JPH0554991B2 - - Google Patents
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- JPH0554991B2 JPH0554991B2 JP30504188A JP30504188A JPH0554991B2 JP H0554991 B2 JPH0554991 B2 JP H0554991B2 JP 30504188 A JP30504188 A JP 30504188A JP 30504188 A JP30504188 A JP 30504188A JP H0554991 B2 JPH0554991 B2 JP H0554991B2
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- dental prosthesis
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Landscapes
- Dental Prosthetics (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は義歯、冠等の歯科用補綴物に判別マ
ークを形成する方法に関するものである。
ークを形成する方法に関するものである。
歯科用補綴物は患者別の個別性の高いものであ
り、技工工作を行なつた施設、歯科医師等の記録
と対照できるように、または航空機事故、火災等
にあつた人達の個人識別、身元確認を行なうこと
ができるように、歯科用補綴物に文字、図形、記
号、コード等の判別マークを形成することが考え
られている。
り、技工工作を行なつた施設、歯科医師等の記録
と対照できるように、または航空機事故、火災等
にあつた人達の個人識別、身元確認を行なうこと
ができるように、歯科用補綴物に文字、図形、記
号、コード等の判別マークを形成することが考え
られている。
従来の歯科用補綴物の判別マーク形成方法にお
いては、特開昭63−5730号公報に示されるよう
に、判別マークを刻印したワツクスを鋳型にして
金属冠を鋳造している。
いては、特開昭63−5730号公報に示されるよう
に、判別マークを刻印したワツクスを鋳型にして
金属冠を鋳造している。
しかし、このような歯科用補綴物の判別マーク
形成方法においては、判別マークの深さが大きく
なるから、歯垢の付着を助長するので、しか口腔
内疾患を生じさせる恐れがあり、また判別マーク
の形状が大きくなるから、多くの数字、文字等か
らなる判別マークを形成することができない。
形成方法においては、判別マークの深さが大きく
なるから、歯垢の付着を助長するので、しか口腔
内疾患を生じさせる恐れがあり、また判別マーク
の形状が大きくなるから、多くの数字、文字等か
らなる判別マークを形成することができない。
この発明は上述の課題を解決するためになされ
たもので、しかも口腔内疾患を生じさせる恐れが
なく、また多くの数字、文字等からなる判別マー
クを形成することができる歯科用補綴物の判別マ
ーク形成方法を提供することを目的とする。
たもので、しかも口腔内疾患を生じさせる恐れが
なく、また多くの数字、文字等からなる判別マー
クを形成することができる歯科用補綴物の判別マ
ーク形成方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、この発明において
は、歯科用補綴物に判別マークを形成する方法に
おいて、真空容器と、上記真空容器内に設けられ
た中空状の陽極と、上記陽極の両側にかつ上記陽
極の中心線のほぼ直角に設けられた一対の対向陰
極と、磁力線が上記陽極の中心線とほぼ平行な磁
場を形成する磁石と、上記対向陰極の一方に設け
られかつ中心線が上記陽極の中心線とほぼ平行な
透過孔とを有する侵食装置により上記歯科用補綴
物の表面を侵食して判別マークを形成する。
は、歯科用補綴物に判別マークを形成する方法に
おいて、真空容器と、上記真空容器内に設けられ
た中空状の陽極と、上記陽極の両側にかつ上記陽
極の中心線のほぼ直角に設けられた一対の対向陰
極と、磁力線が上記陽極の中心線とほぼ平行な磁
場を形成する磁石と、上記対向陰極の一方に設け
られかつ中心線が上記陽極の中心線とほぼ平行な
透過孔とを有する侵食装置により上記歯科用補綴
物の表面を侵食して判別マークを形成する。
また、上記目的を達成するために、この発明に
おいては、歯科用補綴物に判別マークを形成する
方法において、真空容器と、上記真空容器内に設
けられ中空状の陽極と、上記陽極の両側にかつ上
記陽極の中心線とほぼ直角に設けられた一対の対
向陰極と、磁力線が上記陽極の中心線とほぼ平行
な磁場を形成する磁石と、上記対向陰極の一方に
設けられかつ中心線が上記陽極の中心線とほぼ平
