JPH0555012B2 - - Google Patents
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Description
(産業上の利用分野)
本発明は新規なキサンテン化合物を含有する画
像形成組成物に関し、特にフオトレジスト、PS
版、プルーフ材等に用いる色素前駆体として有用
な新規キサンテン化合物を含有する画像形成組成
物に関する。 (従来の技術及び解決すべき問題点) 光照射により発色し画像を形成する組成物は
PS版、フオトレジスト等における重ね焼き防止、
フオトマスクの位置確認のため有用であり、ま
た、簡便なプルーフ材としても用いられる(特開
昭55−13780号、特開昭59−142545号)。しかし
て、これらの組成物としては有機ポリハロゲン化
合物、又は光酸化剤と各種ロイコ染料等の組合せ
(特開昭59−140447号、特開昭59−142545号、特
開昭47−12879号)等が代表的なものであるが、
有機ポリハロゲン化合物は毒性を有し、また光酸
化剤とロイコ染料との組合せではロイコ染料とし
てロイコトリフエニルメタン染料を使用するので
あるが、これらは安定性に問題があるばかりでな
く、色相の点においても黄色系に発色するものが
ない等の欠点があつた。 (問題点を解決するための手段) 本発明者らは、上記の欠点を改良すべく鋭意検
討した結果、下記の一般式()で表わされる新
規なキサンテン化合物は大気中で安定な無色又は
淡色の固体であり、酸化により黄色系に発色し
PS版、フオトレジスト、プルーフ材等に使用で
きることを見出し、本発明を完成するに至つた。 すなわち、本発明は一般式() (式中、R1は炭素数1〜8のアルキル基、アラ
ルキル基を示し、R2は炭素数1〜8のアルコキ
シ基、低級アルキル基、フエノキシ基、アラアル
コキシ基、又はアミノ基を示し、該アミノ基はア
ルキル基、アリール基、アラルキル基で置換され
ていてもよい。X、Y、Zはハロゲン原子を示
し、Xn、Ym、Zlは芳香核にX、Y、Zがそれ
ぞれn、m、l個置換していることを示す。nお
よびmは0〜2の整数、lは0〜4の整数を示
す。)で表わされる酸化発色型のキサンテン化合
物を含有することを特徴とする画像形成組成物で
ある。 本発明における画像形成組成物とはプルーフ
材、PS版、フオトレジスト等における重ね焼き
防止又はフオトマスクの位置確認のために使用す
る材料を指す。 本発明の画像形成組成物は、(1)光酸化剤、(2)一
般式()で示されるキサンテン化合物、(3)発色
助剤、(4)バインダーからなり、必要に応じて定着
剤を加えることもできる。 光酸化剤は通常不活性であるが、可視光線、紫
外線、X線のような活性輻射線に露出されると、
ロイコ染料をその発色型に酸化する化学種を生ず
るものであり、特公昭43−19161号公報記載のヘ
キサアリールビイミダゾール、米国特許第
3282693号公報記載のアジド化合物、米国特許第
3615568号公報記載のピリジニウム化合物、米国
特許第4386154号公報記載の芳香族沃素塩等をあ
げることができる。 具体的には、2,2′−ビス(2−クロロフエニ
ル)−4,5,4′,5′−テトラフエニル−1,2′−
ビビミダゾール、2,2′−ビス(2−クロロフエ
ニル)−4,5,4′,5′−テトラキス(3−メト
キシフエニル)−1,2′−ビイミダゾール、2,
2′−ビズ(2−クロロ−4−メトキシフエニル)
−4,4′,5,5′−テトラフエニル−1,2′−ビ
イミダゾール、2,2′−ビス(2,4−ジクロロ
フエニル)−4,5,4′,5′−テトラフエニル−
1,2′−ビイミダゾール、2,2′−ビス(2−ニ
トロフエニル)−4,5,4′,5′−テトラフエニ
ル−1,2′−ビイミダゾール、2−アジドベンズ
オキサゾール、ベンゾイルアジド、2−アジドベ
ンズイミダゾール、3−エチル−1−メトキシ−
2−ピリドチアニンパークロレート、1−メトキ
シ−2−メチルピリジニウム−p−トルエンスル
ホネート、ジフエニルヨードニウムナイトレー
ト、ジフエニルヨードニウムヘキサフルオロホス
フエート等が使用できる。 本発明に係る一般式()で示されるキサンテ
ン化合物の具体例としては、3,6−ジメトキシ
−9−(2−メトキシカルボニル)−フエニルキサ
ンテン、3,6−ジエトキシ−9−(2−メトキ
シカルボニル)−フエニルキサンテン、3,6−
ジベンジルオキシ−9−(2−エトキシカルボニ
ル)−フエニルキサンテン、3,6−ジメトキシ
−2,7−ジクロロ−9−(2−エトキシカルボ
ニル)−フエニルキサンテン、3,6−ジイソプ
ロポキシ−2,7−ジクロロ−9−(2−メトキ
シカルボニル)−フエニルキサンテン、3,6−
