JPH0562813B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0562813B2 JPH0562813B2 JP60142953A JP14295385A JPH0562813B2 JP H0562813 B2 JPH0562813 B2 JP H0562813B2 JP 60142953 A JP60142953 A JP 60142953A JP 14295385 A JP14295385 A JP 14295385A JP H0562813 B2 JPH0562813 B2 JP H0562813B2
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- JP
- Japan
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- light
- optical fiber
- optical system
- shaped
- illumination
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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Links
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims description 26
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 23
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 23
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 9
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、半導体及び電子回路等の形成に用い
られる露光装置の照明光学系に関するものであ
る。
られる露光装置の照明光学系に関するものであ
る。
従来の技術
近年、半導体製造におけるパターンの一括露光
は反射型投影露光装置によつて行われ、その照明
光学系は円弧スリツト状照明を必要とする。そし
て、近年点光源から円弧スリツト状照明を作るた
めに光フアイバーを用いたものが提唱されてい
る。以下図面を参照しながら、光フアイバーを用
いた従来の露光装置の照明光学系の一例について
説明する。
は反射型投影露光装置によつて行われ、その照明
光学系は円弧スリツト状照明を必要とする。そし
て、近年点光源から円弧スリツト状照明を作るた
めに光フアイバーを用いたものが提唱されてい
る。以下図面を参照しながら、光フアイバーを用
いた従来の露光装置の照明光学系の一例について
説明する。
第３図は従来の照明光学系の原理図を示すもの
である。第３図において、１４は超高圧水銀ラン
プ、１５は楕円面反射鏡、１６は円板状入射端１
７と円弧状に整形した射出端１８とを備えた石英
光フアイバー束、１９は照明されるべきマスクで
ある。
である。第３図において、１４は超高圧水銀ラン
プ、１５は楕円面反射鏡、１６は円板状入射端１
７と円弧状に整形した射出端１８とを備えた石英
光フアイバー束、１９は照明されるべきマスクで
ある。
以上のように構成された露光装置の照明光学系
の動作は、楕円面反射鏡１５の第１焦点に置かれ
た超高圧水銀灯１４のアーク光は光線２０，２１
の如く反射して、楕円面反射鏡１５の第２焦点に
置かれた光フアイバー束１６の円板状入射端１７
より入り、光フアイバーを通つて円弧状に整形し
た射出端１８より出てマスクを照明する。この時
光フアイバー束のフアイバー素線による光点のム
ラの影はマスク１９とフアイバー射出端１８との
距離によるボケと露光時の走査により緩和される
というものであつた。
の動作は、楕円面反射鏡１５の第１焦点に置かれ
た超高圧水銀灯１４のアーク光は光線２０，２１
の如く反射して、楕円面反射鏡１５の第２焦点に
置かれた光フアイバー束１６の円板状入射端１７
より入り、光フアイバーを通つて円弧状に整形し
た射出端１８より出てマスクを照明する。この時
光フアイバー束のフアイバー素線による光点のム
ラの影はマスク１９とフアイバー射出端１８との
距離によるボケと露光時の走査により緩和される
というものであつた。
第４図は従来のもう一つの例を示す露光装置の
照明光学系の斜視原理図である。３６は超高圧水
銀灯、３７はその周囲に４個配置された集光レン
ズ、３８は光フアイバー束３９の４つに分かれた
分岐、３９はその入射端、４０は円弧スリツト状
に整形された射出端である。その動作は超光圧水
銀灯のアーク光は、集光レンズ３７でとらえら
れ、集光して、光フアイバー束３９の分岐光フア
イバー束３８の入射端３９より入射して、系フア
イバー束３９で４分岐が集まり、円弧スリツト状
射出端より出る。
照明光学系の斜視原理図である。３６は超高圧水