行な透過孔とを有する侵食・膜形成装置により上
記歯科用補綴物の表面を侵食し、上記侵食・膜形
成装置により侵食部に薄膜を形成して判別マーク
を形成する。
おいては、歯科用補綴物に判別マークを形成する
方法において、真空容器と、上記真空容器内に設
けられ中空状の陽極と、上記陽極の両側にかつ上
記陽極の中心線とほぼ直角に設けられた一対の対
向陰極と、磁力線が上記陽極の中心線とほぼ平行
な磁場を形成する磁石と、上記対向陰極の一方に
設けられかつ中心線が上記陽極の中心線とほぼ平
行な透過孔とを有する侵食・膜形成装置により上
記歯科用補綴物の表面を侵食し、上記侵食・膜形
成装置により侵食部に薄膜を形成して判別マーク
を形成する。
この歯科用補綴物の判別マーク形成方法におい
ては、判別マークの深さ、形状を小さくすること
ができる。
ては、判別マークの深さ、形状を小さくすること
ができる。
第１図はこの発明に係る歯科用補綴物の判別マ
ーク形成方法により判別マークが形成された義歯
を示す概略図である。この歯科用補綴物の判別マ
ーク形成方法においては、セラミツクからなる前
歯の陶歯１の裏面Ａ部の方面を侵食・膜形成装置
（説明後述）により侵食して、第２図に示すよう
な幅が60μｍ、深さが1μｍの数字「３」の形状の
侵食部を形成し、その侵食部内にSiO2からなる
透明保護膜を設けることにより、判別マーク２を
形成する。
ーク形成方法により判別マークが形成された義歯
を示す概略図である。この歯科用補綴物の判別マ
ーク形成方法においては、セラミツクからなる前
歯の陶歯１の裏面Ａ部の方面を侵食・膜形成装置
（説明後述）により侵食して、第２図に示すよう
な幅が60μｍ、深さが1μｍの数字「３」の形状の
侵食部を形成し、その侵食部内にSiO2からなる
透明保護膜を設けることにより、判別マーク２を
形成する。
この歯科用補綴物の判別マーク形成方法におい
ては、陶歯１の表面を侵食・膜形成装置により侵
食して判別マーク２を形成するから、判別マーク
２の深さを小さくすることができるので、歯垢の
付着を助長することがないため、しか口腔内疾患
を生じさせる恐れがなく、また判別マーク２の形
状を小さくすることができるので、多くの数字、
文字等からなる判別マークを形成することができ
る。また、透明保護膜を設けるから、歯垢の付着
を確実に防止することができる。
ては、陶歯１の表面を侵食・膜形成装置により侵
食して判別マーク２を形成するから、判別マーク
２の深さを小さくすることができるので、歯垢の
付着を助長することがないため、しか口腔内疾患
を生じさせる恐れがなく、また判別マーク２の形
状を小さくすることができるので、多くの数字、
文字等からなる判別マークを形成することができ
る。また、透明保護膜を設けるから、歯垢の付着
を確実に防止することができる。
また、第３図はこの発明に係る他の歯科用補綴
物の判別マーク形成方法により判別マークが形成
さた義歯の一部を示す概略断面図である。図にお
いて、３は陶歯１の表面に侵食・膜形成装置によ
り設けられた侵食部で、侵食部３は幅が60μｍ、
深さが1μｍの第２図に示すような数字「３」の
形状をしている。４は侵食部３内に侵食・膜形成
装置におり形成された厚さが0.6μｍの金の薄膜、
５は薄膜４を覆つて設けられたSiO2からなる透
明保護膜で、侵食部３、薄膜４、透明保護膜５で
判別マーク６を構成している。
物の判別マーク形成方法により判別マークが形成
さた義歯の一部を示す概略断面図である。図にお
いて、３は陶歯１の表面に侵食・膜形成装置によ
り設けられた侵食部で、侵食部３は幅が60μｍ、
深さが1μｍの第２図に示すような数字「３」の
形状をしている。４は侵食部３内に侵食・膜形成
装置におり形成された厚さが0.6μｍの金の薄膜、
５は薄膜４を覆つて設けられたSiO2からなる透
明保護膜で、侵食部３、薄膜４、透明保護膜５で
判別マーク６を構成している。
この歯科用補綴物の判別マーク形成方法におい
ては、侵食部３内に金の薄膜４を形成するから、
判別マーク６を識別するのが容易である。また、
透明保護膜５で薄膜４を覆うから、薄膜４が侵食
部３内から離脱するのを防止することができる。
ては、侵食部３内に金の薄膜４を形成するから、
判別マーク６を識別するのが容易である。また、
透明保護膜５で薄膜４を覆うから、薄膜４が侵食
部３内から離脱するのを防止することができる。
第４図はこの発明に係る他の歯科用補綴物の判
別マーク形成方法により義歯に形成した判別マー
クの形状を示す図である。この判別マーク形成方
法においては、重合レジンからなる前歯のレジン
歯の裏面表面に侵食・膜形成装置により第４図に
示すような幅が500μｍのハート形状の侵食部を
設け、侵食部内に侵食・膜形成装置によりクロム
の薄膜を形成して、判別マーク７を形成する。
別マーク形成方法により義歯に形成した判別マー
