JPH056863U - エキシマレーザ装置 - Google Patents

エキシマレーザ装置

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JPH056863U
JPH056863U JP8286091U JP8286091U JPH056863U JP H056863 U JPH056863 U JP H056863U JP 8286091 U JP8286091 U JP 8286091U JP 8286091 U JP8286091 U JP 8286091U JP H056863 U JPH056863 U JP H056863U
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JP
Japan
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circuit
laser light
output
shutter
laser
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Pending
Application number
JP8286091U
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English (en)
Inventor
知史 吉田
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Nissin Electric Co Ltd
Original Assignee
Nissin Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nissin Electric Co Ltd filed Critical Nissin Electric Co Ltd
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Publication of JPH056863U publication Critical patent/JPH056863U/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 安定したエネルギを有するレーザ光を被照射
体に照射することを目的とする。 【構成】 発振出力されるレーザ光のエネルギと出力設
定値とを比較し、エネルギが出力設定範囲内にあるとき
に限って、被照射体に向かうレーザ光の通過光路に配置
されたシャッターを開放する。これによって常に設定さ
れた範囲のエネルギを有するレーザ光を照射体に照射す
ることができるようになる。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案はエキシマレーザ装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
周知のようにエキシマレーザ装置は、そのエキシマレーザの励起にはコンデン サの充放電が一般に使用されている。すなわちコンデンサを繰返してパルス充電 し、その充電電圧が主電極間の放電電圧に到達すると、主電極間で放電が行なわ れる。そしてその励起によってレーザ光が出力される。この場合充電電圧が上が ると放電電圧が上がることによって、エキシマレーザ媒質ガスの励起強度が上が り、レーザ光のエネルギが上昇する。
【0003】 図2に従来のエキシマレーザ装置を示す。1は周知のレーザ発振器で、充電回 路およびパルス充電されるコンデンサなどからなる励起回路、主電極、予備電離 ギャップなどによって構成されている。レーザ発振器1からのレーザ光は、部分 反射ミラー2を介して出力され、被照射体に照射される。
【0004】 レーザ光の一部は部分反射ミラー2よりモニター回路3に与えられ、ここから レーザ光のエネルギに比例するモニター信号が出力される。この信号は比較回路 4に与えられる。比較回路4には、出力範囲を設定する出力設定回路5からの出 力設定信号が与えられており、ここでモニター信号と比較される。
【0005】 そしてこの出力設定信号によって定まる範囲よりモニター信号が低い場合は、 充電電圧制御回路6をして、コンデンサの充電電圧を上げるように制御し、レー ザ光のエネルギを上げるようにする。逆にモニター信号が高い場合は、充電電圧 制御回路6をしてコンデンサの充電電圧を下げるように制御し、レーザ光のエネ ルギを下げるようにする。
【0006】 ところでこの種装置では、出力設定回路5によってレーザ光の出力エネルギを 設定してからレーザ発振器1の発振を開始し、その開始と同時に部分反射ミラー 2により出力の一部をモニター回路3によりモニターし、比較回路4をして充電 電圧制御回路6を制御するようにしている。
【0007】 しかしこのような構成によると、モニター回路3に応じて応答性の違いがある ため、モニター信号による充電電圧の制御によって、レーザ光の出力が安定する までの時間に違いが生ずることがある。そのため応答性の遅いモニター回路の場 合は、レーザ発振器1の発振開始後、レーザ光のエネルギが設定出力値に到達し て安定するまでは、エネルギが安定していないレーザ光が被照射体に照射される ようになってしまう。
【0008】 またコンデンサの充電電圧が上限に到達したとき、なおレーザ光のエネルギが 設定出力値に到達しないような場合でも、レーザ発振器1はその発振を継続して しまうようになる。
