JPH05347238A

JPH05347238A - 露光装置

Info

Publication number: JPH05347238A
Application number: JP4179372A
Authority: JP
Inventors: Akimitsu Ebihara; 明光蛯原
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1992-06-12
Filing date: 1992-06-12
Publication date: 1993-12-27

Abstract

(57)【要約】【目的】比較的簡単な管理体制のもとで且つ短時間に
ディスク状記録媒体に同心円状又は螺旋状に所定のパタ
ーンを記録する。【構成】回転テーブル１と、回転テーブル１の半径方
向のそれぞれ異なる位置に対応して配列された複数の絞
りとこれら複数の絞り用の複数のシャッターとを有する
マスク部材７と、露光光を集光してマスク部材７を介し
てディスク状記録媒体２を照明する照明光学系５とを有
する。回転テーブル１でディスク状記録媒体２を回転さ
せてマスク部材７の複数の絞りを開閉させながら露光を
行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えばコンパクト・デ
ィスク又はビデオ・ディスク等のディスク状記録媒体に
同心円状又は螺旋状に情報ピット等のパターンを記録す
る場合に適用して好適な露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えばコンパクト・ディスク（ＣＤ）又
はビデオ・ディスク（ＶＤ）等においては、同心円状又
は螺旋状（スパイラル状）に情報ピット又はグルーブ等
のパターンが形成されたディスク状の記録再生媒体（以
下、「ディスク状記録媒体」という）が使用されてい
る。斯かる従来のディスク状記録媒体の製造方法は、グ
ルーブやピットとなるパターン情報をレーザースポット
によって直接マスターディスク（マザーディスク）上に
形成し、それをレプリカとして電鋳スタンパーを形成
し、更にこの電鋳スタンパーから成形によりディスク状
記録媒体を量産するものである。

【０００３】図９は従来のマスターディスクの製造に使
用される微細加工装置を示し、この図９において、１は
回転テーブル、２はマスターディスクとしてのディスク
状記録媒体であり、回転テーブル１の上にディスク状記
録媒体２が載置されている。３は加工光学系のアームを
示し、このアーム３の先端より射出された加工用のパワ
ーの大きなレーザー光ＬＢがディスク状記録媒体２上で
微小スポットに集束されている。回転テーブル１を円周
方向であるφ方向に回転させた状態でそのアーム３を回
転テーブル１の半径方法であるＲ方向に間欠的又は連続
的に移動させながら、そのアーム３からディスク状記録
媒体２に対して記録内容に応じて変調されたレーザー光
ＬＢを照射することにより、ディスク状記録媒体２上に
同心円状又は螺旋状にグルーブ又は情報ピット等のパタ
ーンが記録される。

【０００４】更に、写真製版の方法と同様にマスターデ
ィスクの原版に光を照射して、この原版を透過した光を
マスターディスクの所定範囲に露光することによって、
マスターディスク上に転写露光方式でパターンを記録す
る方法も提案されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】前者の図９の微細加工
装置を使用した場合には、微小スポットに絞り込まれる
レーザー光ＬＢを射出するアーム３を目的とする記録内
容に合わせてＲ方向に駆動したり、ディスク状記録媒体
２を目的とする記録内容に合わせて回転させたり、又は
これらの方法を組み合わせた駆動方法を用いてディスク
状記録媒体２への記録が行われる。しかし、ディスク状
記録媒体２には半径方法に例えば２μｍ程度のオーダー
の間隔でトラック又はグルーブを形成する必要があり、
そのディスク状記録媒体２の全面に図９の微細加工装置
を用いてパターンを記録するのでは、極めて長い加工時
間（記録時間）を要するという不都合があった。

