JPH0553002A - 低温真空蒸着による多層膜の製造方法、及びその製造装置 - Google Patents
低温真空蒸着による多層膜の製造方法、及びその製造装置Info
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- JPH0553002A JPH0553002A JP3210570A JP21057091A JPH0553002A JP H0553002 A JPH0553002 A JP H0553002A JP 3210570 A JP3210570 A JP 3210570A JP 21057091 A JP21057091 A JP 21057091A JP H0553002 A JPH0553002 A JP H0553002A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 耐熱性の小さいプラスチック光学部品に光反
射防止膜を形成する。 【構成】 光学部品表面に高屈折率層、低屈折率層を蒸
着によって順次積層するに当り、５０〜７０℃に加熱し
た酸素又はオゾンを真空槽に供給する。更に、蒸着後も
酸素又はオゾンを供給する。
射防止膜を形成する。 【構成】 光学部品表面に高屈折率層、低屈折率層を蒸
着によって順次積層するに当り、５０〜７０℃に加熱し
た酸素又はオゾンを真空槽に供給する。更に、蒸着後も
酸素又はオゾンを供給する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はレンズ等の透明光学部品
基板の表面の光の反射防止多層膜の製造方法、及びその
製造装置に関する。特に、プラスチック等の耐熱性のひ
くい基板表面に形成する反射防止多層膜の製造方法、及
びその製造装置に関する。
基板の表面の光の反射防止多層膜の製造方法、及びその
製造装置に関する。特に、プラスチック等の耐熱性のひ
くい基板表面に形成する反射防止多層膜の製造方法、及
びその製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】最近、コストダウン、軽量、小型化のニ
ーズから、レンズ等の光学部品の材料として、プラスチ
ックが多く使用されるようになってきた。それに伴な
い、プラスチック製光学部品の反射防止多層膜への要求
特性もしだいに厳しくなっている。プラスチック製光学
部品表面に形成する反射防止多層膜は密着性、強度等に
関する信頼性が重要な要素である。特に、密着性、膜強
度が問題となるため、これらの問題を解決するための特
許が出願されている。
ーズから、レンズ等の光学部品の材料として、プラスチ
ックが多く使用されるようになってきた。それに伴な
い、プラスチック製光学部品の反射防止多層膜への要求
特性もしだいに厳しくなっている。プラスチック製光学
部品表面に形成する反射防止多層膜は密着性、強度等に
関する信頼性が重要な要素である。特に、密着性、膜強
度が問題となるため、これらの問題を解決するための特
許が出願されている。
【０００３】従来開示されている技術として、特公昭５
６−１５４８１号には、プラスチック製基板との膜密着
性を向上させる手法として、第１層に酸化ケイ素膜（Ｓ
ｉＯ x （１＜ｘ＜２））を形成し、さらに高屈折率層と
低屈折率層とからなる交互層により反射防止効果をもた
せることが記載されている。
６−１５４８１号には、プラスチック製基板との膜密着
性を向上させる手法として、第１層に酸化ケイ素膜（Ｓ
ｉＯ x （１＜ｘ＜２））を形成し、さらに高屈折率層と
低屈折率層とからなる交互層により反射防止効果をもた
せることが記載されている。
【０００４】ところで、前記の膜密着性を向上させるた
めの酸化ケイ素（ＳｉＯx （１＜ｘ＜２））の形成方法
としては、ＳｉＯを室温のＯ2ガス雰囲気中で反応蒸着
させるのが通常である。又膜厚については膜強度等の観
点からλ／４〜２λ（λ：５００ｎｍ）程度が必要にな
っており、この膜厚の反射防止膜を反応性蒸着によって