クの形状を示す図である。この判別マーク形成方
法においては、重合レジンからなる前歯のレジン
歯の裏面表面に侵食・膜形成装置により第４図に
示すような幅が500μｍのハート形状の侵食部を
設け、侵食部内に侵食・膜形成装置によりクロム
の薄膜を形成して、判別マーク７を形成する。
第５図はこの発明に係る他の歯科用補綴物の判
別マーク形成方法により判別マークが形成された
義歯を示す概略図である。この歯科用補綴物の判
別マーク形成方法においては、総入歯８のチタン
からなる全部床８ａのＢ部の表面を侵食・膜形成
装置により侵食し、第６図に示すような幅が60μ
ｍの数字「５」の形状の侵食部を設け、侵食・膜
形成装置により侵食部内に金の薄膜を形成して、
判別マーク９を形成する。
別マーク形成方法により判別マークが形成された
義歯を示す概略図である。この歯科用補綴物の判
別マーク形成方法においては、総入歯８のチタン
からなる全部床８ａのＢ部の表面を侵食・膜形成
装置により侵食し、第６図に示すような幅が60μ
ｍの数字「５」の形状の侵食部を設け、侵食・膜
形成装置により侵食部内に金の薄膜を形成して、
判別マーク９を形成する。
第７図はこの発明に係る歯科用補綴物の判別マ
ーク形成方法により判別マークが形成された冠を
示す概略断面図である。この歯科用補綴物の判別
マーク形成方法においては、侵食・膜形成装置に
よりパラジウム合金からなる鋳造冠１０のＣ部す
なわち舌側にそれぞれ幅が60μｍ、高さが100μ
ｍ、深さが0.6μｍの文字「A001」の形状の判別
マークを形成する。
ーク形成方法により判別マークが形成された冠を
示す概略断面図である。この歯科用補綴物の判別
マーク形成方法においては、侵食・膜形成装置に
よりパラジウム合金からなる鋳造冠１０のＣ部す
なわち舌側にそれぞれ幅が60μｍ、高さが100μ
ｍ、深さが0.6μｍの文字「A001」の形状の判別
マークを形成する。
第８図はこの発明に係る歯科用補綴物の判別マ
ーク形成方法に使用する侵食・膜形成装置を示す
断面図である。図において、１１ａは直径70mm、
厚さ５mmのステンレススチールからなるベツド、
１１ｂはベツド１１ａに気密に取り付けられたガ
ラス製のベルジヤーで、ベルジヤー１１ｂの直径
は65mm、高さは40mmで、ベツド１１ａ、ベルジヤ
ー１１ｂで真空容器１１を構成している。１２は
ベツド１１ａに設けられた排気管で、排気管１２
は50／分油拡散ポンプ（図示せず）に接続され
ている。１３はベツド１１ａに設けられたガス導
入管で、ガス導入管１３はアルゴンガスボンベ
（図示せず）に接続されている。２１は真空容器
１１内に設けられた軟鉄製のスパツタリング槽
で、スパツタリング槽２１の外径は30mm、内径は
25mmである。１４はスパツタリング槽２１内に設
けられた円筒状の陽極で、陽極１４の外径は７
mm、内径は６mm、幅は2.5mmであり、陽極１４は
直流高電圧電源に接続されている。２４は陽極１
４を紙面左右方向に５mm移動させる陽極移動機構
で、陽極移動機構２４は真空モータ機構を有して
いる。２３ａ，２３ｂはスパツタリング槽２１の
内側部に設けられた磁束密度0.1Tの永久磁石で、
永久磁石２３ａ，２３ｂの直径は25mm、厚さは１
mmである。１５，１６はスパツタリング槽２１の
内面に設けられた一対の平板状対向陰極で、対向
陰極１５，１６は陽極１４の両側に位置してお
り、対向陰極１５，１６は陽極１４の中心線と直
角であり、また対向陰極１５，１６はアース電位
であり、対向陰極１５，１６の大きさは20mm×20
mm、厚さは0.5mmである。１７は対向陰極１６に
設けらた透過孔、２２はスパツタリング槽２１に
設けられた透過孔で、透過孔１７の中心線と透過
孔２２の中心線とは一致しており、透過孔１７，
２２の中心線は陽極１４の中心線と平行である。
２５は透過孔２２内に設けられたステンレススチ
ール製のパタンマスクである。
ーク形成方法に使用する侵食・膜形成装置を示す
断面図である。図において、１１ａは直径70mm、
厚さ５mmのステンレススチールからなるベツド、
１１ｂはベツド１１ａに気密に取り付けられたガ
ラス製のベルジヤーで、ベルジヤー１１ｂの直径
は65mm、高さは40mmで、ベツド１１ａ、ベルジヤ
ー１１ｂで真空容器１１を構成している。１２は
ベツド１１ａに設けられた排気管で、排気管１２
は50／分油拡散ポンプ（図示せず）に接続され
ている。１３はベツド１１ａに設けられたガス導
入管で、ガス導入管１３はアルゴンガスボンベ
（図示せず）に接続されている。２１は真空容器
１１内に設けられた軟鉄製のスパツタリング槽
で、スパツタリング槽２１の外径は30mm、内径は
25mmである。１４はスパツタリング槽２１内に設
けられた円筒状の陽極で、陽極１４の外径は７
