JPH0558733A - 炭化珪素質成形体及びその製法 - Google Patents

炭化珪素質成形体及びその製法

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JPH0558733A
JPH0558733A JP3219096A JP21909691A JPH0558733A JP H0558733 A JPH0558733 A JP H0558733A JP 3219096 A JP3219096 A JP 3219096A JP 21909691 A JP21909691 A JP 21909691A JP H0558733 A JPH0558733 A JP H0558733A
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silicon
perhydropolysilazane
molded body
ceramic precursor
silicon carbide
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Application number
JP3219096A
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English (en)
Inventor
Toru Funayama
徹 舟山
Tomohiro Kato
智浩 加藤
Rika Takatsu
利佳 高津
Yuji Tashiro
裕治 田代
Kiyoshi Sato
清 佐藤
Takeshi Isoda
武志 礒田
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Tonen General Sekiyu KK
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Tonen Corp
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【構成】 珪素、窒素及び炭素を必須成分とし、酸素、
水素及びAl,B,Ti,Zr,Hf,Yから選ばれる
金属元素を任意成分とし、各元素の比が原子比で表わし
て、N/Si=0.01〜1、C/Si=0.1〜1.
5、O/Si=0.3以下、M/Si=0.002〜
0.5(M:B,Al,Ti,Zr,Hf,Yから選ば
れる)、H/Si=0.1以下であって、珪素、窒素及
び炭素からなる非晶質と結晶粒径が500Å以下のβ−
SiCの結晶質微粒子の集合体または混合系よりなる炭
化珪素質成形体であって、珪素含有熱可塑性セラミック
前駆体とペルヒドロポリシラザンを反応させて熱硬化性
セラミック前駆体ブロック共重合体を得、これを成形、
焼成して製造する。 【効果】 比較的低温での焼成でセラミック化し、複雑
形状成形体の製造に適する。機械的強度、耐熱性に優れ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は炭化珪素質成形体とその
製法に係る。より詳しく述べると、この炭化珪素質成形
体は、主としてSi、N及びCからなる炭化珪素を主相
とする新規な成形体であり、機械的強度、耐熱性、耐酸
化性に優れているため、広範な産業分野での応用が期待
されるものである。
【0002】
【従来の技術】 ポリカルボシランを焼成してSiC含有成形体を得る
方法は報告されている。(特開昭53-94314号、同54−38
15号、同54-16521号公報) ポリチタノカルボシランを焼成してSi−Ti−C成
形体を、ポリジルコノカルボシランを焼成してSi−Z
r−C成形体を得る方法も報告されている。(特開昭56
-88877号、同56−134567号公報) 有機シラザンを焼成してSi−C−N成形体を得る方
法は報告されている。(特開昭49-69717号、同49-20206
号、同62−202863号公報;米国特許第 4,482,669号) ペルヒドロポリシラザンからSi−N成形体を得る方
法は本出願人らがすでに出願済みである。(特開昭62−
125015号公報)
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記のうち、ポリカル
ボシラン、ポリチタノカルボシラン、ポリジルコノカル
ボシラン、有機シラザンには不融化工程が不可欠であ
り、工程が煩雑になり、しかも簡便な熱酸化不融化時に
導入される不純物酸素のため成形体の機械的強度、耐熱
性に問題があった。
【0004】また、これらの前駆体より誘導されたセラ
ミックス中には遊離炭素を多く含んでおり、高温耐酸化
性に問題があった。一方、ペルヒドロポリシラザンから
はポリマー中に炭素が含まれていないため炭化珪素を主
相とするセラミックスは製造できなかった。そこで、本