形成するには、比較的長時間を要する。
めの酸化ケイ素（ＳｉＯx （１＜ｘ＜２））の形成方法
としては、ＳｉＯを室温のＯ2ガス雰囲気中で反応蒸着
させるのが通常である。又膜厚については膜強度等の観
点からλ／４〜２λ（λ：５００ｎｍ）程度が必要にな
っており、この膜厚の反射防止膜を反応性蒸着によって
形成するには、比較的長時間を要する。
【０００５】一方生産性の点から考えると、ＳｉＯを反
応性蒸着する場合の蒸着レートとしては１０〜３０Ａ／
sec 程度が最低限必要である。ところが、このようにＳ
ｉＯをＯ2 ガス雰囲気中において１０〜３０Ａ／sec の
蒸着レートで２λ（λ：５００ｎｍ）の厚さまで成膜し
た場合、膜の吸収が増加して、光学部品の増透効果が低
減してしまうという問題があった。
応性蒸着する場合の蒸着レートとしては１０〜３０Ａ／
sec 程度が最低限必要である。ところが、このようにＳ
ｉＯをＯ2 ガス雰囲気中において１０〜３０Ａ／sec の
蒸着レートで２λ（λ：５００ｎｍ）の厚さまで成膜し
た場合、膜の吸収が増加して、光学部品の増透効果が低
減してしまうという問題があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】以上説明したように、
従来のプラスチック製光学部品に形成する反射防止多層
膜においては、第１層としてＳｉＯをＯ2ガス中で反応
性蒸着をする場合、生産性、密着性を考慮して、速い蒸
着条件を採用する場合、膜吸収が増加する。
従来のプラスチック製光学部品に形成する反射防止多層
膜においては、第１層としてＳｉＯをＯ2ガス中で反応
性蒸着をする場合、生産性、密着性を考慮して、速い蒸
着条件を採用する場合、膜吸収が増加する。
【０００７】本発明はかかる問題点を解決するためにな
されたものであり、基板との密着性が良好で、かつ光学
特性についても改善された、プラスチック製光学部品の
反射防止多層膜の製造方法を提供するものである。
されたものであり、基板との密着性が良好で、かつ光学
特性についても改善された、プラスチック製光学部品の
反射防止多層膜の製造方法を提供するものである。
【０００８】さらにこれらの多層膜の製造に用いて有効
な真空蒸着による反射防止多層膜の製造装置を提供する
ことを目的とする。
な真空蒸着による反射防止多層膜の製造装置を提供する
ことを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記問題を
解決するために種々検討を行なった。従来の反射防止多
層膜の製造方法においては、反応性蒸着に用いるガス
は、成膜中は室温のＯ2ガスであり、成膜後は大気又は
乾燥大気等を蒸着装置の真空槽内に導入する方法がとら
れていた。この場合、膜の光の吸収の増加原因として
は、成膜時のＳｉＯの成膜条件が生産性と膜密着性の両
方を考慮したものになっており、かつ膜厚が厚くなって
いることなどから、ＳｉＯの酸化が不足して光の吸収の
増加が発生すると本発明者らは考えた。更に、成膜中の
酸化不足を解消するために、通常の大気を導入するかわ
りに５０℃〜７０℃に加熱されたＯ2 ガス、又はオゾン
Ｏ3 を導入することに想到した。又成膜後も前記ガスを
真空槽に導入するようにした。
解決するために種々検討を行なった。従来の反射防止多
層膜の製造方法においては、反応性蒸着に用いるガス
は、成膜中は室温のＯ2ガスであり、成膜後は大気又は
乾燥大気等を蒸着装置の真空槽内に導入する方法がとら
れていた。この場合、膜の光の吸収の増加原因として
は、成膜時のＳｉＯの成膜条件が生産性と膜密着性の両
方を考慮したものになっており、かつ膜厚が厚くなって
いることなどから、ＳｉＯの酸化が不足して光の吸収の
増加が発生すると本発明者らは考えた。更に、成膜中の
酸化不足を解消するために、通常の大気を導入するかわ
りに５０℃〜７０℃に加熱されたＯ2 ガス、又はオゾン
Ｏ3 を導入することに想到した。又成膜後も前記ガスを
真空槽に導入するようにした。
【００１０】この方法により活性なＯ2 ガス、又はオゾ