ジメトキシ−9−(2−メチルフエニルカルボキ
サミド)−フエニルキサンテン、3,6−ジエト
キシ−9−(2−メチルフエニルカルボキサミド)
−フエニルキサンテン、3,6−ジメトキシ−9
−(2−ジエチルカルボキサミド)−フエニルキサ
ンテン、3,6−ジエトキシ−2,7−ジブロモ
−9−(2−メトキシカルボニル)−フエニルキサ
ンテン、3,6−ジブトキシ−9−(2−メトキ
シカルボニル)−フエニルキサンテン、3,6−
ジプロポキシ−9−(2−メトキシカルボニル)−
フエニルキサンテン、3,6−ジメトキシ−9−
(2−アセチルフエニル)−キサンテン、3,6−
ジメトキシ−9−(2−ジフエニルカルボキサミ
ド)−フエニルキサンテン、3,6−ジメトキシ
−9−(2−エチルフエニルカルボキサミド)−フ
エニルキサンテン、3,6−ジメトキシ−9−
〔2−N−メチル−N−(p−トリル)−カルボキ
サミド〕−フエニルキサンテン、3,6−ジメト
キシ−9−(2−N,N−ジベンジルカルボキサ
ミド)−フエニルキサンテン、3,6−ジメトキ
シ−9−(2−フエノキシカルボニル)−フエニル
キサンテン等を挙げることができる。 またこれらの塩酸、硫酸、硝酸などの無機酸お
よびしゆう酸、p−トルエンスルホン酸、ベンゼ
ンスルホン酸などの有機酸の付加塩も具体的な例
としてあげられる。発色助剤としては特開昭59−
140447号公報記載の鉱酸類又は芳香族スルホン酸
類及びポリエーテル類が使用できる。具体的には
塩類、臭化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸、p−ト
ルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−ク
ロロベンゼンスルホン酸、1−ナフタレンスルホ
ン酸、2−ナフタレンスルホン酸、ドデシルベン
ゼンスルホン酸を挙げることができる。 バインダーとして好適に使用できる樹脂は、た
とえば、ポリスチレン、ポリビニルブチラール、
ポリ塩化ビニル、ポリメチルメタクリレート、ポ
リカーボネート、ポリ塩化ビニル−酢酸ビニル共
重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、および
アセチルセルロース等が挙げられる。又フオトレ
ジスト等に用いる場合には光硬化成分を含ませる
ことができる。具体的には、ヒドロキシエチルメ
タクリレート、ジエチレングリコールジアクリレ
ート、N,N′−メチレンビスアクリルアマイド、
トリメチロールプロパントリアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレートなどを挙げる
ことができる。 定着を必要とする場合は、定着剤を加えること
ができ、特公昭43−19161号公報、特開昭59−
140447号公報記載のレドツクスカツプル、グアニ
ジン誘導体、アルキレンジアミン類が使用でき、
具体的にはポリエチレングリコールと1,6−ピ
レンキノンとの組合せ、1,3−ジフエニルグア
ニジン、トリフエニルグアニジン、ヘキサメチレ
ンジアミン等が使用できる。 支持体としては、紙、バライタ紙、合成紙又は
合成樹脂フイルム等が使用できる。 この際好適に使用される有機溶媒としては、た
とえばベンゼン、トルエン、キシレン、テトラヒ
ドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン、シ
クロヘキサン、アクリロニトリル、メタノール、
エタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソル
ブ、酢酸エチル又はジオキサン等をあげることが
できる。 尚、本発明を実施するに際して用いる各構成部
分の好ましい量的割合は以下の如くである。 キサンテン化合物 1部 光酸化剤 0.1〜10部 発色助剤 酸 0.1〜10部 ポリエーテル類 0.5〜10部 バインダー 1〜50部 光硬化成分 0.1〜50部 定着剤 0.1〜50部 (実施例) 以下、実施例をもつて本発明を説明するが、こ
れらは本発明の範囲を限定するものではない。な
お実施例中の部は特に説明のない限り重量部を表
わす。また画像濃度及び非画像濃度はマグベス反
射濃度計RD−514型(ブルーフイルター)で測
定した結果を示す。まず、本発明に係るキサンテ
ン化合物の合成例を示す。 合成例 1 3,6−ジメトキシ−9−(2−メトキシカル
ボニル)−フエニルキサンテンの合成 3,6−ジメトキシフルオラン30gをメタノー
ル250ml中に溶解し、ガス吹き込み管より塩化水
素ガスを吹きこみながら60℃で6時間エステル化
反応を行なつた。反応液を水1中に加え析出物