発明は、不融化工程が不要で、そのため酸素の取り込み
がなく、かつ遊離炭素の少ない炭化珪素質成形体及びそ
の製造方法を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は珪素、窒素及び炭素を必須成分とし、酸
素、水素及びAl,B,Ti,Zr,Hf,Yから選ば
れる金属元素を任意成分とし、各元素の比が原子比で表
わして、N/Si=0.01〜1、C/Si=0.1〜
1.5、O/Si=0.3以下、M/Si=0.002
〜0.5(M:B,Al,Ti,Zr,Hf,Yから選
ばれる)、H/Si=0.1以下であって、実質的に珪
素、窒素及び炭素からなる非晶質または珪素、窒素及び
炭素からなる非晶質と結晶粒径が500Å以下のβ−S
iCの結晶質微粒子の集合体または混合系よりなり、し
かも空気に対するX線小角散乱強度比が1°及び0.5
°において各々1倍〜20倍であることを特徴とする炭
化珪素質成形体、およびこの炭化珪素質成形体の製法と
して、珪素含有熱可塑性セラミック前駆体とペルヒドロ
ポリシラザンとから数平均分子量200〜500,00
0の熱硬化性セラミック前駆体ブロック共重合体を製造
する工程と、該熱硬化性セラミック前駆体ブロック共重
合体を用いて所望の成形体を得、該成形体を焼成してセ
ラミック成形体を得る工程からなることを特徴とする、
実質的に珪素、窒素及び炭素からなる炭化珪素質成形体
の製造方法を提供する。
【0006】本発明の炭化珪素質成形体は、珪素、窒素
及び炭素を必須成分とし、酸素、水素及びAl,B,T
i,Zr,Hf,Yから選ばれる金属元素を任意成分と
する無機成形体であり、結晶性については、結晶又は非
晶質の如何を問わないが、実質的に非晶質であるものが
好ましい。即ち、X線回折分析による非晶質のものまた
は結晶子の大きさ(X線回折半値巾法(JONES法)
を用いて測定)がすべての方位で500Å以下の微結晶
相(β−SiC)を含有するものが好ましい。
【0007】本発明の炭化珪素質成形体を構成する各元
素の比率は原子比で表わして、 N/Si 0.01〜1 C/Si 0.1〜1.5 O/Si 0.3以下 M/Si 0.002〜0.5 であり、好ましい原子比は、 N/Si 0.05〜0.8 O/Si 0.25以下 C/Si 0.2〜1.2 M/Si 0.004〜0.3 である。更に好ましい原子比は、 N/Si 0.1〜0.7 O/Si 0.2以下 C/Si 0.5〜1.0 M/Si 0.008〜0.2 である。
【0008】元素比が上記の範囲に包含されない場合、
機械的強度、耐熱性及び耐酸化性が低下する。金属Mと
しては、Al,B,Ti,Zr,Hf,Yから選択す
る。更に、本発明者らの検討によれば、セラミックス成
形体が、特定の小角散乱強度を有することが極めて有用
であることが判明した。セラミックス成形体として有用
であるためには、小角散乱強度が1°及び0.5°にお
いて各々空気の散乱強度の1倍〜20倍の範囲にされ
る。好ましい小角散乱強度比は、1〜10倍であり、更
に好ましい強度は、1°及び0.5°のいずれもが1倍
〜5倍の範囲である。
【0009】小角散乱強度は、無機成形体の内部の微細
孔、即ちボイド(Void)又は空孔の存在を検知する
ものであり、成形体中に微細孔が存在すれば、系内の電
子密度の偏在により小角散乱が観測される。小角散乱強
度の測定は、一般に日本化学会編「実験化学講座4固体
物理学」(1956年)に記載される方法で行われる
が、本発明に係る炭化珪素質成形体の測定においては、
以下に示される方法が採用される。
【0010】理学電機株式会社製RJ−200B型にP
SPC(位置検出比例計数装置)−5を持続し、管電圧
45KV、管電流95mA、第1及び第2スリットを各々
0.2mmφ、0.15mmφのものを使用し、0.02°
毎に1000秒積算して散乱強度を測定した。試料とし
てセラミック成形体を切り出し、10mm長さ×4mm巾の
スリット内に均一に張りつけ、1°及び0.5°におけ
る空気散乱強度と比較して強度比I(窒化珪素質成形
体)/I′(空気)を算出した。
【0011】本発明の炭化珪素質成形体の製造に使用さ
れる数平均分子量200〜500,000の熱硬化性セ
ラミック前駆体ブロック共重合体は、熱硬化性セラミッ
ク前駆体ブロック共重合体を成形、焼成して製造され
る。そして、この共重合体は、式−(SiH2 NH)−
で表される繰り返し単位からなる骨格を有し数平均分子
量が100〜50,000のペルヒドロポリシラザン
と、数平均分子量が100〜50,000の熱可塑性珪
素含有ポリマーとを反応させることによって製造され
る。
【0012】また、この製造において、ペルヒドロポリ
シラザン及び熱可塑性珪素含有セラミック前駆体と共
に、式MXn (式中、MはAl,B,Ti,Zr,Hf
