JPH0567004U - レジスト塗布装置 - Google Patents
レジスト塗布装置Info
- Publication number
- JPH0567004U JPH0567004U JP1095692U JP1095692U JPH0567004U JP H0567004 U JPH0567004 U JP H0567004U JP 1095692 U JP1095692 U JP 1095692U JP 1095692 U JP1095692 U JP 1095692U JP H0567004 U JPH0567004 U JP H0567004U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resist
- hot air
- dryer
- substrate material
- resist coating
- Prior art date
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- Pending
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- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 レジスト膜厚を任意かつ容易に、また連続的
に変えることができるレジスト塗布装置を提供する。 【構成】 ローラーを内蔵するレジスト溶解槽と、上下
に可変な熱風吹き出し口と、該熱風吹き出し口を内蔵し
下部から帯状基板材料を取り込む入り口と上部にその出
口とを有する乾燥器からなる。
に変えることができるレジスト塗布装置を提供する。 【構成】 ローラーを内蔵するレジスト溶解槽と、上下
に可変な熱風吹き出し口と、該熱風吹き出し口を内蔵し
下部から帯状基板材料を取り込む入り口と上部にその出
口とを有する乾燥器からなる。
Description
【0001】
本考案はレジストの塗布装置に関する。更に詳しくは、リードフレーム製造の エッチング工程での材料にレジスト膜を塗布形成する装置に関する。
【0002】
リードフレームにレジストを塗布形成する方法としては、材料をレジスト中に 浸漬し垂直に引き上げて均一なレジスト膜を形成していた。その場合、レジスト の膜厚を制御するためには材料の引き上げ速度、レジスト粘度、レジスト温度等 を変化させて行っていたが引き上げ速度を大きく変える場合には乾燥時間が不足 したり、レジスト粘度を大きく変化させると浴を作り替える必要が生じたり、レ ジスト温度を大きく変えると雰囲気温度との差が広がりレジスト液温の安定性が 低下したりするなど、不都合な点が多々あった。
【0003】
本考案の目的は、上記問題点を解消し、レジスト膜厚を任意かつ容易に、また 連続的に変えることができるレジスト塗布装置を提供することである。
【0004】
上記目的を達成するために本考案は、ローラーを内蔵するレジスト溶解槽と、 上下に可変な熱風吹き出し口と、該熱風吹き出し口を内蔵し下部から帯状基板材 料を取り込む入り口と上部にその出口とを有する乾燥器からなる点に特徴がある 。
【0005】
該レジスト溶解槽は常用のもので良く、外部装置から帯状基板材料を巻きいれ るローラーが納まる大きさであれば良い。該ローラーもまた特に形状については こだわらない。該レジスト溶解槽では、加温装置がついていることが必要である 。該熱風吹き出し口は外部から熱風を送り込む管と接続されていれば良く、その 形状については特に限定されない。該熱風吹き出し口は該乾燥器の中を上下に移 動かつ任意の位置で固定できなければならない。該熱風吹き出し口の数は該帯状 基板材料の大きさ、該乾燥器の大きさ等に合わせて増やすことができる。該乾燥 器の上部と下部とにはそれぞれ該帯状基板材料のための入り口と出口を設けなけ ればならない。
【0006】
図1にはレジスト塗布装置の概略図を示す。レジスト溶解槽1には水溶性レジ ストがあり、その粘度は18.0±0.5cPで、温度を22.0±0.1℃に 設定してある。帯状のFe−Ni合金の帯状基板材料3をローラー2を介してレ ジスト液中を通過させ乾燥器7へ入り口4を通じて入れ搬送速度を1.0m/分 で出口6から出す。この間、乾燥器7の中に2個ある熱風吹き出し口5から80 ℃の空気を吹き出させた。熱風吹き出し口の位置を帯状基板材料がレジスト浴解 槽の表面から1、2、3、4分それぞれかかるように設定した。塗布された膜の 厚さと上記の時間との関係を図2に示す。この結果、0.5分から膜厚がほぼ一 定になる2分まで2〜8μmで任意の厚さを塗布できることが分かった。
【0007】
本考案を行うことにより、レジスト膜厚を任意かつ容易に、また連続的に変え ることができる。
【図1】図1はレジスト塗布装置の概略図を示すもので
ある。
ある。
【図2】図2は膜厚と塗布から乾燥開始までの時間との
関係を示す。
関係を示す。
1 レジスト溶解槽 2 ローラー 3 帯状基板材料 4 入り口 5 熱風吹き出し口 6 出口 7 乾燥器
Claims (1)
- 【請求項1】 ローラーを内蔵するレジスト溶解槽と、
上下に可変な熱風吹き出し口と、該熱風吹き出し口を内
蔵し下部から帯状基板材料を取り込む入り口と上部にそ
の出口とを有する乾燥器からなることを特徴とするレジ
スト塗布装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1095692U JPH0567004U (ja) | 1992-02-05 | 1992-02-05 | レジスト塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1095692U JPH0567004U (ja) | 1992-02-05 | 1992-02-05 | レジスト塗布装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0567004U true JPH0567004U (ja) | 1993-09-03 |
Family
ID=11764643
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1095692U Pending JPH0567004U (ja) | 1992-02-05 | 1992-02-05 | レジスト塗布装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0567004U (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03253580A (ja) * | 1990-02-28 | 1991-11-12 | Dainippon Printing Co Ltd | 連続金属薄板面へのレジスト膜塗布方法と装置 |
-
1992
- 1992-02-05 JP JP1095692U patent/JPH0567004U/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03253580A (ja) * | 1990-02-28 | 1991-11-12 | Dainippon Printing Co Ltd | 連続金属薄板面へのレジスト膜塗布方法と装置 |
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