【０００６】一方、後者のように原版を用いてディスク
状記録媒体にパターンを転写する場合には、記録内容に
応じて原版を交換する必要があり、更にそれらの多くの
原版を清浄に保管する必要があるため、製造管理（加工
手続き）が容易でないという不都合があった。本発明は
斯かる点に鑑み、製造管理が容易であり且つ短時間にデ
ィスク状記録媒体に同心円状又は螺旋状に所定のパター
ンを記録できる微細加工装置を提供することを目的とす
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明による露光装置
は、例えば図１及び図２に示す如く、露光光を発生する
光源（４）と、感光基板（２）を回転させる回転テーブ
ル（１）と、この回転テーブルの半径方向のそれぞれ異
なる位置に対応して配列された複数の絞り（１１）とこ
れら複数の絞りをそれぞれ独立に開閉する複数のシャッ
ター手段（１２，１３）とを有するマスク部材（７）
と、その露光光を集光してそのマスク部材（７）のそれ
ら複数の絞り（１１）を介してその回転テーブル（１）
上のその感光基板（２）を照明する照明光学系（５）
と、その感光基板（２）に露光するパターンに応じてそ
れら複数のシャッター手段（１２，１３）の開閉動作を
制御する制御手段（１０）とを有し、その感光基板
（２）を回転させた状態でそれら複数の絞り（１１）を
それぞれ開閉させながらその感光基板（２）を露光する
ものである。

【０００８】この場合、そのマスク部材（７）をその回
転テーブル（１）の半径方向Ｒ２に対応する方向Ｒ１に
移動する駆動手段（８）を設け、その感光基板（２）を
回転させて且つそのマスク部材（７）をその回転テーブ
ル（１）の半径方向に対応する方向Ｒ１に移動した状態
で、それら複数の絞り（１１）をそれぞれ開閉させなが
らその感光基板（２）を露光して、その感光基板（２）
に螺旋状にパターンを露光するようにしてもよい。

【０００９】また、そのマスク部材を、例えば図６及び
図７に示すように、その回転テーブル（１）の回転中心
から半径方向に延びる第１の直線上のそれぞれ異なる配
列位置に対応して配列された第１群の複数の絞り（２
６）とこれら複数の絞り（２６）をそれぞれ独立に開閉
する第１群の複数のシャッター手段（２７，２８）とを
有する第１のマスク部材（２４）と、その回転テーブル
（１）の回転中心から半径方向に延びる第２の直線上に
おいてそれぞれその第１の直線上の配列位置からずれた
配列位置に対応して配列された第２群の複数の絞り（２
９）とこれら複数の絞り（２９）をそれぞれ独立に開閉
する第２群の複数のシャッター手段（３０，３１）とを
有する第２のマスク部材（２５）とより構成してもよ
い。

【００１０】

【作用】斯かる本発明によれば、その回転テーブル
（１）で感光基板（２）を回転させた状態でその回転に
同期してそのマスク部材（７）の複数の絞り（１１）を
記録すべき信号に応じて開閉させて、その感光基板
（２）への露光を行う。そして、その感光基板（２）を
１回転させれば、その感光基板（２）の全面でそれら複
数の絞り（１１）の個数と同じ本数の同心円状のトラッ
クに全ての信号が記録される。これによりマスターディ
スク等を極めて短時間に加工することができる。また、
原版を必要としないので管理が容易である。

【００１１】また、そのマスク部材（７）をその回転テ
ーブル（１）の半径方向Ｒ２に対応する方向Ｒ１に移動
する駆動手段（８）を設けた場合には、それら複数の絞
り（１１）のその半径方向Ｒ１の配列ピッチをＰ、それ
ら絞り（１１）の個数をＮ個とする。そして、その回転
テーブル（１）によりその感光基板（２）が１回転する
間に、それら複数の絞り（１１）をそれぞれ記録する信
号に応じて開閉させながら、その駆動手段（８）でその
マスク部材（７）をその半径方向Ｒ１に距離Ｐだけ連続
的に移動すると、その感光基板（２）上を螺旋状にＮ回
転するトラックに沿って信号が記録される。

