JPH056478U - ホログラム形成シート - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】この考案は表面レリーフ型ホログラムにおい
て、条件設定が容易で、再現性や生産性にも優れ、しか
も安価であるホログラム形成シートを容易に提供する。 【構成】二軸延伸高密度ポリエチレンを基材シートに用
い、その片側表面に形成された高精細なホログラムパタ
ーンと、その上面の金属薄膜反射層により得られること
を特徴とするホログラム形成シート。 【効果】二軸延伸高密度ポリエチレンを基材シートに用
いることにより、この材質の特徴である熱変形温度が比
較的に低いこと、さらに残留応力の緩和速度が速いこ
と、また熱分解による塩素系ガスを発生しないことか
ら、エンボス成形用樹脂層を必要とせずに良好な冷間エ
ンボス加工が可能となり、条件設定が容易で、再現性や
生産性にも優れ、しかも安価であり、従来の主材料であ
るＰＥＴシートと比較して格段に優れたホログラム形成
シートを容易に提供することが可能となる。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は表面レリーフ型ホログラムをエンボス加工による成形技術によって得 るホログラム形成シートに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】

出版・印刷業においては、書籍、雑誌の表紙、挿し絵として、あるいはギフト 、ノベルティとして、またディスプレイ関連や広告等の分野では、アイキャッチ 的効果、立体感による意外性の効果をねらって、ホログラムが利用されている。

【０００３】 従来ホログラムを複製する方法としては大別して２つの方法が知られている。 第１の方法は密着露光法及び干渉法である。これらの方法はいずれも感光材料を 用いて新たにホログラムを作る方法である。

【０００４】 したがって必ず高価な感光材料が必要であり、そのコストはホログラムの価格 に占める割合が大きいので複製されたホログラムは高価とならざるを得ず、また 製造に要する時間も感材の処理時間が比較的長いため長くかかり生産性が悪い。

【０００５】 そして第２の方法は、平滑なプラスチック材料にエンボス加工を施して表面レ リーフ型のホログラムを作製する方法である。

【０００６】 これは機械的なプレスによってホログラムを生成する手段であるため、コスト 的にみて安価に出来、また大量生産にも適している。

【０００７】 前記第２の方法に使用される材料のプラスチックシートには、従来は硬質ポリ 塩化ビニル、ポリエステルが用いられている。

【０００８】 ポリ塩化ビニルを使用した場合、ホログラム形成シートの基材としては、平滑 性、均一性等の点で満足できるものではなく、またエンボス加工の際の熱により 、熱分解されて発生する塩素系ガスによって、金属性スタンパーが腐食する等の 問題を有している。

【０００９】 またポリエステルをプラスチックシートとして使用する場合、耐熱性はあるも ののエンボス加工性が悪いためホログラム成形樹脂層を設ける必要があり、更に エンボス加工時に熱を必要とするため、エンボス加工時の条件設定が難しく、生 産性が上がらない、再現性が悪いなどの問題がある。

【００１０】

【考案が解決しようとする課題】

この考案が解決しようとする課題は、これらの事情を鑑みて得られたものであ り、表面レリーフ型ホログラムとして条件設定が簡単に出来て、再現性もあり、 生産性にも優れ、しかも安価であるホログラム形成シートを、容易に提供するこ とにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】

この考案は基材シートとして二軸延伸高密度ポリエチレンを使用することで、 その片側表面にレリーフ型ホログラムを直接に冷間エンボス加工により形成し、 その上面に金属薄膜反射層が重ってなる積層シートを得ることにより、上記の課 題を解決できることを見出したものである。

【００１２】 図１は本考案によるホログラム形成シートの構成を示す断面図である。この考 案における、二軸延伸高密度ポリエチレン製基材シート１は、厚さが１０〜２０ ０μｍのもので、この程度の厚さのものが加工性の面からこれに適している。

【００１３】 エンボス加工による成形は、表面にニッケル、金、クロム等のメッキを施した スタンパ３を用いて行う。金属薄膜反射層２は、材料として表面の反射率が高い 金属を用いて形成するが、例えばアルミニウム、金、銀、錫等を使用する。また 、成膜方法としては、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の方 法を用いて、１００〜１0,０００Å（0.０１〜１μｍ）程度の薄膜を設ける。

