JPH056340U - 温度測定装置 - Google Patents
温度測定装置Info
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- JPH056340U JPH056340U JP4998491U JP4998491U JPH056340U JP H056340 U JPH056340 U JP H056340U JP 4998491 U JP4998491 U JP 4998491U JP 4998491 U JP4998491 U JP 4998491U JP H056340 U JPH056340 U JP H056340U
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 炉芯菅内におけるウェハ面内の温度分布を測
定する温度測定装置10において、前記ウェハと同じ平
面形状を有し、かつ同じ熱容量を有する治具11内部に
複数個の熱電対12が埋設されている温度測定装置。 【効果】 前記ウェハ面内の温度分布を測定するための
熱電対12を前記ウェハとともに前記炉芯管内に搬入す
ることができるとともに、熱電対12が埋設された治具
11が前記ウェハと同様の温度分布の変化を示すことに
より、熱処理時はもちろんのこと、前記ウェハを前記炉
芯管内に搬入する際にも前記ウェハの熱履歴を正確にモ
ニタすることができ、欠陥や析出物の予測及び制御等を
正確に行うことが可能となる。
定する温度測定装置10において、前記ウェハと同じ平
面形状を有し、かつ同じ熱容量を有する治具11内部に
複数個の熱電対12が埋設されている温度測定装置。 【効果】 前記ウェハ面内の温度分布を測定するための
熱電対12を前記ウェハとともに前記炉芯管内に搬入す
ることができるとともに、熱電対12が埋設された治具
11が前記ウェハと同様の温度分布の変化を示すことに
より、熱処理時はもちろんのこと、前記ウェハを前記炉
芯管内に搬入する際にも前記ウェハの熱履歴を正確にモ
ニタすることができ、欠陥や析出物の予測及び制御等を
正確に行うことが可能となる。
Description
【0001】
本考案は温度測定装置、より詳細には炉芯菅内におけるウェハ面内の温度分布 を測定する温度測定装置に関する。
【0002】
一般に、ウェハの大口径化と素子の微細化が進むにつれて、熱処理時のウェハ の詳細な熱履歴を把握することが重要視されている。これは、ウェハの熱履歴が ウェハ内の欠陥及び析出物の発生に影響を及ぼすことが明らかになってきている からである。
【0003】 従来の最も一般的な温度測定装置を図面に基づいて説明する。 図3において、19は炉芯管を示しており、炉芯管19の上方及び下方にそれ ぞれヒータ20、21が配設されている。炉芯管19と下方のヒータ21との間 には外部熱電対18が配設されており、炉芯管19内部には炉芯管19内部の温 度を測定するため、数カ所に内部熱電対17が固定されている。
【0004】 このように構成された温度測定装置において、ウェハの面内温度の測定は内部 熱電対17及び外部熱電対18により炉芯管19内部の温度及びヒータ21の温 度をそれぞれ測定することによって行われていた。
【0005】 また、図4に示したように、炉芯管19の外部に赤外線モニタ22を配設し、 この赤外線モニタ22によってウェハ15面内の温度分布を測定する方法がある 。この方法ではその上方及び下方にヒータ20、21が配設された炉芯管19内 に、ウェハボード16に載置されたウェハ15を搬入した場合、炉芯管19の外 部に配設された赤外線モニタ22によってウェハ15から放射される赤外線をモ ニタして、ウェハ15面内の温度分布を測定する。
【0006】
上記したウェハ15面内の温度測定装置においては、ウェハ15を炉芯管19 内に搬入する際に炉芯管19内の熱容量が大きく変化し、また大気の巻き込み等 の影響で炉芯管19内の温度が変化するとともに、ウェハ15面内の温度分布が 変化することが予想される。そこで、炉芯管19内の温度変化をできるだけ短時 間で回復させるために、PID制御や内部熱電対17と外部熱電対18のフィー ドバックの比率をコントロールする方法により、温度応答の改善に努力がなされ ている。しかし内部熱電対17及び外部熱電対18が炉芯管19に固定されてい る場合には、ウェハ15の正確な熱履歴を把握することができないという課題が あった。
【0007】 また、赤外線モニタ22によってウェハ15面内の温度分布を測定する方法で は、搬入時におけるウェハ15面内の温度測定は可能であるが、赤外線モニター 22の正面の1枚のウェハ15しか温度分布を測定することができないという課 題があった。