ンＯ3が膜中にとり込まれやすくなり、膜の酸化反応が
進み、従来法に比べ、膜吸収の低減ができることを知得
し、本発明を完成するに至った。
ンＯ3が膜中にとり込まれやすくなり、膜の酸化反応が
進み、従来法に比べ、膜吸収の低減ができることを知得
し、本発明を完成するに至った。
【００１１】即ち、本発明は上記目的を達成するため
に、真空槽内に配設した透明光学部品基板の温度を上昇
させないで、前記基板表面に金属酸化物からなる高屈折
率層と、前記金属酸化物と異なる金属酸化物からなる低
屈折率層とを交互に真空蒸着して前記基板表面に多層膜
を形成する低温真空蒸着による多層膜の製造方法におい
て、前記高屈折率層及び低屈折率層の蒸着中及び／又は
蒸着後に５０〜７０℃に加熱した酸素ガス又はオゾンガ
スを真空槽内に導入するもので、透明光学部品基板の材
料がプラスチック又はガラスであることを含むものであ
る。
に、真空槽内に配設した透明光学部品基板の温度を上昇
させないで、前記基板表面に金属酸化物からなる高屈折
率層と、前記金属酸化物と異なる金属酸化物からなる低
屈折率層とを交互に真空蒸着して前記基板表面に多層膜
を形成する低温真空蒸着による多層膜の製造方法におい
て、前記高屈折率層及び低屈折率層の蒸着中及び／又は
蒸着後に５０〜７０℃に加熱した酸素ガス又はオゾンガ
スを真空槽内に導入するもので、透明光学部品基板の材
料がプラスチック又はガラスであることを含むものであ
る。
【００１２】更に、本発明は上記目的を達成するため
に、内部に蒸着材料を加熱する加熱部と前記加熱部と対
向して配設された基板取付部とを備えた真空槽と、前記
真空槽内と連通してなり前記真空槽内を排気する排気ポ
ンプとを有する真空蒸着による多層膜の製造装置におい
て、前記真空槽が前記真空槽内に加熱酸素ガスを供給す
るヒーター部を備えた酸素供給管、及び／又は前記真空
槽内にオゾンを供給するためのオゾン発生器を有してな
るように構成するものである。
に、内部に蒸着材料を加熱する加熱部と前記加熱部と対
向して配設された基板取付部とを備えた真空槽と、前記
真空槽内と連通してなり前記真空槽内を排気する排気ポ
ンプとを有する真空蒸着による多層膜の製造装置におい
て、前記真空槽が前記真空槽内に加熱酸素ガスを供給す
るヒーター部を備えた酸素供給管、及び／又は前記真空
槽内にオゾンを供給するためのオゾン発生器を有してな
るように構成するものである。
【００１３】上記方法によれば、工程的に考えても処理
時間、工数は従来法と比較してもほとんどかわらず、従
ってコストアップになることはない。これまで、主に透
明光学部品基板の材料としてプラスチックについて述べ
たが、これまでの説明からわかるように基板材料がガラ
スの場合でも、面精度の点から基板温度が上げられず、
全体の膜厚が厚くなる多層膜の場合には、本発明による
製造方法が有効である。 又、装置としてはＯ2 ガス導
入部分にヒーターを設けるか、又はオゾン発生器を設置
すれば良く、コスト的にも安いものである。
時間、工数は従来法と比較してもほとんどかわらず、従
ってコストアップになることはない。これまで、主に透
明光学部品基板の材料としてプラスチックについて述べ
たが、これまでの説明からわかるように基板材料がガラ
スの場合でも、面精度の点から基板温度が上げられず、
全体の膜厚が厚くなる多層膜の場合には、本発明による
製造方法が有効である。 又、装置としてはＯ2 ガス導
入部分にヒーターを設けるか、又はオゾン発生器を設置
すれば良く、コスト的にも安いものである。
【００１４】以下、本発明を詳細に説明する。
【００１５】本発明においては、前述のように透明光学
部品基板の表面にＳｉＯを酸素ガス雰囲気中で反応蒸着
させて第１層（ベースコート層、組成ＳｉＯx （１＜ｘ
＜２））を形成し、更に第１層の上に高屈折率層及び低
屈折率層を交互に複数層積層することにより、基板表面
に反射防止多層膜を形成するものである。
部品基板の表面にＳｉＯを酸素ガス雰囲気中で反応蒸着
させて第１層（ベースコート層、組成ＳｉＯx （１＜ｘ