から選ばれる少なくとも1種の金属元素であり、Xは同
一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、
水酸基、カルボニル基、又は、炭素原子数1〜20個
の、アルコキシ基、フェノキシ基、アセチルアセトキシ
基、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、ア
ルキルアミノ基又はアミノ基であり、nは金属元素Mの
原子価数である。)とを、(全成分中のSi)/Mの原
子比500以下で反応させることができる。
【0013】ペルヒドロポリシラザンは加熱するだけで
Si−H結合又はN−H結合を有する多くの熱可塑性珪
素含有セラミック前駆体と結合するが、ペルヒドロポリ
シラザンブロックと熱可塑性珪素含有セラミック前駆体
ブロックとからなる共重合体は、ペルヒドロポリシラザ
ンブロックと熱可塑性珪素含有セラミック前駆体ブロッ
クとが主鎖同士で結合した構造、あるいはこれらのブロ
ックの側鎖基が反応して架橋した構造、あるいはその両
方を有する構造であることができる。熱可塑性珪素含有
セラミック前駆体内に官能基が存在する場合にはペルヒ
ドロポリシラザンは加熱するだけで多くの熱可塑性珪素
含有セラミック前駆体中の官能基と反応し結合を形成す
る。官能基がないとき、あるいは反応性が低いときは、
熱可塑性珪素含有セラミック前駆体の末端あるいは側鎖
に反応性の基を導入することにより、容易に結合を形成
させることができる。
【0014】本発明で用いるペルヒドロポリシラザン
は、式−(SiH2 NH)−で表される繰り返し単位か
らなる骨格を有する、すなわち側鎖がすべて水素原子で
あるポリシラザンであり、主として鎖状であるが、環状
部分を含み、さらには架橋構造を有することができる。
このようなペルヒドロポリシラザンとしては、ジクロロ
シラン・ピリジン錯体のアンモノリシスで得られるペル
ヒドロシラザンオリゴマー(特公昭63−16325号
公報)、このオリゴマーを塩基性溶液中で加熱して得ら
れる無機高重合体(特開平1−138108号公報)、
オリゴマーをアンモニア等と反応させて得られる改質ポ
リシラザン(特開平1−138107号公報)などを用
いることができる。ペルヒドロポリシラザンはSi−
H,N−H結合があり、反応性が大きいので共重合化が
容易であり、かつ熱硬化性であるので、本発明の目的に
最適である。またSiC前駆体との共重合化において
は、繰り返し単位にCが存在しないのでSiC前駆体の
最大の欠点である遊離炭素の残留を抑制する効果があ
る。
【0015】ペルヒドロポリシラザンの分子量は、数平
均分子量で100〜50,000の範囲のものを用い
る。分子量がこれより小さいとセラミック収率に優れた
高分子量の共重合体が得られない。またこれより大きい
と重合によりゲル化する。本発明で用いることができる
熱可塑性珪素含有セラミック前駆体は、主鎖に珪素を含
むポリシラン、ポリカルボシラン、ポリシロキサン、ポ
リシラザンなどであることができ、特に炭化珪素系前駆
体ポリマーであるポリカルボシラン、ポリシラスチレ
ン、ポリカルボシラスチレン、メチルポリシラン、フェ
ニルポリシラン、ポリチタノカルボシラン、ポリジルコ
ノカルボシラン、ポリジシリラザン等を好ましく用いる
ことができる。これらのポリマーがペルヒドロポリシラ
ザンと反応する基を有する場合には直接両ポリマーを混
合、加熱することにより共重合体が生成する。ペルヒド
ロポリシラザンと反応する基にはアミド基、イミド基、
ヒドロシリル基、水酸基、アルコキシ基、カルボキシル
基、ケト基、ハロゲン原子、エポキシ基等がある。
【0016】熱可塑性珪素含有セラミック前駆体の分子
量は、数平均分子量で100〜50,000の範囲のも
のを用いる。分子量がこれより小さいと反応中に揮発
し、ポリマー収率が低い。またこれより大きいと重合に
より共重合体がゲル化する。上記の如く、多くの熱可塑
性珪素含有セラミック前駆体とペルヒドロポリシラザン
は直接加熱すると結合を形成する。通常、溶媒を用いる
が、溶媒は熱可塑性珪素含有セラミック前駆体及びペル
ヒドロポリシラザンと反応しないものであればよく、例
えば塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、ブロモ
ホルム、塩化エチレン、塩化エチリデン、トリクロロエ
タン、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素、エ
チルエーテル、イソプロピルエーテル、エチルブチルエ
ーテル、ブチルエーテル、1,2−ジオキシエタン、ジ
オキサン、ジメチルジオキサン、テトラヒドロフラン、
テトラヒドロピラン等のエーテル類、ペンタン、ヘキサ
ン、イソヘキサン、メチルペンタン、ヘプタン、イソヘ