【0008】 本考案はこのような課題に鑑み考案されたものであって、炉芯管を使用する熱 処理工程において、ウェハの熱履歴を正確にモニタすることができる温度測定装 置を提供することを目的としている。
【0009】
上記目的を達成するために本考案に係る温度測定装置は、炉芯菅内におけるウ ェハ面内の温度分布を測定する温度測定装置において、ウェハと同じ平面形状を 有し、かつ同じ熱容量を有する治具内部に複数個の熱電対が埋設されていること を特徴としている。
【0010】
上記した構成によれば、炉芯菅内におけるウェハ面内の温度分布を測定する温 度測定装置において、ウェハと同じ平面形状を有し、かつ同じ熱容量を有する治 具内部に複数個の熱電対が埋設されているので、前記ウェハ面内の温度分布を測 定する前記熱電対が前記ウェハとともに前記炉芯管内に搬入され、前記熱電対が 埋設された前記治具が前記ウェハと同様の温度分布の変化を示すことにより、熱 処理時はもちろんのこと、前記ウェハを前記炉芯管内に搬入する際にも前記ウェ ハの熱履歴が正確にモニタされることとなる。
【0011】
以下、本考案に係る温度測定装置の実施例を図面に基づいて説明する。 図1は温度測定装置10を示す斜視図であり、図中11は石英ガラス製の治具 を示している。この治具11はシリコンウェハ15と同じ平面形状を有しており 、内部に複数個の熱電対12が埋設されている。また熱電対12には熱電対12 の出力電圧をモニタできるように石英細管13を通してリード線14が導出され ている。
【0012】 石英ガラス製の治具11は炉芯管内に搬入された際に、シリコンウェハ15と 同様の温度変化を示すことによってシリコンウェハ15面内の温度として測定さ れる。従って、治具11とシリコンウェハ15との熱容量を等しくする必要があ り表1に示したデータに基づいて、熱容量=比熱×体積×密度の関係から治具の 厚みを計算する必要がある。
【0013】
【表1】
【0014】 ここで、6インチウェハの面積をS、石英ガラス製治具11の厚みをdSiO2、 シリコンウェハ15の厚みをdSiとすると下記の数1が成立する。
【0015】
【数1】
【0016】 ここで、dSi=625μmとするとdSiO2=482μmとなる。つまり、シリ コンウェハ15の厚みが625μmの場合には、治具11の厚みを482μmに すればよいことになる。
【0017】 図2に温度測定装置10を石英ボード16上に配置した例を示す。シリコンウ ェハ15の熱履歴をより正確に測定しようとする場合には、温度測定装置10を シリコンウェハ15の前後に配置してシリコンウェハ15を挟むように配置すれ ば良い。また、シリコンウェハ15の搬入速度、昇温レート及び処理枚数等を変 化させない場合には、石英ボード16上のすべての位置に温度測定装置10を載 置して、あらかじめ熱履歴を測定することも可能である。
【0018】 なお、本実施例において、治具11として石英ガラス製のものについて説明し ているが、シリコンウェハ15と同じ平面形状を有し、シリコンウェハ15と同 等の熱容量を示す形態に治具11を加工することができ、ウェハ15の汚染源と ならなければ、石英ガラス製のものに限定されるものではない。
【0019】 このように上記実施例によれば、シリコンウェハ15面内の温度分布を測定す るための熱電対12をシリコンウェハ15とともに炉芯管内に搬入することがで きるとともに、熱電対12が埋設された治具11がシリコンウェハ15と同様の 温度変化を示すので、シリコンウェハ15を炉芯管内に搬入する際にもシリコン ウェハ15の熱履歴を正確にモニタすることができ、欠陥や析出物の予測及び制 御等を正確に行うことが可能となる。
【0020】
【考案の効果】 以上詳述したように本考案に係る温度測定装置にあっては、炉芯菅内における ウェハ面内の温度分布を測定する温度測定装置において、ウェハと同じ平面形状 を有し、かつ同じ熱容量を有する治具内部に複数個の熱電対が埋設されているの で、前記ウェハ面内の温度分布を測定するための前記熱電対を前記ウェハととも に前記炉芯管内に搬入することができるとともに、前記熱電対が埋設された前記 治具が前記ウェハと同様の温度分布の変化を示すことにより、熱処理時はもちろ んのこと、前記ウェハを前記炉芯管内に搬入する際にも前記ウェハの熱履歴を正 確にモニタすることができ、欠陥や析出物の予測及び制御等を正確に行うことが 可能となる。
【図1】本考案に係る温度測定装置の実施例を示した斜
視図である。
視図である。
【図2】温度測定装置の配置例を示した模式的断面図で