を別後乾燥し、25gのエステル体を得た。 次にこのエステル体をメタノール900mlに溶解
し、水素化ホウ素ナトリウム8.7gを徐々に添加
し3時間反応を行なつた。得られた反応液を水2
中に注ぎトルエン200mlで抽出後、溶媒を蒸発
させて粗結晶を得た。これをトルエン−酢酸エチ
ル混合液より再結晶すると11.5gの3,6−ジメ
トキシ−9−(2−メトキシカルボニル)−フエニ
ルキサンテンを得た。融点131〜133℃であつた。
また下記の分析結果より、C23H20O5であること
を確認した。 C H 理論値 73.39 5.36 分析値 73.15 5.41 実施例 1 下記及びの溶液を別々に調製した。 液(発色液) 3,6−ジメトキシ−9−(2−メトキシカルボ
ニル)−フエニルキサンテン 0.94部 2,2′−ビス(2−クロロフエニル)−4,4′,
5,5′−テトラフエニル−1,2′−ビイミダゾー
ル 1.65部 ドデシルベンゼンスルホン酸 3.2部 ポリエチレングリコール(平均分子量1000)
2.1部 塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマー 4.6部 テトラヒドロフラン 62.0部 液(定着液) 1,3−ジフエニルグアニジン 0.41部 ポリビニルアルコール 1.0部 70%エタノール 20部 バーコーダを用いてコーテイング紙に液を40
g/m2の割合で塗布乾燥する。更にその上に液
を30g/m2の割合で塗布乾燥する。得られた感光
紙に写真ネガ原版を重ね真空焼枠(大日本スクリ
ーン製造株式会社製P−113−B)で5分間露光
すると黄色画像が得られた。その後100℃で5分
間定着するともはや再露光して発色しない永久画
像が得られた。画像部濃度0.80、非画像部濃度
0.05であつた。 実施例 2〜10 実施例1において3,6−ジメトキシ−9−
(2−メトキシカルボニル)−フエニルキサンテン
に代え、表−1に示したキサンテン化合物を使用
した以外は、実施例1と同様な操作で永久画像を
得た。これらの結果も表−1に示した。
像形成組成物に関し、特にフオトレジスト、PS
版、プルーフ材等に用いる色素前駆体として有用
な新規キサンテン化合物を含有する画像形成組成
物に関する。 (従来の技術及び解決すべき問題点) 光照射により発色し画像を形成する組成物は
PS版、フオトレジスト等における重ね焼き防止、
フオトマスクの位置確認のため有用であり、ま
た、簡便なプルーフ材としても用いられる(特開
昭55−13780号、特開昭59−142545号)。しかし
て、これらの組成物としては有機ポリハロゲン化
合物、又は光酸化剤と各種ロイコ染料等の組合せ
(特開昭59−140447号、特開昭59−142545号、特
開昭47−12879号)等が代表的なものであるが、
有機ポリハロゲン化合物は毒性を有し、また光酸
化剤とロイコ染料との組合せではロイコ染料とし
てロイコトリフエニルメタン染料を使用するので
あるが、これらは安定性に問題があるばかりでな
く、色相の点においても黄色系に発色するものが
ない等の欠点があつた。 (問題点を解決するための手段) 本発明者らは、上記の欠点を改良すべく鋭意検
討した結果、下記の一般式()で表わされる新
規なキサンテン化合物は大気中で安定な無色又は
淡色の固体であり、酸化により黄色系に発色し
PS版、フオトレジスト、プルーフ材等に使用で
きることを見出し、本発明を完成するに至つた。 すなわち、本発明は一般式() (式中、R1は炭素数1〜8のアルキル基、アラ
ルキル基を示し、R2は炭素数1〜8のアルコキ
シ基、低級アルキル基、フエノキシ基、アラアル
コキシ基、又はアミノ基を示し、該アミノ基はア
ルキル基、アリール基、アラルキル基で置換され
ていてもよい。X、Y、Zはハロゲン原子を示
し、Xn、Ym、Zlは芳香核にX、Y、Zがそれ
ぞれn、m、l個置換していることを示す。nお
よびmは0〜2の整数、lは0〜4の整数を示
す。)で表わされる酸化発色型のキサンテン化合
物を含有することを特徴とする画像形成組成物で
ある。 本発明における画像形成組成物とはプルーフ
材、PS版、フオトレジスト等における重ね焼き
防止又はフオトマスクの位置確認のために使用す
る材料を指す。 本発明の画像形成組成物は、(1)光酸化剤、(2)一
般式()で示されるキサンテン化合物、(3)発色
助剤、(4)バインダーからなり、必要に応じて定着
剤を加えることもできる。 光酸化剤は通常不活性であるが、可視光線、紫
外線、X線のような活性輻射線に露出されると、
ロイコ染料をその発色型に酸化する化学種を生ず
るものであり、特公昭43−19161号公報記載のヘ
キサアリールビイミダゾール、米国特許第
3282693号公報記載のアジド化合物、米国特許第
