JPH0548244A - プリント配線板の製造方法 - Google Patents

プリント配線板の製造方法

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Publication number
JPH0548244A
JPH0548244A JP22837991A JP22837991A JPH0548244A JP H0548244 A JPH0548244 A JP H0548244A JP 22837991 A JP22837991 A JP 22837991A JP 22837991 A JP22837991 A JP 22837991A JP H0548244 A JPH0548244 A JP H0548244A
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JP
Japan
Prior art keywords
plating
layer
plating resist
resist layer
circuit
Prior art date
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Pending
Application number
JP22837991A
Other languages
English (en)
Inventor
Satoshi Isoda
聡 磯田
Hiroyoshi Yokoyama
博義 横山
Koichi Noguchi
浩一 野口
Yasuhiro Nakamura
康宏 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Lincstech Circuit Co Ltd
Original Assignee
Hitachi AIC Inc
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH0548244A publication Critical patent/JPH0548244A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】 【構成】 絶縁基板1に任意のパターンのめっきレジス
ト層を形成した後、無電解めっき処理をするプリント配
線板の製造方法において、絶縁基板1の全面にめっきレ
ジスト層4を設けた後、エキシマレーザーを用いてこの
めっきレジスト層4を任意のパターンに成形することを
特徴とするプリント配線板の製造方法。 【効果】 本発明の製造方法によれば、エキシマレーザ
を用いてめっきレジスト層を任意のパターンに形成して
いるために、適当なめっきレジスト材料を選択でき、ラ
イン幅の狭い回路を形成できるとともにめっきレジスト
層表面にめっきが析出するのを防止できるプリント配線
板が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は無電解めっき処理により
回路を形成するプリント配線板の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】プリント配線板を無電解めっき法により
製造する場合、予じめ絶縁基板の表面に、めっきを形成
する部分と逆パターンにめっきレジスト層を形成する。
このめっきレジスト層を形成するには、めっきレジスト
インクをスクリーン印刷する方法と、液状レジストを塗
布した後に露光及び現像処理を行なう写真方法とがあ
る。
【0003】これらの方法によって任意のパターンのめ
っきレジスト層を形成する場合、レジストの材料は、無
電解めっきに対して耐久性があり、その表面にめっきが
析出しないこと、かつ任意のパターンに精度良く形成で
きる等の性質を必要とする。また、個々には、スクリー
ン印刷法による場合には、熱硬化処理やUV硬化処理を
行なって形成するために、熱硬化性等の性質やスクリー
ン印刷に適した粘度特性をもつ材料に限定される。そし
て写真法では感光性を有する材料を用いる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】そのため、従来の方法
では、めっきレジストの材料の選択の幅が狭く、その表
面にめっきが析出するのを防止することが困難である欠
点があった。
【0005】本発明の目的は、以上の欠点を改良し、め
っきレジスト層にめっきが析出するのを防止するのを防
止できるプリント配線板の製造方法を提供するものであ
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の目的を
達成するために、絶縁基板に任意のパターンのめっきレ
ジスト層を形成した後、無電解めっき処理をするプリン
ト配線板の製造方法において、絶縁基板の全面にめっき
レジスト層を設けた後、エキシマレーザーを用いて、こ
のめっきレジスト層を任意のパターンに成形することを
特徴とするプリント配線板の製造方法を提供するもので
ある。
【0007】
【作用】絶縁基板の全面にめっきレジスト層を設けた
後、エキシマレーザーを用いて任意のパターンに成形し
ているため、めっきレジストの材料としてスクリーン印
刷法や写真法に要求される性質が必要なく、めっきが析
出するのを防止できる材料を容易に選んで使用できる。
【0008】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて説明する。
絶縁基板はガラスエポキシ樹脂積層板を用いる。この絶
縁基板1の両面には、図1(イ)に示す通り、めっき触
媒入りの接着剤を塗布して接着剤層2を形成している。
そして図1(ロ)に示す通り、この接着剤層2を形成し
た絶縁基板1に孔3を設ける。次に、図1(ハ)に示す
通り、接着剤層2の表面全面にめっきレジスト層4を設
