JPH05343382A - ウェハの洗浄方法及びウェハ洗浄装置 - Google Patents
ウェハの洗浄方法及びウェハ洗浄装置Info
- Publication number
- JPH05343382A JPH05343382A JP14431792A JP14431792A JPH05343382A JP H05343382 A JPH05343382 A JP H05343382A JP 14431792 A JP14431792 A JP 14431792A JP 14431792 A JP14431792 A JP 14431792A JP H05343382 A JPH05343382 A JP H05343382A
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- cleaning
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- alkaline cleaning
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Abstract
(57)【要約】
【目的】ウェハに付着したパーティクルと、アルカリ系
洗浄溶液から発生した金属不純物を同時に除去すること
が可能なウェハの洗浄方法及びウェハ洗浄装置を提供す
る。 【構成】アルカリ系洗浄溶液１２と接触可能な位置に、
当該アルカリ系洗浄液１２に負電圧を印加する電極１１
を設置し、アルカリ系洗浄溶液１２に負電圧を印加して
ウェハの洗浄を行う。
洗浄溶液から発生した金属不純物を同時に除去すること
が可能なウェハの洗浄方法及びウェハ洗浄装置を提供す
る。 【構成】アルカリ系洗浄溶液１２と接触可能な位置に、
当該アルカリ系洗浄液１２に負電圧を印加する電極１１
を設置し、アルカリ系洗浄溶液１２に負電圧を印加して
ウェハの洗浄を行う。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ウェハの洗浄方法及び
ウェハ洗浄装置に係り、特に、ウェハに付着したパーテ
ィクルと、アルカリ系洗浄溶液から発生した金属イオン
を同時に除去することが可能なウェハの洗浄方法及びウ
ェハ洗浄装置に関する。
ウェハ洗浄装置に係り、特に、ウェハに付着したパーテ
ィクルと、アルカリ系洗浄溶液から発生した金属イオン
を同時に除去することが可能なウェハの洗浄方法及びウ
ェハ洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ＬＳＩ（Ｌａｒｇｅ Ｓｃａｌｅ
Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔ）プロセスに
おけるウェハの洗浄工程で使用する洗浄溶液としては、
例えば、ＲＣＡ社のＳＣ−１（ＮＨ4 ＯＨ／Ｈ2 Ｏ2 ／
Ｈ2 Ｏ）に代表されるアルカリをベースとしたアルカリ
系洗浄溶液と、ＳＣ−２（ＨＣｌ／Ｈ2 Ｏ2 ／Ｈ2 Ｏ）
に代表される酸をベースとした酸系洗浄溶液が広く用い
られている。
Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔ）プロセスに
おけるウェハの洗浄工程で使用する洗浄溶液としては、
例えば、ＲＣＡ社のＳＣ−１（ＮＨ4 ＯＨ／Ｈ2 Ｏ2 ／
Ｈ2 Ｏ）に代表されるアルカリをベースとしたアルカリ
系洗浄溶液と、ＳＣ−２（ＨＣｌ／Ｈ2 Ｏ2 ／Ｈ2 Ｏ）
に代表される酸をベースとした酸系洗浄溶液が広く用い
られている。
【０００３】そして、ＬＳＩプロセスで使用されるウェ
ハ洗浄溶液は、金属汚染やパーティクルの除去効率が高
く、洗浄後のウェハ表面残留物の少ない洗浄溶液が要求
されている。しかしながら、前記アルカリ系洗浄溶液
は、当該洗浄溶液からの金属吸着現象などがあり、ウェ
ハ表面に発生する金属汚染の除去が困難であるという問
題があった。例えば、前記ＳＣ−１を使用して洗浄した
後のウェハ表面には、Ｆｅ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｎａな
どの金属イオンによる金属汚染が、洗浄溶液中の不純物
