定結果を表３に示した。
【００４３】
【表３】
【００４４】表３にみるように、実施例６〜１０で得ら
れた反射鏡は、拡散反射率が低いのに対し、比較例２で
得られた反射鏡は拡散反射率が大きい。実施例６〜１０
および比較例２についても耐熱性を次のようにして調べ
たが、すべてについて１００／１００でＯＫであった。耐 熱 性 ２００℃の恒温槽中で１０日間加熱を実施した後、碁盤
目密着試験（１００個のます目）で評価した。１００個
のます目のうちどれだけが剥離せずに密着しているかを
調べた。
れた反射鏡は、拡散反射率が低いのに対し、比較例２で
得られた反射鏡は拡散反射率が大きい。実施例６〜１０
および比較例２についても耐熱性を次のようにして調べ
たが、すべてについて１００／１００でＯＫであった。耐 熱 性 ２００℃の恒温槽中で１０日間加熱を実施した後、碁盤
目密着試験（１００個のます目）で評価した。１００個
のます目のうちどれだけが剥離せずに密着しているかを
調べた。
【００４５】
【発明の効果】この発明の反射鏡の製造方法によれば、
保護膜形成に上記特定のＡ、ＢおよびＣ成分を含むコー
ティング材を用いるので、１２０℃以下の低温で焼き付
けても耐熱性、耐候性等に優れた塗膜性能を有する反射
鏡を得ることができる。この発明の多層コーティング反
射鏡の製造方法によれば、下地層形成に上記特定のＡ、
ＢおよびＣ成分を含むコーティング材を用いるので、分
光反射率特性に優れた多層コーティング反射鏡を得るこ
とができ、しかも、耐熱性、耐湿性、耐食性等は従来の
無機系コーティング材と同等の性能を確保できる。
保護膜形成に上記特定のＡ、ＢおよびＣ成分を含むコー
ティング材を用いるので、１２０℃以下の低温で焼き付
けても耐熱性、耐候性等に優れた塗膜性能を有する反射
鏡を得ることができる。この発明の多層コーティング反
射鏡の製造方法によれば、下地層形成に上記特定のＡ、
ＢおよびＣ成分を含むコーティング材を用いるので、分
光反射率特性に優れた多層コーティング反射鏡を得るこ
とができ、しかも、耐熱性、耐湿性、耐食性等は従来の
無機系コーティング材と同等の性能を確保できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｆ２１Ｖ 7/22 Ｂ 2113−3Ｋ
Claims (2)
- 【請求項１】 基体の表面に保護膜を形成する反射板の
製造方法において、前記保護膜を、下記のＡ成分、Ｂ成
分およびＣ成分を、Ａ成分とＢ成分の比率がＡ成分１〜
９９重量部に対してＢ成分９９〜１重量部（Ａ成分とＢ
成分の合計１００重量部）となるように混合して調製さ
れたコーティング材を用いて形成することを特徴とする
反射鏡の製造方法。 （Ａ）一般式 Ｒ1 n ＳｉＸ4-n …（Ｉ） 〔式中、Ｒ1 は同一または異種の置換もしくは非置換の
炭素数１〜８の１価炭化水素基を示し、ｎは０〜３の整
数、Ｘは加水分解性基を示す。〕で表され、少なくとも
５０モル％がｎ＝１のオルガノシランである加水分解性
オルガノシランを有機溶媒または水に分散されたコロイ
ダルシリカ中で上記加水分解性基（Ｘ）１モルに対し水
０．００１〜０．５モルを使用する条件下で部分加水分
解してなり、シリカを固形分として５〜９５重量％含有
するオルガノシランのシリカ分散オリゴマー溶液。 （Ｂ）平均組成式 Ｒ2 a Ｓｉ（ＯＨ）b Ｏ(4-a-b)/2 …（II） 〔式中、Ｒ2 は同一または異種の置換もしくは非置換の
炭素数１〜８の１価炭化水素基を示し、ａおよびｂはそ
れぞれ０．２≦ａ≦２、０．０００１≦ｂ≦３、ａ＋ｂ
＜４の関係を満たす数である。〕で表される、分子中に
シラノール基を含有するポリオルガノシロキサン。 （Ｃ）触媒。 - 【請求項２】 基体の表面に下地層、この下地層の上に
光輝性金属層、この光輝性金属層の上に無機化合物保護
被膜層をと順次形成する反射鏡の製造方法において、前
記下地層を、下記のＡ成分、Ｂ成分およびＣ成分を、Ａ
成分とＢ成分の比率がＡ成分１〜９９重量部に対してＢ
成分９９〜１重量部（Ａ成分とＢ成分の合計１００重量
部）となるように混合して調製されたコーティング材を
用いて形成することを特徴とする反射鏡の製造方法。 （Ａ）一般式 Ｒ1 n ＳｉＸ4-n …（Ｉ） 〔式中、Ｒ1 は同一または異種の置換もしくは非置換の
炭素数１〜８の１価炭化水素基を示し、ｎは０〜３の整
数、Ｘは加水分解性基を示す。〕で表され、少なくとも
５０モル％がｎ＝１のオルガノシランである加水分解性