＜２））を形成し、更に第１層の上に高屈折率層及び低
屈折率層を交互に複数層積層することにより、基板表面
に反射防止多層膜を形成するものである。
【００１６】ここで、透明光学部品基板としては、レン
ズ、光ディスク、ディスプレイ等がある。これらの基板
の材質としては、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポ
リスチレン、ジエチレングリコールビスアリルカーボネ
ート（ＣＲ−３９）等のプラスチック、ガラス等があ
る。第１層（ベースコート）は前述のようにＳｉＯを蒸
着材料とするものである。
ズ、光ディスク、ディスプレイ等がある。これらの基板
の材質としては、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポ
リスチレン、ジエチレングリコールビスアリルカーボネ
ート（ＣＲ−３９）等のプラスチック、ガラス等があ
る。第１層（ベースコート）は前述のようにＳｉＯを蒸
着材料とするものである。
【００１７】高屈折率層はＺｒＯ2 、ＴｉＯ2 、Ｔａ2
Ｏ5 、ＣｅＯ2 等の金属酸化物、又はこれらの混合物か
らなり、これらを形成するための蒸着材料としては、Ｚ
ｒＯ 2 、ＴｉＯ2 、Ｔｉ2Ｏ3 、Ｔａ2Ｏ5 、ＣｅＯ2 等
が好ましい。
Ｏ5 、ＣｅＯ2 等の金属酸化物、又はこれらの混合物か
らなり、これらを形成するための蒸着材料としては、Ｚ
ｒＯ 2 、ＴｉＯ2 、Ｔｉ2Ｏ3 、Ｔａ2Ｏ5 、ＣｅＯ2 等
が好ましい。
【００１８】高屈折率層の膜厚は、一般的に所望に応じ
て設計される。
て設計される。
【００１９】低屈折率層はＳｉＯ2 からなる。低屈折率
層を形成するための蒸着材料としてはＳｉＯ2 等が好ま
しい。また低屈折率層の膜厚としては、一般的に所望に
応じて設計される。
層を形成するための蒸着材料としてはＳｉＯ2 等が好ま
しい。また低屈折率層の膜厚としては、一般的に所望に
応じて設計される。
【００２０】第１層、高屈折率層及び低屈折率層の形成
条件を次に説明する。
条件を次に説明する。
【００２１】本発明においては、基板温度を上昇させな
いで各層の蒸着を行なうものであるが、基板温度として
は３０〜６０℃が好ましい。
いで各層の蒸着を行なうものであるが、基板温度として
は３０〜６０℃が好ましい。
【００２２】蒸着中及び／又は蒸着後、本発明において
は、酸素ガス、又はオゾンガスを真空槽に供給するもの
であるが、これらのガス温度は５０〜７０℃とするもの
である。ガスの供給時間は、蒸着時は蒸着期間中であ
り、蒸着後は真空を開放する時間で充分である。これに
より、光の膜吸収が改善された多層膜を形成できる。
は、酸素ガス、又はオゾンガスを真空槽に供給するもの
であるが、これらのガス温度は５０〜７０℃とするもの
である。ガスの供給時間は、蒸着時は蒸着期間中であ
り、蒸着後は真空を開放する時間で充分である。これに
より、光の膜吸収が改善された多層膜を形成できる。
【００２３】図４は上記低温真空蒸着による多層膜の製
造に用いる製造装置の一例を示すものである。
造に用いる製造装置の一例を示すものである。
【００２４】図４中１１は気密に形成された真空槽であ
る。真空槽１１の内部には蒸着材料１２を加熱蒸発させ
る加熱部１３、及び加熱部１３と対向して基板取付部１
４が設けられている。１５は基板取付部１４に取付けた
透明光学部品基板で、この基板１５の表面に多層膜を形
成するものである。
る。真空槽１１の内部には蒸着材料１２を加熱蒸発させ
る加熱部１３、及び加熱部１３と対向して基板取付部１
４が設けられている。１５は基板取付部１４に取付けた
透明光学部品基板で、この基板１５の表面に多層膜を形
成するものである。
【００２５】真空槽１１には、オゾン発生器１６が連結
されており、蒸着時等に５０〜７０℃に加熱したオゾン
を真空槽１１内に供給する。
されており、蒸着時等に５０〜７０℃に加熱したオゾン
を真空槽１１内に供給する。
【００２６】１７は真空槽１１に連結され、酸素を真空