プタン、オクタン、イソオクタン、シクロペンタン、メ
チルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘ
キサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼ
ン等の炭化水素類である。反応温度は限定するわけでは
ないが、0〜300℃の範囲が好ましい。反応時間は、
通常、30分以上あればよい。
【0017】また、熱可塑性珪素含有セラミック前駆体
がペルヒドロポリシラザンと反応する基を有する場合
も、有していない場合も、架橋結合させるために、さら
に金属化合物を添加することができる。架橋結合を形成
する金属化合物としては、例えば、B,Al,Ti,Z
r,Hf,等のハロゲン化物、水酸化物、アルキル化
物、アルコキシド、アセチルアセトナート、メタロセン
等を用いることができる。これらの金属化合物はペルヒ
ドロポリシラザンの珪素あるいは窒素原子と結合してい
る水素原子と反応し、また熱可塑性珪素含有セラミック
前駆体の側鎖基と反応して、主として、ペルヒドロポリ
シラザンの珪素あるいは窒素原子と熱可塑性珪素含有セ
ラミック前駆体の主鎖を構成する珪素等の原子とを金属
原子を介して結合した架橋結合を形成する。あるいは、
熱可塑性珪素含有セラミック前駆体の側鎖基中の反応性
部位と反応して側鎖を介して架橋結合を形成する。この
ような架橋結合を導入することによりペルヒドロポリシ
ラザンの熱硬化性を十分に反映した共重合体を得ること
ができる。
【0018】架橋結合を形成するための金属化合物の量
は、出発ポリマー中の珪素原子の合計に対する金属原子
の原子数比が500以下が好ましい。こうして、本発明
によれば、熱可塑性珪素含有セラミック前駆体とペルヒ
ドロポリシラザンとが直接結合して得られる熱硬化性共
重合体又は、熱可塑性珪素含有セラミック前駆体及びペ
ルヒドロポリシラザンに金属化合物を添加して混合反応
させて得られる熱硬化性共重合体が得られる。得られる
共重合体の分子量は200から500,000の範囲と
する。この分子量が大きすぎると、ゲルを形成し、溶媒
に対する溶解性が著しく悪くなる。
【0019】また、得られる共重合体に於けるペルヒド
ロポリシラザンブロックと熱可塑性珪素含有セラミック
前駆体ブロックとの比は、結果としてポリマーが熱硬化
性になればよく特に限定されないが、一般にそれぞれの
ブロックに含まれる珪素原子の比で0.5以上、好まし
くはこの比が1以上である。この比が大きいことによ
り、熱硬化性のペルヒドロポリシラザンブロックが熱可
塑性ブロックの軟化を阻害し、結果として熱硬化性の共
重合体が得られる。
【0020】こうして得られた熱硬化性共重合体は有機
溶媒に可溶であり、賦形化セラミックスが容易に得られ
る。また、セラミックス中の遊離Cをポリマーの組成を
変えることで抑制できると共に、不融化工程で混入する
不純物も抑制できる。炭化珪素前駆体ポリマーから得ら
れるSiCに比べ、熱硬化性セラミック前駆体ブロック
共重合体から誘導されるSiCにはNが導入されている
ため、高温まで非晶質〜微結晶構造を保持する。このた
め、熱硬化性セラミック前駆体ブロック共重合体から得
られる構造材の高温強度の改善が図れる。
【0021】この熱硬化性ブロック共重合体は、成形し
て焼成する。たとえば、固体状の熱硬化性ブロック共重
合体を用いた場合には、このものを炭化水素類、ハロゲ
ン化炭化水素類、エーテル類等の有機溶媒に溶解させ、
これを所望形状の成形型に充填する。次に常圧で、使用
した有機溶媒の沸点以上の温度で加熱するか、減圧下で
加熱して有機溶媒を除去することで熱硬化性ブロック共
重合体成形体を得る。また、液体状の熱硬化性ブッロッ
ク共重合体を使用する場合には、これを所望の形状の成
形型に充填した後、真空下、あるいは後記する種々のガ
ス雰囲気下常圧から10気圧で室温から400℃の任意
の温度に昇温し、その温度に保持することによって成形
体を得る。保持する時間は0.5時間以上であればよ
い。
【0022】更に、固体状の熱硬化性ブロック共重合体
を所望形状の成形型に充填し、常温〜400℃、前記雰
囲気ガス下で常圧から10気圧の範囲に保持する方法等
も採用される。雰囲気ガスとしては、窒素、アルゴン、
ヘリウム等の不治性ガス:アンモニア、メチルアミン、
ヒドラジン、水素等の還元性ガス:空気、酸素、オゾン
等の酸化性ガス:あるいはこれらの混合ガスが使用でき
る。
【0023】また、硬化剤の使用も可能である。硬化剤
としては、アルキルアミン、アルキレンジアミン等の有
機アミン類、シュウ酸無水物、マロン酸無水物等のカル
ボン酸無水物、アルキルイソシアネート、例えばメチル
イソシアネート、ジメチルシリルジイソシアネート等の
イソシアネート類、ブタンジチオール、ベンゼンジチオ
ール等のチオール類、マロン酸イミド、コハク酸イミド