濃度に対応して発生するという問題があった。これは、
前記洗浄溶液を構成しているＮＨ4 ＯＨやＨ2 Ｏ2 中の
金属不純物（金属イオン）が、金属吸着汚染の主汚染源
となるためである。
ハ洗浄溶液は、金属汚染やパーティクルの除去効率が高
く、洗浄後のウェハ表面残留物の少ない洗浄溶液が要求
されている。しかしながら、前記アルカリ系洗浄溶液
は、当該洗浄溶液からの金属吸着現象などがあり、ウェ
ハ表面に発生する金属汚染の除去が困難であるという問
題があった。例えば、前記ＳＣ−１を使用して洗浄した
後のウェハ表面には、Ｆｅ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｎａな
どの金属イオンによる金属汚染が、洗浄溶液中の不純物
濃度に対応して発生するという問題があった。これは、
前記洗浄溶液を構成しているＮＨ4 ＯＨやＨ2 Ｏ2 中の
金属不純物（金属イオン）が、金属吸着汚染の主汚染源
となるためである。
【０００４】一方、前記酸系洗浄溶液は、ウェハ表面へ
の金属吸着汚染が無い反面、アルカリ系洗浄溶液よりも
パーティクルの除去効率が低いという欠点を有してい
る。そこで、現状では、アルカリ系洗浄溶液で洗浄した
後のウェハを、さらに酸系洗浄溶液で洗浄する方法をと
っている（月刊Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｗｏｒｌ
ｄ １９９１年３月、１３８〜１４３頁）。
の金属吸着汚染が無い反面、アルカリ系洗浄溶液よりも
パーティクルの除去効率が低いという欠点を有してい
る。そこで、現状では、アルカリ系洗浄溶液で洗浄した
後のウェハを、さらに酸系洗浄溶液で洗浄する方法をと
っている（月刊Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｗｏｒｌ
ｄ １９９１年３月、１３８〜１４３頁）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来例は、アルカリ系洗浄溶液で洗浄した後のウェハを、
さらに酸系洗浄溶液で洗浄しているため、洗浄工程数が
増加するなど、工程に手間がかかり、生産性が低下する
という問題があった。また、２種類の洗浄溶液を使用す
るため、コストアップを引き起こすという問題があっ
た。
来例は、アルカリ系洗浄溶液で洗浄した後のウェハを、
さらに酸系洗浄溶液で洗浄しているため、洗浄工程数が
増加するなど、工程に手間がかかり、生産性が低下する
という問題があった。また、２種類の洗浄溶液を使用す
るため、コストアップを引き起こすという問題があっ
た。
【０００６】本発明は、このような問題を解決すること
を課題とするものであり、ウェハに付着したパーティク
ルと、アルカリ系洗浄溶液から発生した金属不純物を同
時に除去することが可能なウェハの洗浄方法及びウェハ
洗浄装置を提供することを目的とする。
を課題とするものであり、ウェハに付着したパーティク
ルと、アルカリ系洗浄溶液から発生した金属不純物を同
時に除去することが可能なウェハの洗浄方法及びウェハ
洗浄装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明は、アルカリ系洗浄溶液を使用してウェハの
洗浄を行うウェハの洗浄方法において、前記アルカリ系
洗浄溶液に、負電圧を印加してウェハの洗浄を行うこと
を特徴とするウェハの洗浄方法を提供するものである。
に、本発明は、アルカリ系洗浄溶液を使用してウェハの
洗浄を行うウェハの洗浄方法において、前記アルカリ系
洗浄溶液に、負電圧を印加してウェハの洗浄を行うこと
を特徴とするウェハの洗浄方法を提供するものである。
【０００８】そして、アルカリ系洗浄溶液を使用してウ
ェハの洗浄を行うウェハ洗浄装置において、前記アルカ
リ系洗浄溶液と接触可能な位置に、当該アルカリ系洗浄
液に負電圧を印加する電極を設置したことを特徴とする
ウェハ洗浄装置を提供するものである。
ェハの洗浄を行うウェハ洗浄装置において、前記アルカ
リ系洗浄溶液と接触可能な位置に、当該アルカリ系洗浄
液に負電圧を印加する電極を設置したことを特徴とする
ウェハ洗浄装置を提供するものである。
【０００９】
【作用】請求項１記載の発明によれば、アルカリ系洗浄