【００１２】更に、その回転テーブル（１）によりその
感光基板（２）が１回転する間に、その駆動手段（８）
でそのマスク部材（７）をその半径方向Ｒ１に距離Ｐ／
ｎ（ｎは２以上の整数）だけ連続的に移動するようにし
て、その感光基板（２）をｎ回転させると、その感光基
板（２）上を螺旋状にＮｎ回転するトラックに沿って信
号が記録される。

【００１３】また、そのマスク部材を、第１群の複数の
絞り（２６）とこれら複数の絞り（２６）をそれぞれ独
立に開閉する第１群の複数のシャッター手段（２７，２
８）とを有する第１のマスク部材（２４）と、その第１
群の複数の絞り（２６）とは位相のずれた第２群の複数
の絞り（２９）とこれら複数の絞り（２９）をそれぞれ
独立に開閉する第２群の複数のシャッター手段（３０，
３１）とを有する第２のマスク部材（２５）とより構成
した場合には、第１のマスク部材（２４）又は第２のマ
スク部材（２５）のみを使用する場合に比べて、その感
光基板（２）に形成されるトラックの密度が倍になる。

【００１４】

【実施例】以下、本発明による露光装置の一実施例につ
き図１〜図５を参照して説明する。本例の露光装置は、
ＣＤ又はＶＤ等のディスク状記録媒体にフォトリソグラ
フィー技術を用いて同心円状又は螺旋状に信号（パター
ン）を記録するものである。図１は本例の露光装置の全
体の構成を示し、この図１において、回転テーブル１上
に記録対象のディスク状記録媒体２を載置する。４は露
光光ＩＬを発生する光源を示し、この光源４からの露光
光ＩＬを照明光学系５で略々平行光束に変換し、この略
々平行な露光光ＩＬでガラス基板６上のマスク領域ＰＡ
を照明する。光源４としては、水銀ランプ、エキシマレ
ーザー光源等のパルスレーザー光源又は連続発振のレー
ザー光源、金属蒸気レーザー光源（さらにはその高周波
の発生源）等を使用できる。回転テーブル１上のディス
ク状記録媒体２の表面には、光源４からの露光光に対す
る感光性のある感光材（フォトレジスト等）が塗布され
ている。

【００１５】そのガラス基板６上のマスク領域ＰＡの内
部には所定の直線Ｒ１に沿ってマスク部材７が形成され
ている。その直線Ｒ１は、後述の縮小投影光学系９に関
して回転テーブル１の回転軸１ａと感光基板２の露光面
との交点とほぼ共役な点を起点とする直線の一部であ
る。図２に示すように、そのマスク部材７をその直線Ｒ
１上に一列に配列された絞り群１１及びこの絞り群１１
の個々の絞りの開閉を行うシャッター群１２及び１３よ
り構成し、それらシャッター群１２及び１３の動作を駆
動回路１４が制御する。また、照明光学系５中のマスク
領域ＰＡの面と共役な面に視野絞り（レチクルブライン
ド）を配置し、この視野絞りでそのガラス基板６上の絞
り群１１のみに照明視野を設定する。照明光学系５中に
シリンドリカルレンズ等を設ける事により、光源４から
の露光光を光量損失なく絞り群１１に照射できる。

【００１６】なお、絞り群１１については位相シフター
をつけることで解像力を高めることができる。１次元に
配列される絞り群１１に対し、１絞りおきにシフターを
つけると２次元に配列されるパターンにシフターをつけ
る場合よりも簡単に作成できるという利点がある。特
に、Ｖ字形シャッター列ではどちらか一方（１列）の全
ての絞りに位相シフターを、（２ｎ＋１）π（ｎは整
数）だけ透過光の位相をずらすような膜厚で形成すれば
良い。又、絞りの周辺に補助パターンを設ける、いわゆ
るエッジ強調型を適用するようにしても良い。更に、絞
りを構成する遮光層に透過率（光透過部の透過光の１／
４程度以下）を持たせるとともに、その透過光の位相を
（２ｎ＋１）π（ｒａｄ）だけずらす、いわゆるハーフ
トーン型の位相シフト法を適用しても良い。これらの位
相シフト法を採用する場合には、照明光学系のコヒーレ
ンスファクター（σ値）を０．１〜０．４程度に定めて
おくことが望ましい。また、後述のように本例の絞り群
１１は円形の絞りの集合であるが、円形の絞りという単
純な形のしかも、１種類のパターンを露光するのみでよ
いので、後述の縮小投影光学系のフーリエ変換面に空間
フィルターを入れて低周波数成分（０次光成分）を低減
すると、容易にピットの輪郭を強調することができると
いう効果がある。