槽１１内に供給する酸素供給管で、供給管１７はヒータ
ー部１８を備えている。前記ヒーター部１８は供給管１
７を通して真空槽に供給する酸素を５０〜７０℃に加熱
するためのものである。また、１９は真空槽１１内の圧
力を表示する真空計である。
槽１１内に供給する酸素供給管で、供給管１７はヒータ
ー部１８を備えている。前記ヒーター部１８は供給管１
７を通して真空槽に供給する酸素を５０〜７０℃に加熱
するためのものである。また、１９は真空槽１１内の圧
力を表示する真空計である。
【００２７】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。 ＜実施例１＞プラスチック製光学部品に反射防止多層膜
を形成した。
る。 ＜実施例１＞プラスチック製光学部品に反射防止多層膜
を形成した。
【００２８】図１及び表１に示す膜構成とした。即ち、
図１において、１はアクリル樹脂製基板で、この基板１
表面に第１層２としてＳｉＯを０．８×１０-4 Torr 程
度のＯ2 ガス雰囲気中で反応蒸着させる。ここでＯ2 ガ
スは７０℃に加熱したものを使用する。この場合の蒸着
レートとしては、３０Å／sec 、膜厚は２λ（λ：５０
０ｎｍ）である。この上に第１層成膜と同じ条件でＺｒ
Ｏ2 、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 を順次積層して４層の反射防
止多層膜を形成した。
図１において、１はアクリル樹脂製基板で、この基板１
表面に第１層２としてＳｉＯを０．８×１０-4 Torr 程
度のＯ2 ガス雰囲気中で反応蒸着させる。ここでＯ2 ガ
スは７０℃に加熱したものを使用する。この場合の蒸着
レートとしては、３０Å／sec 、膜厚は２λ（λ：５０
０ｎｍ）である。この上に第１層成膜と同じ条件でＺｒ
Ｏ2 、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 を順次積層して４層の反射防
止多層膜を形成した。
【００２９】成膜完了後、室温の大気を導入した。これ
は従来法と比較してまず成膜中での効果をみるためであ
る。 ＜実施例２＞膜構成、成膜条件は実施例１と同一であ
る。この場合は成膜時には室温のＯ2ガスを導入し、成
膜後７０℃に加熱したＯ2 ガスを導入した。これは成膜
後に７０℃に加熱したＯ2 ガスの効果をみるためであ
る。 ＜実施例３＞膜構成、成膜条件は実施例１と同一であ
る。この場合は、成膜時と成膜後のどちらにも７０℃に
加熱したＯ2 ガスを導入した。これは両方の効果を確認
するためである。 ＜実施例４＞膜構成、成膜条件は実施例１と同一であ
る。この場合は、成膜時と成膜後のどちらにも７０℃に
加熱したオゾンＯ3 を導入した。
は従来法と比較してまず成膜中での効果をみるためであ
る。 ＜実施例２＞膜構成、成膜条件は実施例１と同一であ
る。この場合は成膜時には室温のＯ2ガスを導入し、成
膜後７０℃に加熱したＯ2 ガスを導入した。これは成膜
後に７０℃に加熱したＯ2 ガスの効果をみるためであ
る。 ＜実施例３＞膜構成、成膜条件は実施例１と同一であ
る。この場合は、成膜時と成膜後のどちらにも７０℃に
加熱したＯ2 ガスを導入した。これは両方の効果を確認
するためである。 ＜実施例４＞膜構成、成膜条件は実施例１と同一であ
る。この場合は、成膜時と成膜後のどちらにも７０℃に
加熱したオゾンＯ3 を導入した。
【００３０】以上の実施例１から実施例４までにおいて
製造した反射防止多層膜の全体の吸収率を図３に示し
た。可視光領域（４００〜７００ｎｍ）で従来法による
もの（図２）と比較して、図２、図３からわかるよう
に、実施例１、２では吸収率は０．５％、実施例３、４
では１％低減している。成膜中、成膜後それぞれ単独に
７０℃に加熱されたＯ2 ガス又はオゾンＯ3 を導入して
も効果はあるが、成膜中、成膜後の両方にこれらのガス
を導入した場合の効果はさらに大きい。図２で示した従
来例１による反射防止多層膜の吸収率は膜構成・成膜条