mm、内径は６mm、幅は2.5mmであり、陽極１４は
直流高電圧電源に接続されている。２４は陽極１
４を紙面左右方向に５mm移動させる陽極移動機構
で、陽極移動機構２４は真空モータ機構を有して
いる。２３ａ，２３ｂはスパツタリング槽２１の
内側部に設けられた磁束密度0.1Tの永久磁石で、
永久磁石２３ａ，２３ｂの直径は25mm、厚さは１
mmである。１５，１６はスパツタリング槽２１の
内面に設けられた一対の平板状対向陰極で、対向
陰極１５，１６は陽極１４の両側に位置してお
り、対向陰極１５，１６は陽極１４の中心線と直
角であり、また対向陰極１５，１６はアース電位
であり、対向陰極１５，１６の大きさは20mm×20
mm、厚さは0.5mmである。１７は対向陰極１６に
設けらた透過孔、２２はスパツタリング槽２１に
設けられた透過孔で、透過孔１７の中心線と透過
孔２２の中心線とは一致しており、透過孔１７，
２２の中心線は陽極１４の中心線と平行である。
２５は透過孔２２内に設けられたステンレススチ
ール製のパタンマスクである。
第８図に示した侵食・膜形成装置により第１図
に示した判別マークを形成するには、まず数字
「３」の形状に穿孔したパタンマスク２５を透過
孔２２内に設け、スパツタリング槽２１の透過孔
２２が設けられた部分に陶歯１を取り付け、油拡
散ポンプにより真空容器１１内を１×10-3Pa以
下に排気したのち、真空容器１１内にアルゴンガ
スボンベからアルゴンガスを導入することによ
り、真空容器１１内を２×10-2Paのアルゴンガ
ス雰囲気としたのち、陽極移動機構２４により陽
極１４を移動して、透過孔１７の中心線が陽極１
４の内側を通るようにした状態で、直流高電圧電
源により陽極１４に1kVの正電位を約３分間与え
ると、陽極１４と対向陰極１５，１６との間に冷
陰極放電が生じ、冷陰極放電によつて生じた中性
粒子が透過孔１７，２２、パタンマスク２５の小
孔を通過して、陶歯１の表面を中性粒子が衝撃す
るから、陶歯１の表面が侵食され、陶歯１の表面
に侵食部が形成される。こののち、透明保護膜を
設ける。
に示した判別マークを形成するには、まず数字
「３」の形状に穿孔したパタンマスク２５を透過
孔２２内に設け、スパツタリング槽２１の透過孔
２２が設けられた部分に陶歯１を取り付け、油拡
散ポンプにより真空容器１１内を１×10-3Pa以
下に排気したのち、真空容器１１内にアルゴンガ
スボンベからアルゴンガスを導入することによ
り、真空容器１１内を２×10-2Paのアルゴンガ
ス雰囲気としたのち、陽極移動機構２４により陽
極１４を移動して、透過孔１７の中心線が陽極１
４の内側を通るようにした状態で、直流高電圧電
源により陽極１４に1kVの正電位を約３分間与え
ると、陽極１４と対向陰極１５，１６との間に冷
陰極放電が生じ、冷陰極放電によつて生じた中性
粒子が透過孔１７，２２、パタンマスク２５の小
孔を通過して、陶歯１の表面を中性粒子が衝撃す
るから、陶歯１の表面が侵食され、陶歯１の表面
に侵食部が形成される。こののち、透明保護膜を
設ける。
また、第８図に示した侵食・膜形成装置により
第３図に示した判別マークを形成するには、金か
らなる対向陰極１５，１６を用い、上述と同様に
して陶歯１の表面に侵食部３を設けたのち、陽極
移動機構２４により陽極１４をゆつくりと移動し
て、透過孔１７の中心線が陽極１４の外側を通る
ようにした状態で、直流高電圧電源により陽極１
４に1kVの正電位を約10分間与えると、スパツタ
リングされた金原子の一部が透過孔１７，２２、
パタンマスク２５の小孔を通過して、陶歯１の表
面に設けられた侵食部３内に付着するか、陶歯１
の表面の侵食部３内に金の薄膜４が形成される。
こののち、透明保護膜６を設ける。
第３図に示した判別マークを形成するには、金か
らなる対向陰極１５，１６を用い、上述と同様に
して陶歯１の表面に侵食部３を設けたのち、陽極
移動機構２４により陽極１４をゆつくりと移動し
て、透過孔１７の中心線が陽極１４の外側を通る
ようにした状態で、直流高電圧電源により陽極１
４に1kVの正電位を約10分間与えると、スパツタ
リングされた金原子の一部が透過孔１７，２２、
パタンマスク２５の小孔を通過して、陶歯１の表
面に設けられた侵食部３内に付着するか、陶歯１
の表面の侵食部３内に金の薄膜４が形成される。
こののち、透明保護膜６を設ける。
さらに、第８図に示した侵食・膜形成装置によ
り第４図に示した判別マークを形成するには、ま
ずハートの形状に穿孔したパタンマスク２５を透
過孔２２内に設け、スパツタリング槽２１の透過
孔２２に設けられた部分に陶歯１の代わりにレジ
ン歯を取り付け、クロムからなる対向陰極１５，
１６を用い、上述と同様にして、透過孔１７の中
心線が陽極１４の内側を通るようにした状態で直
流高電圧電源により陽極１４に1kVの正電位を約