【００１７】図１に戻り、８は圧電素子よりなる駆動装
置を示し、ディスク状記録媒体２上に螺旋状に信号を記
録する場合には、駆動装置８でそのガラス基板６を直線
Ｒ１に平行に連続的に微小量だけ移動する。９は投影倍
率が１／５の縮小投影光学系を示し、露光光ＩＬのもと
でガラス基板６のマスク部材７の絞り群の内の開状態の
絞りのパターンの縮小像をその縮小投影光学系９を介し
てディスク状記録媒体２上に露光する。この場合、縮小
投影光学系９に関してガラス基板６上の直線Ｒ１に共役
な直線は回転テーブル１の回転軸１ａを起点としてディ
スク状記録媒体２の表面に沿った直線Ｒ２となり、ディ
スク状記録媒体２上の直線Ｒ２に沿った領域にそのマス
ク部材７の絞り群の縮小像が転写される。

【００１８】１０は全体の動作を制御する主制御系を示
し、この主制御系１０は回転テーブル１を回転軸１ａを
中心として円周方向であるφ方向に回転させた状態で、
図２の駆動回路１４を介してマスク部材７の絞り群１２
及び１３の開閉動作を制御する。また、ディスク状記録
媒体２上に螺旋状に信号を記録する場合には、主制御系
１０は駆動装置８の動作をも制御する。

【００１９】次に、本例のガラス基板６上のマスク部材
７の構成につき図３及び図４を参照して説明する。図３
はそのガラス基板６上のマスク部材７の一部を示し、こ
の図３において、直線Ｒ１に沿ってピッチＰでそれぞれ
直径Ｄの円形の開口パターンよりなる一組の絞り１１−
１，１１−２，１１−３，‥‥を形成する。これらの絞
りより図２の絞り群１１を構成し、この絞り群１１の絞
りの個数はディスク状記録媒体２上に形成するトラック
の本数以上にする。また、一例として絞り１１−１の直
径Ｄを２μｍ、ピッチＰを１０μｍとすると、縮小投影
光学系９の投影倍率が１／５であるため、ディスク状記
録媒体２上にはトラックピッチが２μｍで幅が０．４μ
ｍ程度のピットを記録することができる。更に、縮小投
影光学系９として投影倍率が１／１０の光学系を使用す
ることで、ディスク状記録媒体２上にはトラックピッチ
が１μｍで幅が０．２μｍ程度のピットを記録すること
ができる。

【００２０】また、図３において、直線Ｒ１上の絞り群
の内の奇数番目の絞り１１−１，１１−３，１１−５，
‥‥の開閉を行うためのシャッター１２−１，１２−
２，‥‥をそれら絞りの上部に配置し、偶数番目の絞り
１１−２，１１−４，‥‥の開閉を行うためのシャッタ
ー１３−１，１３−２，‥‥をそれら絞りの下部に配置
する。シャッター１２−１，１２−２，‥‥より図２の
絞り群１２が構成され、シャッター１３−１，１３−
２，‥‥より図２のシャッター群１３が構成されてい
る。また、各シャッター１２−ｉ及び１３−ｉ（ｉ＝
１，２，‥‥）はそれぞれ可撓性のある誘電体を矩形の
ブリッジ状に形成したものであり、各シャッターの先端
部の幅Ｗは各絞りの直径Ｄより大きい。それら絞り及び
シャッターは、例えば半導体製造技術と同様の微細加工
技術を用いて形成することができる。また、そのガラス
基板６には以下で説明する電極等の端子１５及び１６が
設けられている。