銀灯、３７はその周囲に４個配置された集光レン
ズ、３８は光フアイバー束３９の４つに分かれた
分岐、３９はその入射端、４０は円弧スリツト状
に整形された射出端である。その動作は超光圧水
銀灯のアーク光は、集光レンズ３７でとらえら
れ、集光して、光フアイバー束３９の分岐光フア
イバー束３８の入射端３９より入射して、系フア
イバー束３９で４分岐が集まり、円弧スリツト状
射出端より出る。
以上のように、光フアイバー束の入射端を複数
に分岐させることにより、簡単な光学系で、高効
率で光を集光することができるという効果を有す
るというものであつた。
に分岐させることにより、簡単な光学系で、高効
率で光を集光することができるという効果を有す
るというものであつた。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら上記のような構成では、光フアイ
バーを束ねて固着するための接着剤の露出した部
分が円形状に集中し、その露出部分に高密度の光
が照射されることになり、入射端が焼損したり、
その冷却に大量の吹付けエヤーを消費するもので
あつた。
バーを束ねて固着するための接着剤の露出した部
分が円形状に集中し、その露出部分に高密度の光
が照射されることになり、入射端が焼損したり、
その冷却に大量の吹付けエヤーを消費するもので
あつた。
また第４図に示す従来例は点光源の周囲に複数
のレンズを配列するというものであつたが、これ
とてすべての光を集光できるものではなかつた。
のレンズを配列するというものであつたが、これ
とてすべての光を集光できるものではなかつた。
本発明は上記問題点に鑑み、簡単な構成で、光
フアイバー入射端の温度が低く、光のムラが小さ
く、点光源の光の大部分を効率良く電送すること
のできる露光装置の照明光学系を提供するもので
ある。
フアイバー入射端の温度が低く、光のムラが小さ
く、点光源の光の大部分を効率良く電送すること
のできる露光装置の照明光学系を提供するもので
ある。
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決するために本発明の露光装置
の照明光学系は、光源と、複数の光フアイバーが
束ねられて構成され、前記光源から発せられた光
が入射する一端面が環状に形成され、かつ光が出
射する他端面が円弧状に整形された集光光学系と
からなるものである。
の照明光学系は、光源と、複数の光フアイバーが
束ねられて構成され、前記光源から発せられた光
が入射する一端面が環状に形成され、かつ光が出
射する他端面が円弧状に整形された集光光学系と
からなるものである。
作 用
本発明は上記した構成によつて、ランプ光を均
一で集光しやすい方法で光フアイバーの入射端に
入射させ、光を光フアイバーで送り、射出端を必
要な円弧スリツト状にフアイバーを整形すること
によつて、反射投影露光装置に必要な照明光を得
るものであり、光フアイバーの入射端が高温にな
り過ぎず、冷却もしやすく、光のムラが小さく点
光源の光の大部分を効率良く伝送することができ
る。
一で集光しやすい方法で光フアイバーの入射端に
入射させ、光を光フアイバーで送り、射出端を必
要な円弧スリツト状にフアイバーを整形すること
によつて、反射投影露光装置に必要な照明光を得
るものであり、光フアイバーの入射端が高温にな
り過ぎず、冷却もしやすく、光のムラが小さく点
光源の光の大部分を効率良く伝送することができ
る。
実施例
以下本発明の一実施例の露光装置の照明光学系
について、図面を参照しながら説明する。
について、図面を参照しながら説明する。
第１図は本発明の第１の実施例を示す露光装置
の照明光学系の原理図である。２７は超高圧水銀
灯、２８は反射鏡、２９は光フアイバー束であ
り、第３図の構成と異なるのは光フアイバー束２
９の入射端３０を環状になし、同時に光の入射方
向に直角にすることで、照明の均一化と光の入射
ロスの減少の効果を有する。また環状部の直径を
大きくすることで光の密度を小さくすることがで
き、冷却も容易となり、入射光のムラも減少させ
ることができる。
の照明光学系の原理図である。２７は超高圧水銀
灯、２８は反射鏡、２９は光フアイバー束であ
り、第３図の構成と異なるのは光フアイバー束２
９の入射端３０を環状になし、同時に光の入射方
向に直角にすることで、照明の均一化と光の入射
ロスの減少の効果を有する。また環状部の直径を
大きくすることで光の密度を小さくすることがで
き、冷却も容易となり、入射光のムラも減少させ
ることができる。
第２図は本発明の第２の実施例を示す露光装置
の照明光学系の部分断面斜視図である。３１は超
高圧水銀灯、３２はこれを取り巻く環状集光レン
ズ、３３は円弧スリツト状射出端３５を有する光
フアイバー束であり、その入射端３４は、円板状
の入射端を水銀灯アーク部に向けてある。その動
作は、超高圧水銀灯３１を出た光は環状集光レン
ズ３２で集光され、光フアイバー束３３の入射端
３４の位置の円輪上に集まり光フアイバー３３に
入射し、円弧スリツト状射出端３５より出る。
