JPH0567565A - 紫外線硬化装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】レジスト塗布基板を冷却するのに必要な部材間
の接触，すなわち、基板プレートと冷却装置との接触
を、良好にして冷却効果を向上させる。 【構成】基板プレート２の外周側に同芯で等ピッチとし
た複数個の孔２ａを設け、各孔２ａにシリンダ12で駆動
されるピストン12ａの先端近傍を挿入する。ピストン12
ａの先端近傍には、基板プレート２の下面側にフランジ
12ｂを設ける。また、上部板10と基板プレート２の間に
は、各ピストン12ａと同芯でスプリング13を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、紫外線の持つ化学作用
を利用した紫外線硬化装置の冷却室の構造に関する。

【０００２】

【従来の技術】図４は、従来の高周波誘導加熱室と冷却
室を分離別置きとした形式の代表的な半導体用レジスト
硬化装置の一例を示す縦断面図である。同図において、
１はレジスト硬化処理室，２は基板プレート，３はレジ
スト塗布基板，４は高周波誘導加熱装置，５は紫外線透
過板，６は図示しない紫外線発生装置から照射される紫
外線，７ａは底板，７ｂは基板搬送口，７ｃおよび７ｄ
は側板，７ｅは上部フランジ、８は冷却装置，９は冷却
室，10は上部板である。また、図５は、上記した冷却装
置８の構成を示す断面図であり、８ａは冷却装置上部フ
ランジ，８ｂは冷却装置下部フランジ，８ｃは取付座
で、冷却装置上部フランジ８ａと冷却装置下部フランジ
８ｂの間に冷却水11の流通する空所を形成し、さらに取
付座８ｃを介してエアーシリンダ12のピストン12ａとボ
ルト等により剛に結合され、上下に駆動される。

【０００３】以上の構成において、レジスト塗布基板３
は、レジスト硬化処理室１で紫外線６の照射と高周波誘
導加熱装置４を介した加熱によるレジスト硬化処理が終
ると、図示しない搬送系により冷却室９に搬送され、所
定位置に停止する。このとき、冷却装置８は、基板プレ
ート２と所定の距離をおいて離れた位置にある。次に、
冷却装置８は、エアーシリンダ12により上方に移動され
て基板プレート２に密着し、主に熱伝導により基板プレ
ート２を介してレジスト塗布基板３を冷却する。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
たように冷却装置８はエアーシリンダ12により上下駆動
されるピストン12ａと剛結合をしているため、冷却する
のに必要な部材間の接触、すなわち、基板プレート２と
冷却装置８の冷却装置上部フランジ８ａが片当り接触と
なり効率良い冷却が行われ難いという欠点があった。ま
た、この片当り接触は、長時間の精密な調整により修正
することができるが、装置組立ておよび良好性能維持を
確保するためには多大の労力と時間を必要とする。

【０００５】そこで、本発明の目的は、レジスト塗布基
板を冷却するのに必要な部材間の接触、すなわち、基板
プレートと冷却装置との接触を、良好にして冷却効果を
向上させるようにした紫外線硬化装置を提供することに
ある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、レジスト塗布
基板に紫外線の照射と加熱をするレジスト硬化処理室
と、このレジスト硬化処理室から搬送されたレジスト塗
布基板を載置する基板プレートおよびこの下部に冷却装
置を備えた冷却室とを隣接して配設した紫外線硬化装置
において、基板プレートを上下移動可能とし、スプリン
グを介して冷却装置に接触させるようにしたものであ
る。

【０００７】

【作用】冷却装置とレジスト塗布基板を載置した基板プ
レートとの接触を柔構とすることによって、基板プレー
トと冷却装置の片当りの接触が解消され、全面接触とな
って冷却硬化を大きく向上することができる。