５分間与えたのち、透過孔１７の中心線が陽極１
４の外側を通るようにした状態で、直流高電圧電
源により陽極１４に1kVの正電位を約７分間与え
る。
り第４図に示した判別マークを形成するには、ま
ずハートの形状に穿孔したパタンマスク２５を透
過孔２２内に設け、スパツタリング槽２１の透過
孔２２に設けられた部分に陶歯１の代わりにレジ
ン歯を取り付け、クロムからなる対向陰極１５，
１６を用い、上述と同様にして、透過孔１７の中
心線が陽極１４の内側を通るようにした状態で直
流高電圧電源により陽極１４に1kVの正電位を約
５分間与えたのち、透過孔１７の中心線が陽極１
４の外側を通るようにした状態で、直流高電圧電
源により陽極１４に1kVの正電位を約７分間与え
る。
また、第８図に示した侵食・膜形成装置により
第５図に示した判別マークを形成するには、まず
数字「５」の形状に穿孔したパタンマスク２５を
透過孔２２内に設け、スパツタリング槽２１の透
過孔２２に設けられた部分に陶歯１の代わりに総
入歯８を取り付け、金からなる対向陰極１５，１
６を用い、上述と同様にして、透過孔１７の中心
線が陽極１４の内側を通るようにした状態で、直
流高電圧電源により陽極１４に1kVの正電位を約
10分間与えたのち、透過孔１７の中心線が陽極１
４の外側を通るようにした状態で、直流高電圧電
源により陽極１４に1kVの正電位を約10分間与え
る。
第５図に示した判別マークを形成するには、まず
数字「５」の形状に穿孔したパタンマスク２５を
透過孔２２内に設け、スパツタリング槽２１の透
過孔２２に設けられた部分に陶歯１の代わりに総
入歯８を取り付け、金からなる対向陰極１５，１
６を用い、上述と同様にして、透過孔１７の中心
線が陽極１４の内側を通るようにした状態で、直
流高電圧電源により陽極１４に1kVの正電位を約
10分間与えたのち、透過孔１７の中心線が陽極１
４の外側を通るようにした状態で、直流高電圧電
源により陽極１４に1kVの正電位を約10分間与え
る。
さらに、第８図に示した侵食・膜形成装置によ
り第７図に示した判別マーク形成するには、まず
「A001」の形状に穿孔したパタンマスク２５を透
過孔２２内に設け、スパツタリング槽２１の透過
孔２２が設けられた部分に陶歯１の代わりに鋳造
冠１０を取り付け、上述と同様にして、透過孔１
７の中心線が陽極１４の内側を通るようにした状
態で、直流高電圧電源により陽極１４に1kVの正
電位を約２分間与える。
り第７図に示した判別マーク形成するには、まず
「A001」の形状に穿孔したパタンマスク２５を透
過孔２２内に設け、スパツタリング槽２１の透過
孔２２が設けられた部分に陶歯１の代わりに鋳造
冠１０を取り付け、上述と同様にして、透過孔１
７の中心線が陽極１４の内側を通るようにした状
態で、直流高電圧電源により陽極１４に1kVの正
電位を約２分間与える。
第９図は第８図に示した侵食・膜形成装置の作
用の実験装置の一部を示す断面図、第１０図は第
９図のＡ矢視図である。図において、３６は真空
排気管、ガス導入管を有する真空容器内に設けら
れた陽極リード、３２は陽極リード３６に取り付
けられた円筒状の陽極で、陽極３２の外径は15
mm、内径は14mmである。３８，３９は陽極３２の
両側に設けられた一対の対向陰極で、対向陰極３
８，３９は金からなり、対向陰極３８，３９は陽
極３２の中心線とほぼ直角に設けられており、対
向陰極３８，３９はアース電位であり、対向陰極
３８，３９の寸法は25×15×0.2mmである。３３
は対向陰極３８に設けられたスリツト、３１は対
向陰極３８に当接して設けられた基板であり、永
久磁石（図示せず）により陽極３２の中心線とほ
ぼ平行な磁場が形成されている。
用の実験装置の一部を示す断面図、第１０図は第
９図のＡ矢視図である。図において、３６は真空
排気管、ガス導入管を有する真空容器内に設けら
れた陽極リード、３２は陽極リード３６に取り付
けられた円筒状の陽極で、陽極３２の外径は15
mm、内径は14mmである。３８，３９は陽極３２の
両側に設けられた一対の対向陰極で、対向陰極３
８，３９は金からなり、対向陰極３８，３９は陽
極３２の中心線とほぼ直角に設けられており、対
向陰極３８，３９はアース電位であり、対向陰極
３８，３９の寸法は25×15×0.2mmである。３３
は対向陰極３８に設けられたスリツト、３１は対
向陰極３８に当接して設けられた基板であり、永
久磁石（図示せず）により陽極３２の中心線とほ
ぼ平行な磁場が形成されている。
第１１図は第９図、第１０図に示す実験装置に
おいて、ガラスからなる基板３１を用い、真空容
器内を１×10-4Paの真空に排気したうえで、真
空容器内にアルゴンガスを導入することにより、
真空容器内を２×10-2Paのアルゴンガス雰囲気
としたのち、直流高電圧電源により陽極３２に