オルガノシランを有機溶媒または水に分散されたコロイ
ダルシリカ中で上記加水分解性基（Ｘ）１モルに対し水
０．００１〜０．５モルを使用する条件下で部分加水分
解してなり、シリカを固形分として５〜９５重量％含有
するオルガノシランのシリカ分散オリゴマー溶液。 （Ｂ）平均組成式 Ｒ2 a Ｓｉ（ＯＨ）b Ｏ(4-a-b)/2 …（II） 〔式中、Ｒ2 は同一または異種の置換もしくは非置換の
炭素数１〜８の１価炭化水素基を示し、ａおよびｂはそ
れぞれ０．２≦ａ≦２、０．０００１≦ｂ≦３、ａ＋ｂ
＜４の関係を満たす数である。〕で表される、分子中に
シラノール基を含有するポリオルガノシロキサン。 （Ｃ）触媒。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3234347A JP2520994B2 (ja) | 1991-09-13 | 1991-09-13 | 反射鏡の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3234347A JP2520994B2 (ja) | 1991-09-13 | 1991-09-13 | 反射鏡の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0568942A true JPH0568942A (ja) | 1993-03-23 |
| JP2520994B2 JP2520994B2 (ja) | 1996-07-31 |
Family
ID=16969577
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3234347A Expired - Lifetime JP2520994B2 (ja) | 1991-09-13 | 1991-09-13 | 反射鏡の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2520994B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002511509A (ja) * | 1998-04-09 | 2002-04-16 | インスティトゥート フィア ノイエ マテリアーリエン ゲマインニュッツィゲ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクタ ハフトゥンク | ナノ構造の成形体及び層並びに安定な水溶性前駆物質を用いたその製造方法 |
| JP2008007557A (ja) * | 2006-06-27 | 2008-01-17 | Matsushita Electric Works Ltd | 銀被膜塗料組成物と、それを有する光反射体および照明器具 |
| JP2009242505A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Yamaken Inc | コーティング材 |
-
1991
- 1991-09-13 JP JP3234347A patent/JP2520994B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002511509A (ja) * | 1998-04-09 | 2002-04-16 | インスティトゥート フィア ノイエ マテリアーリエン ゲマインニュッツィゲ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクタ ハフトゥンク | ナノ構造の成形体及び層並びに安定な水溶性前駆物質を用いたその製造方法 |
| JP2008007557A (ja) * | 2006-06-27 | 2008-01-17 | Matsushita Electric Works Ltd | 銀被膜塗料組成物と、それを有する光反射体および照明器具 |
| JP2009242505A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Yamaken Inc | コーティング材 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2520994B2 (ja) | 1996-07-31 |
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