の如きカルボキシイミド類、元素周期律表第IIa族及び
第III 族〜第V族の群から選択される金属を含む金属ア
ルコキシド類、鉄、コバルト、ニッケル、銅、銀、金、
水銀、亜鉛、ルテニウム、パラジウム、インジウム、チ
タン、ハフニウム、ジルコニウム、アルミニウム、ホウ
素、リン等のハロゲン化物等が使用される。
【0024】また、クラックの発生防止及び強度の増大
を目的として、必要に応じ添加されるセラミック粉末と
しては各種金属の窒化物、炭化物、酸化物等が挙げられ
る。成形型としては従来公知のものが任意に使用できる
が、成形体の取出し性や成形体の表面を保護するために
成形型内の内面に離型剤、たとえばシリコーンをベース
とした離型剤を塗布したり、あるいはグリースを薄く塗
布するか、有機溶剤に分散したグリースをスプレーまた
はハケ塗り等の塗布手段により塗布しておくことが望ま
しい。
【0025】本発明の共重合体は熱硬化性であるから、
不融化工程は不要である。不融化工程を省略できれば工
程が簡単化されるのみならず、不融化工程で成形体に酸
素が不純物として取り込まれることを防止することがで
き、高純度、高品質の最終炭化珪素質成形体を得ること
ができる。こうして、成形して得られる成形体は、A
r,N2 ,H2 あるいはこれらの混合気流中、場合によ
っては加圧雰囲気下あるいは減圧下で600〜1800
℃の温度で焼成してセラミック成形体を形成する。
【0026】また、成形体の焼成はホットプレス等の加
圧焼成によって、より特性の優れた成形体を得ることも
可能である。ホットプレスは、熱硬化性ブロック共重合
体成形体を直接治具内に置くか、あるいは、各種セラミ
ック粉末をパウダーベッドとして用い、圧力10kg/cm
2 〜600kg/cm2 、温度600〜1800℃の任意の
条件に保持し、焼成する。場合によっては圧力常圧〜2
000気圧、温度600〜1800℃の任意の条件でH
IP処理も有効である。保持する時間は0.5時間以上
であればよい。
【0027】
【作用及び発明の効果】本発明の炭化珪素質成形体及び
その製造方法では、焼成前の形状を保持した炭化珪素質
セラミック成形体が比較的低温で得られる。また、前駆
体ポリマーは熱硬化性だが、有機溶媒に可溶なため、複
雑形状のセラミックスの製造が容易である。
【0028】また、煩雑な不融化工程を必要としない。
そして、炭化珪素質成形体は不融化に由来する不純物を
含まないため、高温まで非晶質または非晶質中に均一に
分散した微結晶構造を保持し、従来のセラミック成形体
に比べ、機械強度の改善が図れる。また、炭化珪素質成
形体は本質的に非晶質または非晶質中に均一分散した微
結晶からなるため、大きい機械強度を有する。
【0029】また、炭化珪素質成形体の元素組成は、熱
硬化性セラミック前駆体ブロック共重合体の組成を変え
ることで容易に制御できる。こうして、本発明に係る炭
化珪素質成形体の構造は、高温まで結晶質の生成が実質
的に抑制されて非晶質もしくはこの物と結晶粒径が50
0Å以下のβ−SiCの結晶質微粒子の集合体または混
合系であり、かつ空気に対するX線小角散乱強度比が1
°及び0.5°において各々1倍〜20倍であることか
ら、機械的強度、特に高温強度が高いセラミック成形体
である。
【0030】
【実施例】参考例1 内容積1リットルの四つ口フラスコにガス吹きこみ管、
メカニカルスターラー、ジュワーコンデンサーを装置し
た。反応器内部を脱酸素した乾燥窒素で置換した後、四
つ口フラスコに脱気した乾燥ピリジン490mlを入れ、
これを氷冷した。次にジクロロシラン51.6gを加え
ると白色固体状のアダクト(SiH2 Cl2 ・2C5
5 N)が生成した。反応混合物を氷冷し、攪拌しなが
ら、水酸化ナトリウム管及び活性炭管を通して精製した
アンモニア51.0gを吹き込んだ。
【0031】反応終了後、反応混合物を遠心分離し、乾
燥ピリジンを用いて洗浄した後、更に窒素雰囲気下でろ
過して、ろ液850mlを得た。ろ液5mlから溶媒を減圧
留去すると樹脂固体ペルヒドロポリシラザン0.102
gが得られた。得られたポリマーの数平均分子量はGP
Cにより測定したところ、980であった。また、この
ポリマーのIR(赤外吸収)スペクトル(溶媒:乾燥o
−キシレン;ペルヒドロポリシラザンの濃度:10.2
g/l)を検討すると、波数(cm-1)3350(見かけ
の吸光係数ε=0.557lg-1cm-1)及び1175の
NHに基づく吸収;2170(ε=3.14)のSiH
に基づく吸収;1020〜820のSiH及びSiNS
iに基づく吸収を示すことが確認された。またこのポリ
マーの 1HNMR(プロトン核磁気共鳴)スペクトル
(60MHz 、溶媒CDCl3 /基準物質TMS)を検討
すると、いずれも幅広い吸収を示していることが確認さ
れた。即ちδ4.8及び4.4(br,SiH);1.