2kVの正電位を与えて、放電電流を5mAとして
12分間スパツタリングを続けたのち、高感度触針
式表面解析器によつて基板３１の表面の侵食状態
等を調べた結果を示すグラフで、陽極３２の中心
線からの距離と基板３１の表面に堆積した金薄膜
３４の膜厚、基板３１に形成された凹所３５ａの
侵食深さとの関係を示すものである。このグラフ
から明らかなように、陽極３２のほぼ外側に対応
する部分には膜厚が約2000Åの金薄膜３４が形成
されており、また陽極３２のほぼ内側に対応する
部分に凹所３５ａが形成されており、凹所３５ａ
は陽極３２の縁端部に対応する部分の近傍で最も
深く、その深さは約4000Åである。このように、
陽極３２の縁端部に対応する部分の近傍で最も深
い凹所３５ａが形成されるのは、基板３１の表面
はアルゴンガスの正イオンによつて衝撃される
が、基板３１がガラスのように非金属の場合に
は、基板３１の表面がアルゴンガスの正イオンに
よつて衝撃されると、表面に帯電するため、以後
アルゴンガスの正イオンによる衝撃が行なわれな
くなり、また基板３１の表面の陽極３２の縁端部
に対応する部分の近傍では、基板３１の表面の陽
極３２の外側に対応する部分に到達する中性金原
子よりも高エネルギーの中性金原子による衝撃が
行なわれているためであると考えられる。したが
つて、第８図に示した侵食・膜形成装置により非
金属からなる歯科用補綴物の表面を侵食する場合
には、透過孔１７の中心線が陽極１４の縁端部の
近傍を通るようにするのが望ましい。なお、電
界、磁界を変化させると、金薄膜３４と凹所３５
ａとの境界の位置が変化するので、それに応じて
陽極１４の位置を設定するのが望ましい。また、
第８図に示した侵食・膜形成装置により歯科用補
綴物の侵食部に薄膜を形成する場合には、透過孔
１７の中心線が陽極１４の外側を通るようにす
る。
おいて、ガラスからなる基板３１を用い、真空容
器内を１×10-4Paの真空に排気したうえで、真
空容器内にアルゴンガスを導入することにより、
真空容器内を２×10-2Paのアルゴンガス雰囲気
としたのち、直流高電圧電源により陽極３２に
2kVの正電位を与えて、放電電流を5mAとして
12分間スパツタリングを続けたのち、高感度触針
式表面解析器によつて基板３１の表面の侵食状態
等を調べた結果を示すグラフで、陽極３２の中心
線からの距離と基板３１の表面に堆積した金薄膜
３４の膜厚、基板３１に形成された凹所３５ａの
侵食深さとの関係を示すものである。このグラフ
から明らかなように、陽極３２のほぼ外側に対応
する部分には膜厚が約2000Åの金薄膜３４が形成
されており、また陽極３２のほぼ内側に対応する
部分に凹所３５ａが形成されており、凹所３５ａ
は陽極３２の縁端部に対応する部分の近傍で最も
深く、その深さは約4000Åである。このように、
陽極３２の縁端部に対応する部分の近傍で最も深
い凹所３５ａが形成されるのは、基板３１の表面
はアルゴンガスの正イオンによつて衝撃される
が、基板３１がガラスのように非金属の場合に
は、基板３１の表面がアルゴンガスの正イオンに
よつて衝撃されると、表面に帯電するため、以後
アルゴンガスの正イオンによる衝撃が行なわれな
くなり、また基板３１の表面の陽極３２の縁端部
に対応する部分の近傍では、基板３１の表面の陽
極３２の外側に対応する部分に到達する中性金原
子よりも高エネルギーの中性金原子による衝撃が
行なわれているためであると考えられる。したが
つて、第８図に示した侵食・膜形成装置により非
金属からなる歯科用補綴物の表面を侵食する場合
には、透過孔１７の中心線が陽極１４の縁端部の
近傍を通るようにするのが望ましい。なお、電
界、磁界を変化させると、金薄膜３４と凹所３５
ａとの境界の位置が変化するので、それに応じて
陽極１４の位置を設定するのが望ましい。また、
第８図に示した侵食・膜形成装置により歯科用補
綴物の侵食部に薄膜を形成する場合には、透過孔
１７の中心線が陽極１４の外側を通るようにす
る。
第１２図は第９図、第１０図に示す実験装置に
おいて、金属からなる基板３１を用い、上述と同
様に基板３１の表面を調べた結果を示すグラフ
で、陽極３２の中心線からの距離と基板３１の表
面に堆積した金薄膜３４の膜厚、基板３１に形成
された凹所３５ｂの侵食深さとの関係を示すもの
である。このグラフから明らかなように、陽極３
２のほぼ外側に対応する部分には金薄膜３４が形
成されており、また陽極３２のほぼ内側に対応す
る部分に凹所３５ｂが形成されていて、凹所３５
ｂは陽極３２の中央部に対応する部分が最も深く
なつている。このように、凹所３５ｂが陽極３２
の中央部に対応する部分で最も深くなるのは、基
板３１の表面にアルゴンガスの正イオンによつて
衝撃され、基板３１が金属からなる場合には、ア