【００２１】図３の内のシャッター１３−１及び１３−
２を例にとって本例のシャッター動作につき説明する。
図４（ａ）はそれらシャッター１３−１及び１３−２の
周辺の断面図、図４（ｂ）は図４（ａ）の底面図であ
り、図４（ａ）において、ガラス基板６の底面には遮光
性の絶縁層１７が形成され、この絶縁層１７の中に光透
過性の絞り１１−２及び１１−４が形成され、絞り１１
−２の左右に接地層１８−１及び１８−２が形成され、
絞り１１−４の左右に接地層１８−３及び１８−４が形
成されている。また、接地層１８−ｉ（ｉ＝１〜４）に
はそれぞれ絶縁層１９−ｉを介して電極板２０−ｉが取
り付けられ、接地層１８−１，１８−２と電極板２０−
１，２０−２との間にシャッター１３−１が収納され、
接地層１８−３，１８−４と電極板２０−３，２０−４
との間にシャッター１３−２が収納されている。

【００２２】また、図４（ｂ）に示すように、シャッタ
ー１３−１及び１３−２の一端１３−１ａ及び１３−２
ａをそれぞれガラス基板６に対して固定し、他端１３−
１ｂ及び１３−２ｂを自由端とする。そして、電極板２
０−１及び２０−２に電圧を印加しない状態ではシャッ
ター１３−１の自由端１３−１ｂが延びて絞り１１−２
を閉じる。一方、電極板２０−３及び２０−４に電圧を
印加している状態ではシャッター１３−２が左右に引き
込まれてその自由端１３−２ｂが絞り１１−４を開け
る。即ち、絞り１１−２では露光光ＩＬは遮光され、絞
り１１−４は露光光ＩＬがそのまま通過する。このよう
に、本例では電極板２０−１〜２０−４に供給する電圧
を調整することにより各絞り１１−２及び１１−４を個
別に高速に開閉することができる。他の絞り１１−１等
も同じ構成で開閉することができる。

【００２３】この場合、図３に示すように、奇数番目の
絞り１１−１，１１−３，‥‥は上部に配列したシャッ
ター１２−１，１２ー２，‥‥を用いて開閉し、偶数番
目の絞り１１−２，１１−４，‥‥は下部に配列したシ
ャッター１３−１，１３−２，‥‥を用いて開閉してい
るので、絞り１１−１，１１−２，１１−３，‥‥のピ
ッチＰを小さくすることができる。また、図２に示すよ
うに、絞り群１１とシャッター群１２，１３とが１枚の
ガラス基板６上に駆動回路１４及びリード線と共に形成
されているので、シャッター群１２，１３の駆動部に電
力を供給する配線をガラス基板６の周囲に通すことが不
要になり、装置の信頼性も高くなる。

【００２４】なお、各シャッター１２−ｉ及び１３−ｉ
はそれぞれ静電力によって開閉されているが、駆動源と
してＰＺＴ等の圧電フィルム等を使用してもよい。更
に、シャッターとしては図４に示すようなマイクロメカ
ニカルな構造のシャッターの他に、例えば液晶シャッタ
ーのような電子的なシャッターを使用してもよい。ただ
し、マイクロメカニカルなシャッターを用いた場合に
は、露光光ＩＬの波長又は偏光状態等に依らずに、それ
ら絞り１１−ｉにおける露光光ＩＬの透過特性及び遮光
特性が良好である。