けるめっきレジストは、めっきに対する耐久性が高く、
めっきが析出するのを防止できる材質を用いる。この材
質には、例えば、フェノールノボラックタイプの多官能
エポキシ樹脂と硬化剤とからなるものがある。全面にめ
っきレジスト層4を設けた後に、エオシマレーザーを用
い、図1(ニ)に示す通り、めっきレジスト層4から回
路パターンの箇所5を除去する。エキシマレーザーによ
る処理後、無電解めっき処理をして、図1(ホ)に示す
通り、回路6を形成する。
【0009】次に、上記実施例及び従来例について、形
成可能な最小のライン幅と、めっきレジスト層上にめっ
きが析出したか否かを測定した。各条件は次の通りとす
る。
【0010】実施例: 絶縁基板 10cm×10cm角 めっきレジスト層 フェノールノボラックタイプの多官能エポキシ樹脂と硬
化剤とからなり、厚さ35μmに形成する。 エキシマレーザーによる処理 レーザ媒質 KrF 発振波長 248mm レーザ出力 250mJパルス 照射回数 70パルス 回路 めっき析出速度1μm/Hrで、厚さ25μm、幅50
μmの銅めっき層を絶縁基板の端から端まで10cmの長
さに1本形成する。
【0011】従来例1:めっきレジスト層を次の通りの
スクリーン印刷法により形成し、回路幅を200μmと
する以外は、実施例と同一の条件で製造する。すなわ
ち、ビスフェノールタイプの2官能エポキシ樹脂、フェ
ノールノボラックタイプの多官能エポキシ樹脂、硬化
剤、充填剤からなるめっきレジストインクを、ポリエス
テル製の300メッシュ、乳剤厚12μmのスクリーン
を用いて絶縁基板に印刷し、その後温度150℃で30
分間加熱して所定パターンのめっきレジスト層を形成す
る。
【0012】従来例2:めっきレジスト層を次の通りの
写真法により形成し、回路幅を70μmとする以外は、
実施例と同一条件で製造する。すなわち、アクリル樹
脂、オニウム塩光重合開始剤、ハイドロキノン重合禁止
剤より成る厚さ22μmのドライフィルムを、絶縁基板
の表面にラミネートし、照射エネルギー120mJ/cm
2 の光量で露光した後、トリクレンで現像して、所定の
パターンのめっきレジスト層を形成する。
【0013】測定結果を表1に示す。なお、試料数は3
ケとし、めっき析出の有無は目視で調べる。
【0014】
【表1】
【0015】表1から明らかな通り、実施例によれば、
形成可能な回路の最小ライン幅は50μmで、従来例1
の1/4、従来例2の5/7にできる。また、実施例に
よればめっきレジスト層へのめっきの析出も無くすこと
ができる。
【0016】
【発明の効果】以上の通り、本発明の製造方法によれ
ば、エキシマレーザを用いてめっきレジスト層を任意の
パターンに形成しているために、適当なめっきレジスト
材料を選択でき、ライン幅の狭い回路を形成できるとと
もに、めっきレジスト層表面にめっきが析出するのを防
止できるプリント配線板が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例の工程図を示す。
【符号の説明】
1…絶縁基板、 4…めっきレジスト層、 5…回路パ
ターンの箇所、6…回路。
フロントページの続き (72)発明者 中村 康宏 栃木県芳賀郡二宮町大字久下田1065番地 日立エーアイシー株式会社内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 絶縁基板に任意のパターンのめっきレジ
    スト層を形成した後、無電解めっき処理をするプリント
    配線板の製造方法において、絶縁基板の全面にめっきレ
    ジスト層を設けた後、エキシマレーザーを用いてこのめ
    っきレジスト層を任意のパターンに成形することを特徴
    とするプリント配線板の製造方法。
JP22837991A 1991-08-13 1991-08-13 プリント配線板の製造方法 Pending JPH0548244A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0679052A1 (de) * 1994-04-23 1995-10-25 Lpkf Cad/Cam Systeme Gmbh Verfahren zur strukturierten Metallisierung der Oberfläche von Substraten
JPH08307038A (ja) * 1995-02-14 1996-11-22 Lpkf Cad Cam Syst Gmbh 基板表面にパターン化された金属被覆を形成する方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0679052A1 (de) * 1994-04-23 1995-10-25 Lpkf Cad/Cam Systeme Gmbh Verfahren zur strukturierten Metallisierung der Oberfläche von Substraten
DE4417245A1 (de) * 1994-04-23 1995-10-26 Lpkf Cad Cam Systeme Gmbh Verfahren zur strukturierten Metallisierung der Oberfläche von Substraten
JPH0856066A (ja) * 1994-04-23 1996-02-27 Lpkf Cad Cam Syst Gmbh 基板の表面に金属化を施す方法
JPH08307038A (ja) * 1995-02-14 1996-11-22 Lpkf Cad Cam Syst Gmbh 基板表面にパターン化された金属被覆を形成する方法

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