ルゴンガスの正イオンによつて衝撃されても、表
面に帯電することがなく、しかもアルゴンガスの
正イオンは陽極３２の中心線に対応する部分に向
かつて強くなつており、また基板３１の表面の縁
端部に対応する部分の近傍では、中性金原子によ
る衝撃が行なわれているが、アルゴンガスの正イ
オンによる衝撃の方が中性金原子による衝撃より
も強いためであると考えられる。したがつて、第
８図に示した侵食・膜形成装置により金属からな
る歯科用補綴物の表面を侵食する場合には、透過
孔１７の中心線が陽極１４の中央部を通るように
するのが望ましい。
おいて、金属からなる基板３１を用い、上述と同
様に基板３１の表面を調べた結果を示すグラフ
で、陽極３２の中心線からの距離と基板３１の表
面に堆積した金薄膜３４の膜厚、基板３１に形成
された凹所３５ｂの侵食深さとの関係を示すもの
である。このグラフから明らかなように、陽極３
２のほぼ外側に対応する部分には金薄膜３４が形
成されており、また陽極３２のほぼ内側に対応す
る部分に凹所３５ｂが形成されていて、凹所３５
ｂは陽極３２の中央部に対応する部分が最も深く
なつている。このように、凹所３５ｂが陽極３２
の中央部に対応する部分で最も深くなるのは、基
板３１の表面にアルゴンガスの正イオンによつて
衝撃され、基板３１が金属からなる場合には、ア
ルゴンガスの正イオンによつて衝撃されても、表
面に帯電することがなく、しかもアルゴンガスの
正イオンは陽極３２の中心線に対応する部分に向
かつて強くなつており、また基板３１の表面の縁
端部に対応する部分の近傍では、中性金原子によ
る衝撃が行なわれているが、アルゴンガスの正イ
オンによる衝撃の方が中性金原子による衝撃より
も強いためであると考えられる。したがつて、第
８図に示した侵食・膜形成装置により金属からな
る歯科用補綴物の表面を侵食する場合には、透過
孔１７の中心線が陽極１４の中央部を通るように
するのが望ましい。
以上述べたように、この発明に係る歯科用補綴
物の判別マーク形成方法においては、判別マーク
の深さが小さくなることができるから、歯垢の付
着を助長することがないので、しか口腔内疾患を
消磁させる恐れがなく、また判別マークの形状を
小さくすることができるから、多くの数字、文字
等からなる判別マークを形成することができる。
このように、この発明の効果は顕著である。
物の判別マーク形成方法においては、判別マーク
の深さが小さくなることができるから、歯垢の付
着を助長することがないので、しか口腔内疾患を
消磁させる恐れがなく、また判別マークの形状を
小さくすることができるから、多くの数字、文字
等からなる判別マークを形成することができる。
このように、この発明の効果は顕著である。
第１図はこの発明に係る歯科用補綴物の判別マ
ーク形成方法により判別マークが形成された義歯
を示す概略図、第２図は第１図に示された義歯に
形成された判別マークを示す図、第３図はこの発
明に係る他の歯科用補綴物の判別マーク形成方法
により判別マークが形成された義歯の一部を示す
概略断面図、第４図はこの発明に係る他の歯科用
補綴物の判別マーク形成方法により義歯に形成し
た判別マークの形状を示す図、第５図はこの発明
に係る他の歯科用補綴物の判別マーク形成方法に
より判別マークが形成された義歯を示す概略図、
第６図は第５図に示された義歯に形成された判別
マークを示す図、第７図はこの発明に係る歯科用
補綴物の判別マーク形成方法により判別マークが
形成された冠を示す概略断面図、第８図はこの発
明に係る歯科用補綴物を製造するための侵食・膜
形成装置を示す断面図、第９図は第８図に示した
侵食・膜形成装置の作用の実験装置の一部を示す
断面図、第１０図は第９図のＡ矢視図、第１１
図、第１２図はそれぞれ第９図、第１０図に示す
実験装置によつて処理した基板の表面を調べた結
果を示すグラフである。 １……陶歯、２……判別マーク、３……侵食
部、４……薄膜、６，７……判別マーク、８……
総入歯、９……判別マーク、１０……鋳造冠。
ーク形成方法により判別マークが形成された義歯
を示す概略図、第２図は第１図に示された義歯に
形成された判別マークを示す図、第３図はこの発
明に係る他の歯科用補綴物の判別マーク形成方法
により判別マークが形成された義歯の一部を示す
概略断面図、第４図はこの発明に係る他の歯科用
補綴物の判別マーク形成方法により義歯に形成し
た判別マークの形状を示す図、第５図はこの発明
に係る他の歯科用補綴物の判別マーク形成方法に
より判別マークが形成された義歯を示す概略図、
第６図は第５図に示された義歯に形成された判別
マークを示す図、第７図はこの発明に係る歯科用
補綴物の判別マーク形成方法により判別マークが
形成された冠を示す概略断面図、第８図はこの発
明に係る歯科用補綴物を製造するための侵食・膜