件が実施例１と同一で、成膜中に室温のＯ2 ガスを導入
し、成膜後は室温大気を導入した場合に得られたもので
ある。
製造した反射防止多層膜の全体の吸収率を図３に示し
た。可視光領域（４００〜７００ｎｍ）で従来法による
もの（図２）と比較して、図２、図３からわかるよう
に、実施例１、２では吸収率は０．５％、実施例３、４
では１％低減している。成膜中、成膜後それぞれ単独に
７０℃に加熱されたＯ2 ガス又はオゾンＯ3 を導入して
も効果はあるが、成膜中、成膜後の両方にこれらのガス
を導入した場合の効果はさらに大きい。図２で示した従
来例１による反射防止多層膜の吸収率は膜構成・成膜条
件が実施例１と同一で、成膜中に室温のＯ2 ガスを導入
し、成膜後は室温大気を導入した場合に得られたもので
ある。
【００３１】従来例２による反射防止多層膜の吸収率
は、第１層の蒸着レートをÅ／sec に変えた以外は従来
例１と同一の膜構成・成膜条件で作成し、成膜中に室温
のＯ2ガスを導入し、成膜後は通常大気を導入して得ら
れたものである。
は、第１層の蒸着レートをÅ／sec に変えた以外は従来
例１と同一の膜構成・成膜条件で作成し、成膜中に室温
のＯ2ガスを導入し、成膜後は通常大気を導入して得ら
れたものである。
【００３２】一方、実施例１から実施例４までで得られ
たサンプルは、密着性等の信頼性についても問題なかっ
た。
たサンプルは、密着性等の信頼性についても問題なかっ
た。
【００３３】
【表１】
【００３４】
【発明の効果】本発明のプラスチック製光学部品の反射
防止用多層膜の製造方法によれば、ＳｉＯのＯ2 ガス雰
囲気中の反応蒸着による第１層の形成、さらにＺｒＯ
2 、ＴｉＯ2 、Ｔａ2 Ｏ5 、ＣｅＯ2 等、又はそれらの
混合物からなる高屈折率層と、ＳｉＯ2 からなる低屈折
率層とを交互に積層して成膜する時に５０°〜７０℃の
Ｏ 2 ガス又はオゾンＯ3 を導入し、成膜後も前記ガスを
導入することにより、ＳｉＯの酸化度の不足による膜吸
収を改善することができ、光学特性の向上が可能にな
る。
防止用多層膜の製造方法によれば、ＳｉＯのＯ2 ガス雰
囲気中の反応蒸着による第１層の形成、さらにＺｒＯ
2 、ＴｉＯ2 、Ｔａ2 Ｏ5 、ＣｅＯ2 等、又はそれらの
混合物からなる高屈折率層と、ＳｉＯ2 からなる低屈折
率層とを交互に積層して成膜する時に５０°〜７０℃の
Ｏ 2 ガス又はオゾンＯ3 を導入し、成膜後も前記ガスを
導入することにより、ＳｉＯの酸化度の不足による膜吸
収を改善することができ、光学特性の向上が可能にな
る。
【００３５】さらに、処理時間は従来と変わらず、コス
トアップの要因にならない。
トアップの要因にならない。
【００３６】又密着性等の信頼性も高いもので、プラス
チック製光学部品への応用が期待できる。
チック製光学部品への応用が期待できる。
【００３７】一方、ガラス製光学部品の多層膜の製造法
としても有効である。
としても有効である。
【図１】本発明に係る製造方法で製造した多層膜の構成
を示す部分側面図である。
を示す部分側面図である。
【図２】従来法による多層膜の光吸収特性を示すグラフ
である。
である。
【図３】本発明に係る製造方法によって製造した多層膜
の光吸収特性を示すグラフである。
の光吸収特性を示すグラフである。
【図４】本発明の実施に使用する蒸着装置の一例を示す
概念図である。
概念図である。
１ アクリル樹脂基板 ２ 酸化ケイ素ＳｉＯx （１＜ｘ＜２） ３ ＺｒＯ2 ４ ＴｉＯ2 ５ ＳｉＯ2 １１ 真空槽 １２ 蒸着材料 １５ 透明光学部品基板 １６ オゾン発生器 １７ 酸素供給管 １８ ヒーター部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 亀山 誠 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内
Claims (3)
- 【請求項１】 真空槽内に配設した透明光学部品基板の
温度を上昇させないで、前記基板表面に金属酸化物から