5(br,NH)の吸収が確認された。
【0032】参考例2 参考例1で得られたペルヒドロポリシラザンのピリジン
溶液(ペルヒドロポリシラザンの濃度、5.04重量
%)100mlを内容積300mlの耐圧反応容器に入れ、
精製した無水アンモニア2.8g(0.165mol)を加
えて密閉系で60℃で3時間攪拌しながら反応を行なっ
た。この間大量の気体が発生した。反応前後で圧力は
1.2kg/cm2 上昇した。室温に冷却後、乾燥o−キシ
レン200mlを加え、圧力3〜5mmHg、温度50〜70
℃で溶媒を除いたところ、5.22gの白色粉末が得ら
れた。この粉末は、トルエン、テトラヒドロフラン、ク
ロロホルム及びその他の有機溶媒に可溶であった。
【0033】前記重合体粉末の数平均分子量は、GPC
により測定したところ1740であった。また、そのI
Rスペクトル(溶媒:o−キシレン)の分析の結果、波
数(cm-1)3350及び1175のNHに基づく吸収;
2170のSiHに基づく吸収;1020〜820のS
iH及びSiNSiに基づく吸収を示すことが確認され
た。さらに、前記重合体粉末の 1HNMRスペクトル
(CDCl3 ,TMS)を分析したところ、いずれも幅
広い吸収を示している。すなわちδ4.8(br,Si
2 ),δ4.4(br,SiH3 ),δ1.5(b
r,NH)の吸収が観測された。(SiH2 )/(Si
3 )=4.1であった。
【0034】参考例3 参考例1で得られたペルヒドロポリシラザンのピリジン
溶液(ペルヒドロポリシラザンの濃度、5.24重量
%)100mlを内容積300mlの耐圧反応容器に入れ、
窒素雰囲気、密閉系で100℃で3時間攪拌しながら反
応を行なった。この間大量の気体が発生した。反応前後
で圧力は1.0kg/cm2 上昇した。室温に冷却後、乾燥
エチルベンゼン200mlを加え、圧力3〜5mmHg、温度
50〜70℃で溶媒を除いたところ、4.68gの白色
粉末が得られた。この粉末は、トルエン、テトラヒドロ
フラン、クロロホルム及びその他の有機溶媒に可溶であ
った。
【0035】前記重合体粉末の数平均分子量は、GPC
により測定したところ2070であった。また、そのI
Rスペクトル(溶媒:エチルベンゼン)の分析の結果、
波数(cm-1)3350及び1175のNHに基づく吸
収;2170のSiHに基づく吸収;1020〜820
のSiH及びSiNSiに基づく吸収を示すことが確認
された。さらに、前記重合体粉末の 1HNMRスペクト
ル(CDCl3 ,TMS)を分析したところ、いずれも
幅広い吸収を示している。すなわちδ4.8(br,S
iH2 ),δ4.4(br,SiH3 ),δ1.5(b
r,NH)の吸収が観測された。(SiH2 )/(Si
3 )=4.1であった。
【0036】実施例1 ポリカルボシラン(信越化学製)のφ−キシレン溶液5
00ml(ポリカルボシラン25.0g)にチタンn−ブ
トキシド6.5gを加えN2 中、1時間加熱還流した。
室温に冷却後、参考例2で得られたペルヒドロポリシラ
ザンのφ−キシレン溶液400ml(ペルヒドロポリシラ
ザン20.0g)を加え、N2 中、100℃で1時間加
熱した。室温に冷却後、圧力3〜7mmHg、温度50〜7
0℃で溶媒を除いたところ、48gの黒青色粉末が得ら
れた。この粉末はトルエン、テトラヒドロフラン、クロ
ロホルム及びその他の有機溶媒に可溶であった。数平均
分子量は2480であった。
【0037】得られたポリマーをトルエンに溶解し、濃
度を調整した後テフロン製成形型に流し込み、窒素気流
下60℃で溶媒を除いた。この操作を5回繰り返すこと
により、黒青色成形体(50mmφ×5mm)を得た。次に
窒素雰囲気下で0.1℃/分の昇温速度で600℃まで
昇温させ、つづいて10℃/分の昇温速度で1500℃
まで昇温させ、1500℃で1時間焼成することによ
り、黒色の円盤状セラミックス成形体を得た。元素分析
結果は重量基準でSi:65.8%、N:11.2%、