ある。
ある。
【図3】従来の温度測定装置を示した概略断面図であ
る。
る。
【図4】温度測定装置として赤外線モニタを配置した場
合の側面断面図である。
合の側面断面図である。
10 温度測定装置 11 治具 12 熱電対 15 ウェハ
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 【請求項1】 炉芯菅内におけるウェハ面内の温度分布
を測定する温度測定装置において、ウェハと同じ平面形
状を有し、かつ同じ熱容量を有する治具内部に複数個の
熱電対が埋設されていることを特徴とする温度測定装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4998491U JP2534193Y2 (ja) | 1991-06-28 | 1991-06-28 | 温度測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4998491U JP2534193Y2 (ja) | 1991-06-28 | 1991-06-28 | 温度測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH056340U true JPH056340U (ja) | 1993-01-29 |
JP2534193Y2 JP2534193Y2 (ja) | 1997-04-30 |
Family
ID=12846286
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4998491U Expired - Lifetime JP2534193Y2 (ja) | 1991-06-28 | 1991-06-28 | 温度測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2534193Y2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0180061U (ja) * | 1987-11-17 | 1989-05-29 | ||
JP2001318006A (ja) * | 2000-05-11 | 2001-11-16 | Fenwall Controls Of Japan Ltd | 温度測定装置 |
JP2001345275A (ja) * | 2000-06-01 | 2001-12-14 | Tokyo Electron Ltd | 熱処理装置、熱処理装置の制御方法、および基板の周縁測定箇所の決定方法 |
JP2022508112A (ja) * | 2018-11-14 | 2022-01-19 | サイバーオプティクス コーポレーション | 改良されたウエハー状センサ |
-
1991
- 1991-06-28 JP JP4998491U patent/JP2534193Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0180061U (ja) * | 1987-11-17 | 1989-05-29 | ||
JP2001318006A (ja) * | 2000-05-11 | 2001-11-16 | Fenwall Controls Of Japan Ltd | 温度測定装置 |
JP4504509B2 (ja) * | 2000-05-11 | 2010-07-14 | 日本フェンオール株式会社 | 温度測定装置 |
JP2001345275A (ja) * | 2000-06-01 | 2001-12-14 | Tokyo Electron Ltd | 熱処理装置、熱処理装置の制御方法、および基板の周縁測定箇所の決定方法 |
JP4536214B2 (ja) * | 2000-06-01 | 2010-09-01 | 東京エレクトロン株式会社 | 熱処理装置,および熱処理装置の制御方法 |
JP2022508112A (ja) * | 2018-11-14 | 2022-01-19 | サイバーオプティクス コーポレーション | 改良されたウエハー状センサ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2534193Y2 (ja) | 1997-04-30 |
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Legal Events
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