の照明光学系の部分断面斜視図である。３１は超
高圧水銀灯、３２はこれを取り巻く環状集光レン
ズ、３３は円弧スリツト状射出端３５を有する光
フアイバー束であり、その入射端３４は、円板状
の入射端を水銀灯アーク部に向けてある。その動
作は、超高圧水銀灯３１を出た光は環状集光レン
ズ３２で集光され、光フアイバー束３３の入射端
３４の位置の円輪上に集まり光フアイバー３３に
入射し、円弧スリツト状射出端３５より出る。
以上のように、第１図の実施例と同様に光フア
イバー束３３の入射端３４を環状にすることで、
照明の均一化と光の入射ロスの減少の効果を有す
る。そして第４図の従来の例に比べ、点光源ラン
プの光の大部分を有効に集光することができる。
イバー束３３の入射端３４を環状にすることで、
照明の均一化と光の入射ロスの減少の効果を有す
る。そして第４図の従来の例に比べ、点光源ラン
プの光の大部分を有効に集光することができる。
なお、第１および第２の実施例において、光路
の反射鏡を熱線透過型としたり、熱線透過型反射
鏡を特に光路に挿入したり、熱線吸収フイルター
を光路に入れて熱線による害を減少させることが
できる。
の反射鏡を熱線透過型としたり、熱線透過型反射
鏡を特に光路に挿入したり、熱線吸収フイルター
を光路に入れて熱線による害を減少させることが
できる。
発明の効果
以上のように本発明は、点光源ランプと光フア
イバーを用いて露光装置に必要な円弧スリツト状
照明光を得るに当り、光フアイバーの入射端が焼
損することなく、冷却も容易で、光のムラが少
く、光の集光・伝送効率の高い露光装置の照明光
学系を提供するものである。
イバーを用いて露光装置に必要な円弧スリツト状
照明光を得るに当り、光フアイバーの入射端が焼
損することなく、冷却も容易で、光のムラが少
く、光の集光・伝送効率の高い露光装置の照明光
学系を提供するものである。
第１図は本発明の第１の実施例における露光装
置の照明光学系の原理図、第２図は本発明の第２
の実施例の原理図、第３図は従来の照明光学系の
原理図、第４図は従来のもう一つの照明光学系の
原理図である。 ２７，３１……超高圧水銀灯、２８……反射
鏡、３２……環状集光レンズ、２９，３３……光
フアイバー束、３０，３４……環状入射端、３５
……円弧スリツト状射出端。
置の照明光学系の原理図、第２図は本発明の第２
の実施例の原理図、第３図は従来の照明光学系の
原理図、第４図は従来のもう一つの照明光学系の
原理図である。 ２７，３１……超高圧水銀灯、２８……反射
鏡、３２……環状集光レンズ、２９，３３……光
フアイバー束、３０，３４……環状入射端、３５
……円弧スリツト状射出端。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 光源と、 複数の光フアイバーが束ねられて構成され、前
記光源から発せられた光が入射する一端面が環状
に整形され、かつ光が出射する他端面が円弧状に
整形された集光光学系とからなる露光装置の照明
光学系。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60142953A JPS622618A (ja) | 1985-06-28 | 1985-06-28 | 露光装置の照明光学系 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60142953A JPS622618A (ja) | 1985-06-28 | 1985-06-28 | 露光装置の照明光学系 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS622618A JPS622618A (ja) | 1987-01-08 |
| JPH0562813B2 true JPH0562813B2 (ja) | 1993-09-09 |
Family
ID=15327490
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60142953A Granted JPS622618A (ja) | 1985-06-28 | 1985-06-28 | 露光装置の照明光学系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS622618A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07142369A (ja) * | 1993-11-15 | 1995-06-02 | Nec Corp | 露光装置 |
-
1985
- 1985-06-28 JP JP60142953A patent/JPS622618A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS622618A (ja) | 1987-01-08 |
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