溶液に、負電圧を印加してウェハの洗浄を行うため、当
該アルカリ系洗浄溶液中の不純物濃度に対応して発生し
た金属不純物（金属イオン）を優先的に取り除くことが
できる。従って、前記アルカリ系洗浄溶液中の金属不純
物濃度を低減させることができ、ウェハ表面への金属不
純物の吸着を低減させることができる。
溶液に、負電圧を印加してウェハの洗浄を行うため、当
該アルカリ系洗浄溶液中の不純物濃度に対応して発生し
た金属不純物（金属イオン）を優先的に取り除くことが
できる。従って、前記アルカリ系洗浄溶液中の金属不純
物濃度を低減させることができ、ウェハ表面への金属不
純物の吸着を低減させることができる。
【００１０】そして、請求項２記載の発明によれば、ア
ルカリ系洗浄溶液と接触可能な位置に、当該アルカリ系
洗浄液に負電圧を印加する電極を設置したため、当該ア
ルカリ系洗浄溶液中の不純物濃度に対応して発生した金
属不純物（金属イオン）は、前記電極に優先的に吸着さ
れる。従って、前記アルカリ系洗浄溶液中の金属不純物
濃度を低減させることができ、ウェハ表面への金属不純
物の吸着を低減させることができる。
ルカリ系洗浄溶液と接触可能な位置に、当該アルカリ系
洗浄液に負電圧を印加する電極を設置したため、当該ア
ルカリ系洗浄溶液中の不純物濃度に対応して発生した金
属不純物（金属イオン）は、前記電極に優先的に吸着さ
れる。従って、前記アルカリ系洗浄溶液中の金属不純物
濃度を低減させることができ、ウェハ表面への金属不純
物の吸着を低減させることができる。
【００１１】
【実施例】次に、本発明の一実施例について、図面を参
照して説明する。図１は、本発明の実施例に係るウェハ
洗浄装置の構成を示す図である。図１に示すウェハ洗浄
装置１は、アルカリ系洗浄溶液１２として、ＳＣ−１
（ＲＣＡ社製）を収容した洗浄槽１０と、当該洗浄槽１
０内のアルカリ系洗浄溶液１２と接触可能な位置に設置
され、当該アルカリ系洗浄溶液１２に負電圧を印加する
電極１１と、前記アルカリ系洗浄溶液１２を循環させる
ポンプ１３及び洗浄溶液タンク１４と、前記アルカリ系
洗浄溶液１２に混入した異物を除去するフィルタ１５か
ら構成されている。そして、前記洗浄槽１０は、洗浄溶
液供給・排出配管１６Ａを介してポンプ１３及び洗浄溶
液タンク１４に接続され、当該洗浄溶液タンク１４は、
洗浄溶液供給・排出配管１６Ｂを介してフィルタ１５に
接続され、当該フィルタ１５は、洗浄溶液供給・排出配
管１６Ｃを介して、洗浄槽１０に接続されている。
照して説明する。図１は、本発明の実施例に係るウェハ
洗浄装置の構成を示す図である。図１に示すウェハ洗浄
装置１は、アルカリ系洗浄溶液１２として、ＳＣ−１
（ＲＣＡ社製）を収容した洗浄槽１０と、当該洗浄槽１
０内のアルカリ系洗浄溶液１２と接触可能な位置に設置
され、当該アルカリ系洗浄溶液１２に負電圧を印加する
電極１１と、前記アルカリ系洗浄溶液１２を循環させる
ポンプ１３及び洗浄溶液タンク１４と、前記アルカリ系
洗浄溶液１２に混入した異物を除去するフィルタ１５か
ら構成されている。そして、前記洗浄槽１０は、洗浄溶
液供給・排出配管１６Ａを介してポンプ１３及び洗浄溶
液タンク１４に接続され、当該洗浄溶液タンク１４は、
洗浄溶液供給・排出配管１６Ｂを介してフィルタ１５に
接続され、当該フィルタ１５は、洗浄溶液供給・排出配
管１６Ｃを介して、洗浄槽１０に接続されている。
【００１２】即ち、前記洗浄槽１０内のアルカリ系洗浄
溶液１２は、ポンプ１３の作動により、洗浄溶液タンク
１４及びフィルタ１５を通過し、再び洗浄槽１０内に戻
される。次に、本実施例に係るウェハ洗浄装置１を使用
して、ウェハの洗浄を行う際の具体的実施例について説
明する。
溶液１２は、ポンプ１３の作動により、洗浄溶液タンク
１４及びフィルタ１５を通過し、再び洗浄槽１０内に戻
される。次に、本実施例に係るウェハ洗浄装置１を使用
して、ウェハの洗浄を行う際の具体的実施例について説
明する。
【００１３】前記洗浄槽１０内に、アルカリ系洗浄溶液
１２を入れ、このアルカリ系洗浄溶液１２に負電圧を印
加する。この洗浄槽１０内に、洗浄すべきウェハを浸漬
すると、アルカリ系洗浄溶液１２を構成しているＮＨ4
ＯＨにより、前記ウェハ表面に形成されていた自然酸化