形成装置を示す断面図、第９図は第８図に示した
侵食・膜形成装置の作用の実験装置の一部を示す
断面図、第１０図は第９図のＡ矢視図、第１１
図、第１２図はそれぞれ第９図、第１０図に示す
実験装置によつて処理した基板の表面を調べた結
果を示すグラフである。 １……陶歯、２……判別マーク、３……侵食
部、４……薄膜、６，７……判別マーク、８……
総入歯、９……判別マーク、１０……鋳造冠。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 歯科用補綴物に判別マークを形成する方法に
おいて、真空容器と、上記真空容器内に設けられ
た中空状の陽極と、上記陽極の両側にかつ上記陽
極の中心線のほぼ直角に設けられた一対の対向陰
極と、磁力線が上記陽極の中心線とほぼ平行な磁
場を形成する磁石と、上記対向陰極の一方に設け
られかつ中心線が上記陽極の中心線とほぼ平行な
透過孔とを有する侵食装置により上記歯科用補綴
物の表面を侵食して判別マークを形成することを
特徴とする歯科用補綴物の判別マーク形成方法。 ２ 歯科用補綴物に判別マークを形成する方法に
おいて、真空容器と、上記真空容器内に設けられ
た中空状の陽極と、上記陽極の両側にかつ上記陽
極の中心線とほぼ直角に設けられた一対の対向陰
極と、磁力線が上記陽極の中心線とほぼ平行な磁
場を形成する磁石と、上記対向陰極の一方に設け
られかつ中心線が上記陽極の中心線とほぼ平行な
透過孔とを有する侵食・膜形成装置により上記歯
科用補綴物の表面を侵食し、上記侵食・膜形成装
置により侵食部に薄膜を形成して判別マークを形
成することを特徴とする歯科用補綴物の判別マー
ク形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63305041A JPH02152448A (ja) | 1988-12-01 | 1988-12-01 | 歯科用補綴物の判別マーク形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63305041A JPH02152448A (ja) | 1988-12-01 | 1988-12-01 | 歯科用補綴物の判別マーク形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02152448A JPH02152448A (ja) | 1990-06-12 |
| JPH0554991B2 true JPH0554991B2 (ja) | 1993-08-13 |
Family
ID=17940392
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63305041A Granted JPH02152448A (ja) | 1988-12-01 | 1988-12-01 | 歯科用補綴物の判別マーク形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02152448A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2537011B2 (ja) * | 1993-06-24 | 1996-09-25 | 常一 加茂 | 歯用補綴物への標識形成方法 |
| JP5894861B2 (ja) * | 2012-05-25 | 2016-03-30 | 株式会社ジーシー | 識別情報記録部の識別情報を蛍光により確認できる義歯を製造する方法及び義歯に蛍光により確認できる識別情報を付与する組成物キット |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS635730A (ja) * | 1986-06-27 | 1988-01-11 | 山内 英徳 | 口腔内装着物による個人識別の方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5239340Y2 (ja) * | 1974-06-14 | 1977-09-06 |
-
1988
- 1988-12-01 JP JP63305041A patent/JPH02152448A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS635730A (ja) * | 1986-06-27 | 1988-01-11 | 山内 英徳 | 口腔内装着物による個人識別の方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02152448A (ja) | 1990-06-12 |
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