3615568号公報記載のピリジニウム化合物、米国
特許第4386154号公報記載の芳香族沃素塩等をあ
げることができる。 具体的には、2,2′−ビス(2−クロロフエニ
ル)−4,5,4′,5′−テトラフエニル−1,2′−
ビビミダゾール、2,2′−ビス(2−クロロフエ
ニル)−4,5,4′,5′−テトラキス(3−メト
キシフエニル)−1,2′−ビイミダゾール、2,
2′−ビズ(2−クロロ−4−メトキシフエニル)
−4,4′,5,5′−テトラフエニル−1,2′−ビ
イミダゾール、2,2′−ビス(2,4−ジクロロ
フエニル)−4,5,4′,5′−テトラフエニル−
1,2′−ビイミダゾール、2,2′−ビス(2−ニ
トロフエニル)−4,5,4′,5′−テトラフエニ
ル−1,2′−ビイミダゾール、2−アジドベンズ
オキサゾール、ベンゾイルアジド、2−アジドベ
ンズイミダゾール、3−エチル−1−メトキシ−
2−ピリドチアニンパークロレート、1−メトキ
シ−2−メチルピリジニウム−p−トルエンスル
ホネート、ジフエニルヨードニウムナイトレー
ト、ジフエニルヨードニウムヘキサフルオロホス
フエート等が使用できる。 本発明に係る一般式()で示されるキサンテ
ン化合物の具体例としては、3,6−ジメトキシ
−9−(2−メトキシカルボニル)−フエニルキサ
ンテン、3,6−ジエトキシ−9−(2−メトキ
シカルボニル)−フエニルキサンテン、3,6−
ジベンジルオキシ−9−(2−エトキシカルボニ
ル)−フエニルキサンテン、3,6−ジメトキシ
−2,7−ジクロロ−9−(2−エトキシカルボ
ニル)−フエニルキサンテン、3,6−ジイソプ
ロポキシ−2,7−ジクロロ−9−(2−メトキ
シカルボニル)−フエニルキサンテン、3,6−
ジメトキシ−9−(2−メチルフエニルカルボキ
サミド)−フエニルキサンテン、3,6−ジエト
キシ−9−(2−メチルフエニルカルボキサミド)
−フエニルキサンテン、3,6−ジメトキシ−9
−(2−ジエチルカルボキサミド)−フエニルキサ
ンテン、3,6−ジエトキシ−2,7−ジブロモ
−9−(2−メトキシカルボニル)−フエニルキサ
ンテン、3,6−ジブトキシ−9−(2−メトキ
シカルボニル)−フエニルキサンテン、3,6−
ジプロポキシ−9−(2−メトキシカルボニル)−
フエニルキサンテン、3,6−ジメトキシ−9−
(2−アセチルフエニル)−キサンテン、3,6−
ジメトキシ−9−(2−ジフエニルカルボキサミ
ド)−フエニルキサンテン、3,6−ジメトキシ
−9−(2−エチルフエニルカルボキサミド)−フ
エニルキサンテン、3,6−ジメトキシ−9−
〔2−N−メチル−N−(p−トリル)−カルボキ
サミド〕−フエニルキサンテン、3,6−ジメト
キシ−9−(2−N,N−ジベンジルカルボキサ
ミド)−フエニルキサンテン、3,6−ジメトキ
シ−9−(2−フエノキシカルボニル)−フエニル
キサンテン等を挙げることができる。 またこれらの塩酸、硫酸、硝酸などの無機酸お
よびしゆう酸、p−トルエンスルホン酸、ベンゼ
ンスルホン酸などの有機酸の付加塩も具体的な例
としてあげられる。発色助剤としては特開昭59−
140447号公報記載の鉱酸類又は芳香族スルホン酸
類及びポリエーテル類が使用できる。具体的には
塩類、臭化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸、p−ト
ルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−ク
ロロベンゼンスルホン酸、1−ナフタレンスルホ
ン酸、2−ナフタレンスルホン酸、ドデシルベン
ゼンスルホン酸を挙げることができる。 バインダーとして好適に使用できる樹脂は、た
とえば、ポリスチレン、ポリビニルブチラール、
ポリ塩化ビニル、ポリメチルメタクリレート、ポ
リカーボネート、ポリ塩化ビニル−酢酸ビニル共
重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、および
アセチルセルロース等が挙げられる。又フオトレ
ジスト等に用いる場合には光硬化成分を含ませる
ことができる。具体的には、ヒドロキシエチルメ
タクリレート、ジエチレングリコールジアクリレ
ート、N,N′−メチレンビスアクリルアマイド、
トリメチロールプロパントリアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレートなどを挙げる
ことができる。 定着を必要とする場合は、定着剤を加えること
ができ、特公昭43−19161号公報、特開昭59−
140447号公報記載のレドツクスカツプル、グアニ
ジン誘導体、アルキレンジアミン類が使用でき、
具体的にはポリエチレングリコールと1,6−ピ