膜が２〜１０Å／ｍｉｎ程度の速度でエッチングされ
る。そして、このエッチングと共に、ウェハ表面のパー
ティクルが除去される。この時、前記アルカリ系洗浄溶
液１２中の金属不純物（金属イオン）は、優先的に電極
１１に吸着されるため、アルカリ系洗浄溶液１２中の金
属不純物濃度は低減する。従って、ウェハ表面に金属不
純物が吸着することを防止することができる。さらに、
前記アルカリ系洗浄溶液１２は、ポンプ１３の作動によ
り、ウェハ洗浄中は、常に洗浄溶液タンク１４及びフィ
ルタ１５を通過して循環するが、これにより、アルカリ
系洗浄溶液１２中に混入していた異物が除去され、良好
な状態で再び洗浄槽１０に戻される。
１２を入れ、このアルカリ系洗浄溶液１２に負電圧を印
加する。この洗浄槽１０内に、洗浄すべきウェハを浸漬
すると、アルカリ系洗浄溶液１２を構成しているＮＨ4
ＯＨにより、前記ウェハ表面に形成されていた自然酸化
膜が２〜１０Å／ｍｉｎ程度の速度でエッチングされ
る。そして、このエッチングと共に、ウェハ表面のパー
ティクルが除去される。この時、前記アルカリ系洗浄溶
液１２中の金属不純物（金属イオン）は、優先的に電極
１１に吸着されるため、アルカリ系洗浄溶液１２中の金
属不純物濃度は低減する。従って、ウェハ表面に金属不
純物が吸着することを防止することができる。さらに、
前記アルカリ系洗浄溶液１２は、ポンプ１３の作動によ
り、ウェハ洗浄中は、常に洗浄溶液タンク１４及びフィ
ルタ１５を通過して循環するが、これにより、アルカリ
系洗浄溶液１２中に混入していた異物が除去され、良好
な状態で再び洗浄槽１０に戻される。
【００１４】このようにして洗浄したウェハ表面の金属
汚染を調査したところ、１０10原子レベル以下であっ
た。これより、本発明では、アルカリ系洗浄溶液のみを
使用したにも係わらず、アルカリ系洗浄溶液及び酸系洗
浄溶液を順に使用した場合と同様の洗浄効果を得ること
ができた。なお、本実施例では、電極１１を洗浄槽１０
内に設置したが、これに限らず、図２に示すように、洗
浄溶液タンク１４内に設置するなど、アルカリ系洗浄溶
液１２と接触可能な位置であれば、他の循環系の所望位
置に設置してよい。また、洗浄槽１０を電極に見立て、
洗浄槽１０自身に負電圧を印加してもよい。
汚染を調査したところ、１０10原子レベル以下であっ
た。これより、本発明では、アルカリ系洗浄溶液のみを
使用したにも係わらず、アルカリ系洗浄溶液及び酸系洗
浄溶液を順に使用した場合と同様の洗浄効果を得ること
ができた。なお、本実施例では、電極１１を洗浄槽１０
内に設置したが、これに限らず、図２に示すように、洗
浄溶液タンク１４内に設置するなど、アルカリ系洗浄溶
液１２と接触可能な位置であれば、他の循環系の所望位
置に設置してよい。また、洗浄槽１０を電極に見立て、
洗浄槽１０自身に負電圧を印加してもよい。
【００１５】また、本実施例では、アルカリ系洗浄溶液
１２として、ＳＣ−１（ＲＣＡ社製）を使用したが、こ
れに限らず、他の成分からなるアルカリ系洗浄溶液を使
用してもよいことは勿論である。そして、本発明に係る
電極１１は、高純度シリコンなど、アルカリ系洗浄溶液
１２を汚染しない材質であれば、任意に決定してよい。
１２として、ＳＣ−１（ＲＣＡ社製）を使用したが、こ
れに限らず、他の成分からなるアルカリ系洗浄溶液を使
用してもよいことは勿論である。そして、本発明に係る
電極１１は、高純度シリコンなど、アルカリ系洗浄溶液
１２を汚染しない材質であれば、任意に決定してよい。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１記載の発
明によれば、アルカリ系洗浄溶液に、負電圧を印加して
ウェハの洗浄を行うため、当該アルカリ系洗浄溶液中の
不純物濃度に対応して発生した金属不純物を優先的に取
り除くことができる。従って、前記アルカリ系洗浄溶液
中の金属不純物濃度を低減させることができ、ウェハ表
面への金属不純物の吸着を低減させることができる。こ
の結果、アルカリ系洗浄溶液のみを使用した洗浄でも、
十分な洗浄効果を発揮することができるため、生産性を
向上し、コストの削減を達成することができる。
明によれば、アルカリ系洗浄溶液に、負電圧を印加して