【００２５】次に、図１の露光装置でディスク状記録媒
体２にパターンを記録する場合の露光動作の一例を図５
を参照して説明する。先ず、ディスク状記録媒体２を回
転テーブル１上に載せて固定すると、図５（ａ）に示す
ように、ディスク状記録媒体２上には図３の絞り１２−
１，１２−２，‥‥の像２１−１，２１−２，‥‥が投
影される。ただし、絞り１２−１，１２−２，‥‥が閉
状態の場合には、対応する像はそれぞれ結像されない。
その後、回転テーブル１を介してディスク状記録媒体２
をφ方向に回転させる。そして、図１の主制御系１０が
予めメモリに記憶されている記録すべき各トラックごと
の信号パターンを読み出し、回転テーブル１の回転速度
（最適露光量、即ち露光時間に応じて一義的に定まる）
と同期させて、その読み出した信号パターンに応じて図
２のシャッター群１２，１３を介してそれら像２１−
１，２１−２，‥‥を個々に点滅すれば、回転テーブル
１を１回転させるだけですべての信号パターンをディス
ク状記録媒体２上の同心円状のトラック２２に露光する
ことができる。このため、露光時間が大幅に短縮され
る。

【００２６】また、ディスク状記録媒体２上に螺旋状に
信号パターンを露光するときは、図１の駆動装置８を用
いて、図５（ｂ）に示すように、ディスク状記録媒体２
が１回転する間にそれら絞りの像２１−１，２１−２，
‥‥を１トラックピッチβＰ分だけ半径方向である直線
Ｒ２の方向に等速で移動させればよい。そのβは図１の
縮小投影光学系９の投影倍率、Ｐは図３に示す絞り１１
−ｉのピッチである。これにより、ディスク状記録媒体
２上の螺旋状のトラック２３に沿ってパターンが記録さ
れる。その後、ディスク状記録媒体２に現像等の処理を
施すことにより、マスターディスクが製造される。

【００２７】次に、本発明の他の実施例につき図６及び
図７を参照して説明する。本例は図１の実施例を改良し
たものであり、図６及び図７において図１に対応する部
分には同一符号を付してその詳細説明を省略する。図６
は本例の露光装置の全体の構成を示し、この図６におい
て、照明光学系５から射出された露光光ＩＬがガラス基
板６のマスク領域ＰＡを照明している。そのガラス基板
６上のマスク領域ＰＡの内部には所定の直線Ｒ３に沿っ
て第１のマスク部材２４が形成され、その直線Ｒ３と放
射状に配置された直線Ｒ４に沿って第２のマスク部材２
５が形成されている。それら直線Ｒ３及びＲ４は、縮小
投影光学系９に関して回転テーブル１の回転軸１ａと感
光基板２の露光面との交点とほぼ共役な点を起点として
放射状に延びる２つの直線の一部である。

【００２８】図７に示すように、その第１のマスク部材
２４をその直線Ｒ３上に一列に配列された絞り群２６及
びこの絞り群２６の個々の絞りの開閉を行うシャッター
群２７及び２８より構成し、その第２のマスク部材２５
をその直線Ｒ４上に一列に配列された絞り群２９及びこ
の絞り群２９の個々の絞りの開閉を行うシャッター群３
０及び３１より構成する。それらシャッター群２７，２
８及びシャッター群３０，３１の動作を駆動回路３２が
制御する。また、第１のマスク部材２４及び第２のマス
ク部材２５の構成はそれぞれ図３のマスク部材７と同様
である。

【００２９】ただし、本例では第１のマスク部材２４中
の絞り群２６の各絞りと第２のマスク部材２５中の絞り
群２９の各絞りとは、直線Ｒ３方向及び直線Ｒ４方向の
位相が約３６０°（正確に言うなら２π−ψ）ずれてい
る。言い換えると、第１のマスク部材２４中の絞り群２
６の各絞りの像と第２のマスク部材２５の絞り群２９の
各絞りの像とは、それぞれ図６のディスク状記録媒体２
上で回転テーブル１の回転軸１ａを起点とする直線Ｒ５
及びＲ６上で１トラックピッチ分だけずれて放射状に配
列される。そして、主制御系１０が回転テーブル１の回
転に同期して、第１のマスク部材２４のシャッター群及
び第２のマスク部材２５のシャッター群の開閉を制御す
る。