【００１４】 図２は、本発明によるホログラム形成シートにおいて、二軸延伸高密度ポリエ チレン製基材シート１へのホログラムパターンのエンボス成形工程を示した断面 図である。

【００１５】 エンボス加工による成形はプレス機４にて、二軸延伸高密度ポリエチレン製基 材シート１に直接行うわけであるが、その際に転写の条件設定によっては若干の 熱を加えることもある。

【００１６】

【作用】

二軸延伸高密度ポリエチレンは、例えば従来この分野に用いられる主材料であ るＰＥＴシートと比較すると、表１に示すように応力の緩和に要する時間が非常 に短時間ですむことから、エンボス加工による転写性が良く、容易であり、且つ 生産のタクトタイムも短くてすみ、更に冷間エンボス加工すら可能である。

【００１７】

【表１】

【００１８】 また比較的低温で熱変形が起こり始める（例えば 66psiで約60〜82℃程度から ）ことを利用し、基材シート表面を軟化させるため、スタンパーの温度をわずか ５０℃程度まで暖めて温度調節しておき、エンボス加工でのプレス中にスタンパ ーから基材シートに若干の熱を加えることにより、高精細なホログラムパターン を形成することが出来る。

【００１９】 つまり、これらの特性から極めて再現性が良く、ホログラムの微細なパターン を均一に成形する事が容易にでき、約１,300〜１,500本／ｍｍといった高い空間 周波数のホログラム成形も可能となる。

【００２０】 さらに、この材質は熱分解による塩素系ガスが発生せず金属性スタンパーが腐 食される心配も無く、また部分的な成形ムラ等もなく歩留りが向上する。そして ホログラム成形樹脂層を設けることや、特に高熱を加えることが不要な状況の下 でのエンボス加工が可能となる。これらのことから、エンボス加工型ホログラム 用基材シートとして非常に優れているといえる。

【００２１】

【実施例】

＜実施例１＞ 厚み８０μｍの二軸延伸高密度ポリエチレンのシート（東燃化学株式会社製： ＬＵＰＩＣ−Ｌ）の片面に、型温５０℃、圧力５０ｋｇｆ／ｃｍ² の条件の下で 、直接エンボス加工を施しホログラムを形成させた。次に該基材シートのエンボ ス面へアルミニウムを約５００Åの厚さに真空蒸着により成膜を施してホログラ ム形成シートを得た。

【００２２】 ＜実施例２＞ 厚み８０μｍの二軸延伸高密度ポリエチレンのシート（東燃化学株式会社製： ＬＵＰＩＣ−Ｌ）の片面に、アルミニウムを約５００Åの厚さに真空蒸着により 成膜を施し、その後に実施例１の条件の下でエンボス加工を行ってホログラム形 成シートを得た。

【００２３】

【考案の効果】

本考案によると二軸延伸高密度ポリエチレンを基材シートとして使用し、該シ ートの片側表面に形成したレリーフ型ホログラムと、それに重なる金属薄膜の積 層シートを得ることにより、熱分解による塩素系ガスの発生が無く、またホログ ラム成形樹脂層を設けることも無くしてホログラム形成シートが得られ、更に特 に高温を必要とせずに良好で効率のよいエンボス加工が可能である。

【００２４】 このことから、従来この分野に用いられる主材料であるＰＥＴシートと比較し て、次のような点で格段に良好な効果が得られる。つまり、条件設定が容易で、 また再現性や生産性にも優れ、しかも安価なホログラム形成シートを容易に提供 出来るようになる。

【００２５】

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案のホログラム形成シートの一実施例を示
す断面図である。

【図２】本考案のエンボス成形工程を示す断面図であ
る。 １…二軸延伸高密度ポリエチレン製基材シート ２…金属薄膜反射層 ３…スタンパ ４…プレス機

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 【請求項１】基材シートの片側表面に、レリーフ型ホロ
   グラムを形成し、その上に金属薄膜反射層が重ってなる
   積層シートにおいて、基材シートとして二軸延伸高密度
   ポリエチレンを使用したことを特徴とするホログラム形
   成シート。