ウェハの洗浄を行うため、当該アルカリ系洗浄溶液中の
不純物濃度に対応して発生した金属不純物を優先的に取
り除くことができる。従って、前記アルカリ系洗浄溶液
中の金属不純物濃度を低減させることができ、ウェハ表
面への金属不純物の吸着を低減させることができる。こ
の結果、アルカリ系洗浄溶液のみを使用した洗浄でも、
十分な洗浄効果を発揮することができるため、生産性を
向上し、コストの削減を達成することができる。
【００１７】そして、請求項２記載の発明によれば、ア
ルカリ系洗浄溶液と接触可能な位置に、当該アルカリ系
洗浄液に負電圧を印加する電極を設置したことで、当該
アルカリ系洗浄溶液中の不純物濃度に対応して発生した
金属不純物を、前記電極に、優先的に吸着させることが
できる。従って、前記アルカリ系洗浄溶液中の金属不純
物濃度を低減させることができ、ウェハ表面への金属不
純物の吸着を低減させることができる。この結果、アル
カリ系洗浄溶液のみを使用した洗浄でも、十分な洗浄効
果を発揮することができるため、生産性を向上し、コス
トの削減を達成することができる。
ルカリ系洗浄溶液と接触可能な位置に、当該アルカリ系
洗浄液に負電圧を印加する電極を設置したことで、当該
アルカリ系洗浄溶液中の不純物濃度に対応して発生した
金属不純物を、前記電極に、優先的に吸着させることが
できる。従って、前記アルカリ系洗浄溶液中の金属不純
物濃度を低減させることができ、ウェハ表面への金属不
純物の吸着を低減させることができる。この結果、アル
カリ系洗浄溶液のみを使用した洗浄でも、十分な洗浄効
果を発揮することができるため、生産性を向上し、コス
トの削減を達成することができる。
【図１】本発明の実施例に係るウェハ洗浄装置の構成を
示す図である。
示す図である。
【図２】本発明の他の実施例に係るウェハ洗浄装置の構
成を示す図である。
成を示す図である。
１ ウェハ洗浄装置 １０ 洗浄槽 １１ 電極 １２ アルカリ系洗浄溶液 １３ ポンプ １４ 洗浄溶液タンク １５ フィルタ １６Ａ 洗浄溶液供給・排出配管 １６Ｂ 洗浄溶液供給・排出配管 １６Ｃ 洗浄溶液供給・排出配管
Claims (2)
- 【請求項１】 アルカリ系洗浄溶液を使用してウェハの
洗浄を行うウェハの洗浄方法において、 前記アルカリ系洗浄溶液に、負電圧を印加してウェハの
洗浄を行うことを特徴とするウェハの洗浄方法。 - 【請求項２】 アルカリ系洗浄溶液を使用してウェハの
洗浄を行うウェハ洗浄装置において、 前記アルカリ系洗浄溶液と接触可能な位置に、当該アル
カリ系洗浄液に負電圧を印加する電極を設置したことを
特徴とするウェハ洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14431792A JPH05343382A (ja) | 1992-06-04 | 1992-06-04 | ウェハの洗浄方法及びウェハ洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14431792A JPH05343382A (ja) | 1992-06-04 | 1992-06-04 | ウェハの洗浄方法及びウェハ洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05343382A true JPH05343382A (ja) | 1993-12-24 |
Family
ID=15359280
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14431792A Pending JPH05343382A (ja) | 1992-06-04 | 1992-06-04 | ウェハの洗浄方法及びウェハ洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05343382A (ja) |
-
1992
- 1992-06-04 JP JP14431792A patent/JPH05343382A/ja active Pending
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