【００３０】更に、第１のマスク部材２４に対応する信
号パターンと第２のマスク部材２５に対応する信号パタ
ーンとは互いに直線Ｒ５と直線Ｒ６との間の角度分だけ
位相がずれている。そこで、主制御系１０は、内部のメ
モリから１トラックおきに位相を同じだけずらして信号
パターンを読み出し、この読み出した信号パターンに応
じて第１のマスク部材２４のシャッター群及び第２のマ
スク部材２５のシャッター群の開閉を制御することによ
り、ディスク状記録媒体２上には同心円状のトラックに
沿ってパターンが記録される。

【００３１】この場合、第１のマスク部材２４の絞りの
ピッチ及び第２のマスク部材２５の絞りのピッチがディ
スク状記録媒体２のマスク部材７の絞りのピッチに等し
いとすると、図６の装置で製造されるディスク状記録媒
体２上のトラックピッチは図１の装置で製造されるトラ
ックピッチの１／２となる。従って、図６の装置によれ
ば、個々のマスク部材２４及び２５の配列密度はそれぞ
れ図１のマスク部材７の配列密度と同じでも、ディスク
状記録媒体２に対する記録密度をより高めることができ
る。

【００３２】次に、図８を参照して図６の装置で螺旋状
にパターンを記録する場合につき説明する。この場合、
図８に示すように、ディスク状記録媒体２を２π＋ψ回
転させると共に、図６のシャッター基板６をＲ７軸に共
役な軸に沿ってトラックピッチ分等速移動させる。Ｒ７
軸はＲ５軸とＲ６軸とのなす角ψの２等分線である。絞
り群２６は例えばＡのピットからＢのピットに至るまで
シャッターを開閉し、絞り群２９はＢのピットからＣの
ピットに至るまでシャッターを開閉する。これにより、
トラックピッチβＰの螺旋状のトラック３２が形成され
る。シャッター基板６をＲ７軸に共役な軸に沿って移動
させると、絞り群２６と絞り群２９とは半径方向から微
小量ずれることになるが、例えばトラックピッチを１．
６μｍ、角度ψを４°とすると、そのディスク状記録媒
体２上でのずれ量はトラック方向に０．０６μｍ、半径
方向に０．０２μｍであり、問題とならない。

【００３３】なお、上述実施例はディスク状記録媒体２
に同心円状又は螺旋状に信号を記録するものであるが、
記録媒体に例えば２次元の格子状に信号を記録する場合
にも本発明を適用することができる。この場合には、記
録媒体を直交座標に沿って移動するＸＹステージ上に載
置して、その記録媒体を２次元平面内で移動させながら
図１のマスク部材７を介してパターンを露光すればよ
い。

【００３４】また、上述実施例ではマスク部材の絞りの
像を投影光学系を介してディスク状記録媒体上に露光し
ているが、それら絞りのパターンをプロキシミティ方式
で直接ディスク状記録媒体上に露光する場合にも、本発
明は同様に適用できる。また、ディスク状記録媒体の回
転中に、絞りの投影像とその媒体の表面とを光軸方向に
移動又は振動させるようにしても良い。更に、マスクに
放射状に設ける絞り列の本数は２本でなく、３本以上と
しても良い。また、各列の絞りの個数、ピッチは媒体の
情報に応じて定めれば良い。更に媒体のサイズが大きく
なり、一回転ではその媒体の全面を露光できないとき
は、媒体を一回転させた後、媒体をその半径方向に移動
させ、同様の動作で露光を行えば良い。このように、本
発明は上述実施例に限定されず本発明の要旨を逸脱しな
い範囲で種々の構成を取り得る。

【００３５】

【発明の効果】本発明によれば、複数の絞りを開閉させ
ながら回転テーブルにより感光基板を１回転させるだけ
でその感光基板上に同心円状に信号パターンを焼き付け
ることができ、加工時間を大幅に短縮できる利点があ
る。また、製造対象に応じて、メモリ等から対応する部
分の信号パターンを直接読み出してそれら複数の絞りを
開閉するだけでよいため、写真製版方式のように原版を
交換して露光する場合よりも製造管理（加工手続き）が
容易である。