C:18.6%、O:2.52%、Ti:1.78%で
あった。X線回折測定より、微結晶質(結晶子径33
Å)のβ−SiCが認められた。
【0038】実施例2 1リットルの4つ口フラスコに無水ベンゼン200mlと
金属ナトリウム20gと金属カリウム7gを加え70℃
に保持した。ここにメチルジクロロシラン25g、ジメ
チルジクロロシラン30g、トリメチルクロロシラン5
0gを滴下し、24時間反応を行い、数平均分子量40
0のSi−H結合を有する淡黄色ポリシランを得た。1
リットル4つ口フラスコにこのポリシラン20gとジル
コニウムイソプロポキシド5gとφ−キシレン400ml
を加え、N2 中、3時間加熱還流を行った。室温に冷却
後、参考例3で得られたペルヒドロポリシラザンのφ−
キシレン溶液300ml(ペルヒドロポリシラザン55
g)を加え、N2 中、120℃で1時間加熱した。室温
に冷却後、圧力3〜7mmHg、温度50〜70℃で溶媒を
除いたところ、72gの淡黄色粉末が得られた。この粉
末はトルエン、テトラヒドロフラン、クロロホルム及び
その他の有機溶媒に可溶であった。数平均分子量は22
40であった。
【0039】得られたポリマーをφ−キシレンに溶解
し、濃度を調整した後、テフロン製成形型に流し込み、
窒素気流下100℃で溶媒を除いた。この操作を5回繰
り返して透明な成形体(60mm×60mm×5mm)を得
た。次に窒素雰囲気下50kg/cm 2 、3℃/分の昇温速
度で1600℃まで昇温させ、1600℃で1時間ホッ
トプレスすることにより、黒色角板状セラミックス成形
体を得た。元素分析結果は、重量基準で、Si:61.
8%、N:9.81%、C:22.8%、O:2.05
%、Z:2.54%であった。X線回折測定より微結晶
質(結晶子径67Å)のβ−SiCであることが確認さ
れた。
【0040】実施例3 500mlの4つ口フラスコにメカニカルスターラー、ガ
ス導入管、冷却管、滴下ロートを取りつけた。ここに5
0gのジシラン混合物(テトラクロロジメチルジシラン
50wt%、トリクロロトリメチルジシラン50wt%)を
導入し、N2 雰囲気に保ち、ヘキサメチルジシラザン1
20gを滴下ロートよりジシランに加えた。この混合物
をN2 下、220℃まで副生成物を除きながら加熱し
た。220℃に3時間保った後、室温に冷却したとこ
ろ、白濁したガラス状ポリマーが得られた。ここに乾燥
トルエンを300ml加え、ポリマーを溶解し、この溶液
を1.0μmのメンブレンフィルターで濾過をした。濾
液の溶媒を除くと淡黄色樹脂状固体が22.5g得られ
た。この樹脂の軟化点は約80℃であった。
【0041】前記ポリマー15gを200mlのφ−キシ
レンに溶解し、1リットルの4つ口フラスコに導入し
た。ここに参考例2で得られたペルヒドロポリシラザン
のφ−キシレン溶液500ml(ペルヒドロポリシラザン
45g)を加え、氷冷した。ここにトリエチルアルミニ
ウム1.5gを加え、80℃まで徐々に加熱し、1時間
保持した。室温に冷却後、溶媒を除くと、淡黄色粉末が
50g得られた。
【0042】得られたポリマーを窒素雰囲気下で粉砕
後、ホットプレス用タングステン製金型に充填後、アル
ゴン雰囲気下で5℃/分、300kg/cm2 の条件で15
00℃まで昇温し、1500℃で1時間焼成することで
黒色円盤状セラミックス成形体(70mmφ×8mm)を得
た。元素分析結果は重量基準で、Si:62.2%、
N:8.23%、C:22.0%、O:1.70%、A
l:5.85%であった。X線回折測定より、微結晶質
(結晶子径72Å)のβ−SiCが確認された。
【0043】実施例4 ポリシラスチレン(日本曹達製)のφ−キシレン溶液3
00ml(ポリシラスチレン35g)と参考例1で得られ
たペルヒドロポリシラザンのφ−キシレン溶液300ml
(ペルヒドロポリシラザン35g)を1リットルの4つ
口フラスコに入れ、0℃に冷却した。ここに三塩化ホウ