【０００８】

【実施例】以下、本発明の一実施例を図面を参照して説
明する。図１は、本発明の一実施例の要部を示す断面図
である。同図において、基板プレート２には、外周側に
基板プレート２と同芯で等ピッチとした複数個の孔２ａ
を設ける。各孔２ａには、それぞれエアーシリンダ12で
駆動されるピストン12ａの先端近傍が挿入される。この
ピストン12ａの先端近傍には、基板プレート２の下面側
にフランジ12ｂを設ける。また、上部板10と基板プレー
ト２の間には、各ピストン12ａと同芯でスプリング13を
設ける。このスプリング13は、上端を基板プレート２に
支持される。なお、冷却装置８は、冷却室９内に固定さ
れ上下移動はしない。

【０００９】次に、以上のように構成された実施例の作
用を説明する。まず、レジスト塗布基板３は、上記した
従来と同様にレジスト硬化処理室１で紫外線６の照射と
高周波誘導加熱装置４によるレジスト硬化処理をされた
後、図示しない搬送系により冷却室９に搬送され、所定
位置（基板プレート２の上部）で停止する。このとき、
基板プレート２は、同図に示すように冷却装置８と一定
のギャップＧをもって離れた上部に、エアーシリンダ12
の駆動によるピストン12ａで押し上げられる。このと
き、スプリング13は、基板プレート２により圧縮され、
そのばね力で基板プレート２がピストン12ａのフランジ
12ｂに押し付けられている。次に、エアーシリンダ12を
駆動してピストン12ａを、上記したギャップＧより大き
く下方に移動させる。基板プレート２は、スプリング13
で押されてピストン12ａと共に、下方に移動し、ギャッ
プＧだけ下方に移動したとき図２および図３に示すよう
にその下面が冷却装置上部フランジ８ａの上面に当接し
停止する。ピストン12ａがギャップＧよりさらに下方に
移動すると、フランジ12ｂの上面と基板プレート２の下
面との間にギャップが生じる。このとき、基板プレート
２は、スプリング13によって冷却装置上部フランジ８ａ
に接触するように押し付けられており、しかもピストン
12ａによる上下方向の拘束を受けないので、冷却装置８
に片当りすることなく全面で接触する。これにより、基
板プレート２は、冷却装置８で全面均等に冷却され、レ
ジスト塗布基板３を全面均等に冷却することができる。

【００１０】以上の説明で明らかなように、基板プレー
ト２がエアーシリンダ12のピストン12ａとスプリング13
を介した柔結合であるため、冷却するのに必要な部材間
の接触、すなわち、基板プレート２と冷却装置８の片当
りの接触が解消され、全面接触により効率の良好な冷却
が行われる。

【００１１】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、冷
却室に配設される冷却装置を固定すると共に冷却するレ
ジスト塗布基板を載置した基板プレートを上下移動可能
とし、この基板プレートが上下移動させるピストンとス
プリングを介した柔結合となっているので、冷却するの
に必要な部材間の接触、すなわち、基板プレートと冷却
装置の片当り接触が解消され、効率良い冷却が行われ
る。また、従来必要とされていた片当り接触を修正する
ための長時間の精密な調整作業を不要とすることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例の要部を示す断面図。

【図２】本発明の一実施例の要部の作用を示す説明図。

【図３】図２の一部を拡大して示す説明図。

【図４】従来の紫外線硬化処理装置の要部を示す断面
図。

【図５】図４に示す従来の紫外線硬化装置における冷却
装置の構成を示す断面図。

【図６】図５に示す従来の紫外線硬化装置における冷却
装置の作用を示す説明図。

【符号の説明】

１…レジスト硬化処理室、２…基板プレート、３…レジ
スト塗布基板、４…高周波誘導加熱装置、６…紫外線、
８…冷却装置、９…冷却室、10…上部板、11…冷却水、
12…エアーシリンダ、12ａ…ピストン、13…スプリン
グ。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 レジスト塗布基板に紫外線の照射と加熱
   をするレジスト硬化処理室と、このレジスト硬化処理室
   から搬送された前記レジスト塗布基板を載置する基板プ
   レートおよびこの下部に冷却装置を備えた冷却室とを隣
   接して配設した紫外線硬化装置において、前記基板プレ
   ートを上下移動可能とし、スプリングを介して前記冷却
   装置に接触するようにしたことを特徴とする紫外線硬化
   装置。