レンキノンとの組合せ、1,3−ジフエニルグア
ニジン、トリフエニルグアニジン、ヘキサメチレ
ンジアミン等が使用できる。 支持体としては、紙、バライタ紙、合成紙又は
合成樹脂フイルム等が使用できる。 この際好適に使用される有機溶媒としては、た
とえばベンゼン、トルエン、キシレン、テトラヒ
ドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン、シ
クロヘキサン、アクリロニトリル、メタノール、
エタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソル
ブ、酢酸エチル又はジオキサン等をあげることが
できる。 尚、本発明を実施するに際して用いる各構成部
分の好ましい量的割合は以下の如くである。 キサンテン化合物 1部 光酸化剤 0.1〜10部 発色助剤 酸 0.1〜10部 ポリエーテル類 0.5〜10部 バインダー 1〜50部 光硬化成分 0.1〜50部 定着剤 0.1〜50部 (実施例) 以下、実施例をもつて本発明を説明するが、こ
れらは本発明の範囲を限定するものではない。な
お実施例中の部は特に説明のない限り重量部を表
わす。また画像濃度及び非画像濃度はマグベス反
射濃度計RD−514型(ブルーフイルター)で測
定した結果を示す。まず、本発明に係るキサンテ
ン化合物の合成例を示す。 合成例 1 3,6−ジメトキシ−9−(2−メトキシカル
ボニル)−フエニルキサンテンの合成 3,6−ジメトキシフルオラン30gをメタノー
ル250ml中に溶解し、ガス吹き込み管より塩化水
素ガスを吹きこみながら60℃で6時間エステル化
反応を行なつた。反応液を水1中に加え析出物
を別後乾燥し、25gのエステル体を得た。 次にこのエステル体をメタノール900mlに溶解
し、水素化ホウ素ナトリウム8.7gを徐々に添加
し3時間反応を行なつた。得られた反応液を水2
中に注ぎトルエン200mlで抽出後、溶媒を蒸発
させて粗結晶を得た。これをトルエン−酢酸エチ
ル混合液より再結晶すると11.5gの3,6−ジメ
トキシ−9−(2−メトキシカルボニル)−フエニ
ルキサンテンを得た。融点131〜133℃であつた。
また下記の分析結果より、C23H20O5であること
を確認した。 C H 理論値 73.39 5.36 分析値 73.15 5.41 実施例 1 下記及びの溶液を別々に調製した。 液(発色液) 3,6−ジメトキシ−9−(2−メトキシカルボ
ニル)−フエニルキサンテン 0.94部 2,2′−ビス(2−クロロフエニル)−4,4′,
5,5′−テトラフエニル−1,2′−ビイミダゾー
ル 1.65部 ドデシルベンゼンスルホン酸 3.2部 ポリエチレングリコール(平均分子量1000)
2.1部 塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマー 4.6部 テトラヒドロフラン 62.0部 液(定着液) 1,3−ジフエニルグアニジン 0.41部 ポリビニルアルコール 1.0部 70%エタノール 20部 バーコーダを用いてコーテイング紙に液を40
g/m2の割合で塗布乾燥する。更にその上に液
を30g/m2の割合で塗布乾燥する。得られた感光
紙に写真ネガ原版を重ね真空焼枠(大日本スクリ
ーン製造株式会社製P−113−B)で5分間露光
すると黄色画像が得られた。その後100℃で5分
間定着するともはや再露光して発色しない永久画
像が得られた。画像部濃度0.80、非画像部濃度
0.05であつた。 実施例 2〜10 実施例1において3,6−ジメトキシ−9−
(2−メトキシカルボニル)−フエニルキサンテン
に代え、表−1に示したキサンテン化合物を使用
した以外は、実施例1と同様な操作で永久画像を
得た。これらの結果も表−1に示した。
【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式〔〕で表わされる酸化発色型のキサ
ンテン化合物を含有することを特徴とする画像形
成組成物。 (式中、R1は炭素数1〜8のアルキル基、アラ
ルキル基を示し、R2は炭素数1〜8のアルコキ
シ基、低級アルキル基、フエノキシ基、アラアル
コキシ基、又はアミノ基を示し、該アミノ基はア
ルキル基、アリール基、アラルキル基で置換され
ていてもよい。X、Y、Zはハロゲン原子を示
し、Xn、Ym、Zlは芳香核にX、Y、Zがそれ
ぞれn、m、l個置換していることを示す。nお
よびmは0〜2の整数、lは0〜4の整数を示