なる高屈折率層と、前記金属酸化物と異なる金属酸化物
からなる低屈折率層とを交互に真空蒸着して前記基板表
面に多層膜を形成する低温真空蒸着による多層膜の製造
方法において、前記高屈折率層及び低屈折率層の蒸着中
及び／又は蒸着後に５０〜７０℃に加熱した酸素ガス又
はオゾンガスを真空槽内に導入することを特徴とする低
温真空蒸着による多層膜の製造方法。 - 【請求項２】 透明光学部品基板の材料がプラスチック
又はガラスである請求項１記載の多層膜の製造方法。 - 【請求項３】 内部に蒸着材料を加熱する加熱部と前記
加熱部と対向して配設された基板取付部とを備えた真空
槽と、前記真空槽内と連通してなり前記真空槽内を排気
する排気ポンプとを有する真空蒸着による多層膜の製造
装置において、前記真空槽が前記真空槽内に加熱酸素ガ
スを供給するヒーター部を備えた酸素供給管、及び／又
は前記真空槽内にオゾンを供給するためのオゾン発生器
を有してなることを特徴とする真空蒸着による多層膜の
製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3210570A JPH0553002A (ja) | 1991-08-22 | 1991-08-22 | 低温真空蒸着による多層膜の製造方法、及びその製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3210570A JPH0553002A (ja) | 1991-08-22 | 1991-08-22 | 低温真空蒸着による多層膜の製造方法、及びその製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0553002A true JPH0553002A (ja) | 1993-03-05 |
Family
ID=16591510
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3210570A Pending JPH0553002A (ja) | 1991-08-22 | 1991-08-22 | 低温真空蒸着による多層膜の製造方法、及びその製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0553002A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008209930A (ja) * | 1997-11-27 | 2008-09-11 | Sony Corp | 反射防止膜およびその製造方法 |
| JP2013003216A (ja) * | 2011-06-13 | 2013-01-07 | Mitsui Chemicals Inc | 多層反射防止膜の製造方法 |
| JP5262110B2 (ja) * | 2005-01-31 | 2013-08-14 | 旭硝子株式会社 | 反射防止膜付き基体 |
-
1991
- 1991-08-22 JP JP3210570A patent/JPH0553002A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008209930A (ja) * | 1997-11-27 | 2008-09-11 | Sony Corp | 反射防止膜およびその製造方法 |
| JP4553021B2 (ja) * | 1997-11-27 | 2010-09-29 | ソニー株式会社 | 反射防止膜およびその製造方法 |
| JP5262110B2 (ja) * | 2005-01-31 | 2013-08-14 | 旭硝子株式会社 | 反射防止膜付き基体 |
| JP2013003216A (ja) * | 2011-06-13 | 2013-01-07 | Mitsui Chemicals Inc | 多層反射防止膜の製造方法 |
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