【0009】
【考案が解決しようとする課題】
本考案は、レーザ光のエネルギが設定範囲内にあるときに限って、そのレーザ 光を被照射体に照射することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本考案は、部分反射ミラーを通って被照射体に向かうレーザ光の通過光路にシ ャッターを設け、モニター回路からのモニター信号と、出力設定回路からの出力 設定信号とを比較する比較回路によって、モニター信号が設定出力範囲にあると 判断されたときに限って、このシャッターを開放するようにしたことを特徴とす る。
【0011】
【作用】
モニター信号が設定出力範囲にあるとき、シャッターが開放され、設定出力範 囲外にあるときはシャッターは閉じられているので、モニター回路の応答性に差 異があっても、部分反射ミラーを通って被照射体に向かうレーザ光のエネルギは 常に設定出力範囲内にあるようになる。
【0012】
【実施例】
本考案の実施例を図1によって説明する。なお図2と同じ符号を付した部分は 同一または対応する部分を示す。レーザ発振器1の発振制御は図2の場合と特に 相違するものではないが、本考案にしたがい部分反射ミラー2を通って被照射体 に向かうレーザ光の通過光路上に、シャッター7を配置する。
【0013】 また比較回路4によってモニター回路3からのモニター信号と、出力設定回路 5からの出力設定信号とを比較した結果、モニター信号が設定出力範囲にあると きに出される信号によってシャッター制御回路8が動作し、これによってシャッ ター7が開放される。
【0014】 以上の構成において、出力設定回路5によってレーザ光の出力を設定してから レーザ発振器1の発振を開始させるが、その当初はレーザ光の出力は安定してい ないので、モニター信号は設定出力範囲外にあり、このときの比較回路4からは 信号は出ないため、シャッター7は閉じられたままにある。
【0015】 そしてレーザ光の出力が安定してそのエネルギが設定出力範囲内に入ると、比 較回路4よりシャッター制御回路8に信号が与えられ、これによってシャッター 7が開放され、部分反射ミラー2を通過したレーザ光は開放されたシャッター7 を通って被照射体に照射される。
【0016】 被照射体にレーザ光を照射している状態にあるとき、レーザ光のエネルギが低 下したことによって充電電圧を上昇させて、エネルギの安定化が図れる。しかし その充電電圧を上限にまで上昇させても、そのエネルギが設定出力範囲から離脱 したときは、比較回路4、シヤッター制御回路8によってシャッター7は閉じら れる。以上によって被照射体には、常に設定出力範囲内にあるエネルギのレーザ 光が照射されるようになる。
【0017】 なおシャッター7が開放されているときにレーザ発振器1の発振繰返し回数、 すなわちショット数を数えるようにするとよく、これによれば被照射体に照射さ れたレーザ光の照射回数を正確に計測することができるようになる。具体的には シャッター制御回路8からシャッター7を開放するための制御信号が出ている期 間に限って、レーザ発振器1内のコンデンサのパルス放電回数をカウントするよ うにすればよい。
【0018】
【考案の効果】
以上詳述したように本考案によれば、レーザ光はそのエネルギが設定出力範囲 内にあるときのみに限って被照射体に照射されるようになり、したがってモニタ ー回路に応答性の差異があっても、また充電電圧が上限に達してもなお設定出力 範囲に到達しないようなことがあっても、安定したエネルギのレーザ光を照射す ることができる効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の実施例を示す回路図である。
【図2】従来例の回路図である。
【符号の説明】
1 レーザ発振器 2 部分反射ミラー 3 モニター回路 4 比較回路 5 出力設定回路 6 充電電圧制御回路 7 シャッター 8 シャッター制御回路

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 【請求項1】 レーザ発振器と、前記レーザ発振器から
    のレーザ光の一部を反射する部分反射ミラーと、前記部
    分反射ミラーからのレーザ光をモニターするモニター回
    路と、レーザ光の出力範囲を設定する出力設定回路と、
    前記モニター回路からのモニター信号と前記出力設定回
    路からの出力設定信号とを比較し、前記レーザ発振器か
    らのレーザ光のエネルギを制御する制御回路とを備えた
    エキシマレーザ装置において、前記部分反射ミラーを通
    って被照射体に向かうレーザ光の通過光路にシャッター
    と、前記比較回路によって、前記モニター信号が前記出
    力設定信号による出力範囲にあるときに出される信号に
    よって前記シャッターを開放するように制御するシャッ
    ター制御回路を設けてなるエキシマレーザ装置。
JP8286091U 1991-07-08 1991-07-08 エキシマレーザ装置 Pending JPH056863U (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000077759A (ja) * 1998-08-27 2000-03-14 Toshiba Corp レーザ装置及び多結晶シリコンの製造方法
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