素0.6gを徐々に加えた。添加後溶液を60℃まで加
熱し、1時間保持した。
【0044】得られたポリマー溶液の濃度を調製後、テ
フロン製成形型に流し込み、窒素気流下80℃で溶媒を
除いた。この操作を5回繰り返すことにより、透明な成
形体(40mmφ×8mm)を得た。次に窒素5kg/cm2
圧雰囲気で0.1℃/分の昇温速度で600℃まで昇温
させ、つづいて5℃/分の昇温速度で1700℃まで昇
温させ、1700℃で1時間焼成することにより、黒色
円盤状セラミックス成形体を得た。元素分析結果は重量
基準で、Si:58.6%、N:12.3%、C:2
2.5%、O:1.83%、B:4.58%であった。
X線回折測定により、微結晶質(結晶子径48Å)のβ
−SiCが確認された。
【0045】
【発明の効果】本発明の炭化珪素質成形体は、焼成前の
成形体の形状を保持したセラミックスを比較的低温で得
ることができ、特に複雑形状のセラミックス製造に有利
である。また、本発明による成形体は、不融化工程に起
因する不純物、破壊源となる粒界、粒大粒、気孔がな
く、高温まで非晶質または非晶質中に分散した微結晶に
より構成された構造を保持するため、大きい高温機械強
度を有する。その他として、耐酸化性、耐熱衝撃性、耐
アルカリ性、耐酸性に優れているため、広範な分野の用
途に提供することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田代 裕治 埼玉県入間郡大井町西鶴ケ岡1丁目3番1 号 東燃株式会社総合研究所内 (72)発明者 佐藤 清 埼玉県入間郡大井町西鶴ケ岡1丁目3番1 号 東燃株式会社総合研究所内 (72)発明者 礒田 武志 埼玉県入間郡大井町西鶴ケ岡1丁目3番1 号 東燃株式会社総合研究所内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 珪素、窒素及び炭素を必須成分とし、酸
    素、水素及びAl,B,Ti,Zr,Hf,Yから選ば
    れる金属元素を任意成分とし、各元素の比が原子比で表
    わして、N/Si=0.01〜1、C/Si=0.1〜
    1.5、O/Si=0.3以下、M/Si=0.002
    〜0.5(M:B,Al,Ti,Zr,Hf,Yから選
    ばれる)、H/Si=0.1以下であって、実質的に珪
    素、窒素及び炭素からなる非晶質または珪素、窒素及び
    炭素からなる非晶質と結晶粒径が500Å以下のβ−S
    iCの結晶質微粒子の集合体または混合系よりなり、し
    かも空気に対するX線小角散乱強度比が1°及び0.5
    °において各々1倍〜20倍であることを特徴とする炭
    化珪素質成形体。
  2. 【請求項2】 珪素含有熱可塑性セラミック前駆体とペ
    ルヒドロポリシラザンとから数平均分子量200〜50
    0,000の熱硬化性セラミック前駆体ブロック共重合
    体を製造する工程と、該熱硬化性セラミック前駆体ブロ
    ック共重合体を用いて所望の成形体を形成し、該成形体
    を焼成してセラミック成形体を得る工程からなることを
    特徴とする、実質的に珪素、窒素及び炭素からなる炭化
    珪素質成形体の製造方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007126664A (ja) * 2005-11-03 2007-05-24 General Electric Co <Ge> ナノスケール規則性耐熱セラミックスのセラミック前駆体としての無機ブロックコポリマーその他の類似材料
CN112176457A (zh) * 2020-10-12 2021-01-05 中国人民解放军国防科技大学 一种柔性多孔多相SiZrNOC微纳隔热纤维及其制备方法

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