【００３６】また、マスク部材を回転テーブルの半径方
向に対応する方向に移動する駆動手段を設けた場合に
は、感光基板を回転させて且つそのマスク部材をその回
転テーブルの半径方向に対応する方向に移動した状態
で、複数の絞りをそれぞれ開閉させながらその感光基板
を露光することにより、その感光基板に短時間で螺旋状
にパターンを露光できる利点がある。

【００３７】また、そのマスク部材を第１群の複数の絞
りと第１群の複数のシャッター手段とを有する第１のマ
スク部材と、第１群の複数の絞りとは位置がずれた第２
群の複数の絞りと第２群の複数のシャッター手段とを有
する第２のマスク部材とより構成した場合には、その感
光基板に対する記録密度を高めることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による露光装置の一実施例の概略構成を
示す斜視図である。

【図２】図１のガラス基板６上のパターンを示す底面図
である。

【図３】図２のガラス基板６上のマスク部材７の構成を
示す要部の拡大底面図である。

【図４】（ａ）は図３の絞り１１−２及び１１−４の近
傍の構成を示す一部を省略した拡大断面図、（ｂ）は図
４（ａ）の底面図である。

【図５】（ａ）は実施例で同心円状に記録する場合の説
明図、（ｂ）は実施例で螺旋状に記録する場合の説明図
である。

【図６】本発明の他の実施例の露光装置の概略構成を示
す斜視図である。

【図７】図６のガラス基板６のパターンを示す底面図で
ある。

【図８】図６の実施例で螺旋状に記録する場合の説明図
である。

【図９】従来の微細加工装置の要部を示す斜視図であ
る。

【符号の説明】

１回転テーブル２ディスク状記録媒体４光源５照明光学系６ガラス基板７マスク部材８駆動装置９縮小投影光学系１０主制御系１１絞り群１２，１３シャッター群１１−１，１１−２，‥‥ 絞り１２−１，１２−２，‥‥，１３−１，１３−２，‥‥
シャッター１８−１〜１８−４接地層１７，１９−１〜１９−４絶縁層２０−１〜２０−４電極２４第１のマスク部材２５第２のマスク部材

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】露光光を発生する光源と、感光基板を回転させる回転テーブルと、該回転テーブルの半径方向のそれぞれ異なる位置に対応
して配列された複数の絞りと該複数の絞りをそれぞれ独
立に開閉する複数のシャッター手段とを有するマスク部
材と、前記露光光を集光して前記マスク部材の前記複数の絞り
を介して前記回転テーブル上の前記感光基板を照明する
照明光学系と、前記感光基板に露光するパターンに応じて前記複数のシ
ャッター手段の開閉動作を制御する制御手段とを有し、前記感光基板を回転させた状態で前記複数の絞りをそれ
ぞれ開閉させながら前記感光基板を露光する事を特徴と
する露光装置。
【請求項２】前記マスク部材を前記回転テーブルの半
径方向に対応する方向に移動する駆動手段を設け、前記感光基板を回転させて且つ前記マスク部材を前記回
転テーブルの半径方向に対応する方向に移動した状態
で、前記複数の絞りをそれぞれ開閉させながら前記感光
基板を露光して、前記感光基板に螺旋状にパターンを露
光する事を特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】前記マスク部材を前記回転テーブルの回
転中心から半径方向に延びる第１の直線上のそれぞれ異
なる配列位置に対応して配列された第１群の複数の絞り
と該複数の絞りをそれぞれ独立に開閉する第１群の複数
のシャッター手段とを有する第１のマスク部材と、前記回転テーブルの回転中心から半径方向に延びる第２
の直線上においてそれぞれ前記第１の直線上の配列位置
からずれた配列位置に対応して配列された第２群の複数
の絞りと該複数の絞りをそれぞれ独立に開閉する第２群
の複数のシャッター手段とを有する第２のマスク部材と
より構成した事を特徴とする請求項１又は２記載の露光
装置。