す。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23354585A JPS6294841A (ja) | 1985-10-21 | 1985-10-21 | 画像形成組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23354585A JPS6294841A (ja) | 1985-10-21 | 1985-10-21 | 画像形成組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6294841A JPS6294841A (ja) | 1987-05-01 |
JPH0555012B2 true JPH0555012B2 (ja) | 1993-08-16 |
Family
ID=16956735
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23354585A Granted JPS6294841A (ja) | 1985-10-21 | 1985-10-21 | 画像形成組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6294841A (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10259374A1 (de) * | 2002-12-18 | 2004-07-08 | Atto-Tec Gmbh | Carboxamid-substituierte Farbstoffe für analytische Anwendungen |
WO2014123032A1 (ja) | 2013-02-08 | 2014-08-14 | 三菱瓦斯化学株式会社 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法及びそれに用いるポリフェノール誘導体 |
US10745372B2 (en) * | 2014-12-25 | 2020-08-18 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound, resin, material for forming underlayer film for lithography, underlayer film for lithography, pattern forming method, and purification method |
WO2016158169A1 (ja) | 2015-03-31 | 2016-10-06 | 三菱瓦斯化学株式会社 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及びそれに用いるポリフェノール化合物 |
WO2016158168A1 (ja) | 2015-03-31 | 2016-10-06 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 化合物、レジスト組成物及びそれを用いるレジストパターン形成方法 |
EP3346334B1 (en) | 2015-08-31 | 2020-08-12 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Use of a composition for forming a photoresist underlayer film for lithography, photoresist underlayer film for lithography and method for producing same, and resist pattern forming method |
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WO2017043561A1 (ja) | 2015-09-10 | 2017-03-16 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 化合物、樹脂、レジスト組成物又は感放射線性組成物、レジストパターン形成方法、アモルファス膜の製造方法、リソグラフィー用下層膜形成材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、回路パターンの形成方法、及び、精製方法 |
-
1985
- 1985-10-21 JP JP23354585A patent/JPS6294841A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6294841A (ja) | 1987-05-01 |
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