JPH05341491A - マスクフィルムの欠陥検査及び修正装置 - Google Patents

マスクフィルムの欠陥検査及び修正装置

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JPH05341491A
JPH05341491A JP17010692A JP17010692A JPH05341491A JP H05341491 A JPH05341491 A JP H05341491A JP 17010692 A JP17010692 A JP 17010692A JP 17010692 A JP17010692 A JP 17010692A JP H05341491 A JPH05341491 A JP H05341491A
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JP
Japan
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defect
film
mask film
microfilm
inspection
Prior art date
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Pending
Application number
JP17010692A
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English (en)
Inventor
Hideaki Ono
英明 大野
Shinichi Suzuki
信一 鈴木
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Pentax Corp
Original Assignee
Asahi Kogaku Kogyo Co Ltd
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Publication date
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  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 マスクフィルムに形成されたパターンの欠陥
をマスクフィルムに投影表示し、この欠陥の修正作業を
正確にしかも容易に行うことを可能にしたマスクフィル
ム検査装置を得る。 【構成】 マスクフィルムMFに形成されたパターンの
欠陥を検出する手段(検査機)Aと、検出された欠陥情
報に基づいてマスクフィルムの欠陥位置を投影表示する
ための手段(修正機)Bとを備える。検査機Aで検出さ
れた欠陥情報をマイクロフィルムμFにパターン化し、
修正機Bではこのマイクロフィルムを用いて欠陥情報
(欠陥表示マーク)を投影し、その投影パターンを利用
してマスクフィルムの欠陥位置を表示させ、かつ修正を
行うことで、修正作業を容易なものとする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は透明フィルムに所要パタ
ーンが形成されたマスクフィルムのパターン欠陥を検査
するための検査装置に関し、特にマスクフィルムの欠陥
箇所を投影表示して欠陥修正を容易に行なうことを可能
にしたマスクフィルムの欠陥検査及び修正装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】近年、電子機器の小型化,高集積化に伴
って、これらの機器に使用されるプリント配線板もより
一層の高集積化、高密度化が要求されている。このた
め、プリント配線板を写真蝕刻法により形成する際に使
用されるマスクフィルムのパターンも微細化が進められ
ており、そのパターン欠陥の検査に際しても高精度が要
求されている。従来、この種のマスクフィルムのパター
ン欠陥検査として、画像読取カメラでパターンの画像デ
ータを読み取り、この画像データを所要のアルゴリズム
で処理することでパターン欠陥を自動的に検出する方法
が提案されている。
【0003】このような検査方法では、マスクフィルム
の欠陥データとしてマスクフィルム上における欠陥の座
標位置や欠陥種類等の情報を得ることができるため、こ
の欠陥情報に基づいてマスクフィルムと略同じ大きさの
用紙の対応する欠陥箇所に点等を描画して欠陥箇所を表
示させることができる。そして、マスクフィルムの欠陥
の修正に際しては、この欠陥箇所が表示された用紙の上
に該当するマスクフィルムを重ね、このマスクフィルム
を透して見える描画点を基準としてマスクフィルム上の
欠陥箇所を見つけ、その修正作業を行っている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな修正作業では、用紙とマスクフィルムを正確に位置
合わせしないと正しい欠陥位置を表示させることができ
ないため、両者を位置合わせするための作業が修正作業
の前工程として必要になり、修正作業が面倒になるとい
う問題がある。又、マスクフィルムに対応して同じ大き
さの用紙が必要とされ、しかもこの用紙は欠陥修正後に
は不要となるものであるため、省資源上及び経済的に無
駄なものになるという問題もある。本発明の目的は、パ
ターン欠陥の修正作業を正確にしかも容易に行うことを
可能にし、しかも欠陥箇所を表示するための同寸法の用
紙を不要にした欠陥検査及び修正装置を提供することに
ある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、マスクフィル
ムに形成されたパターンの欠陥を検出する手段と、検出
された欠陥情報に基づいてマスクフィルムの欠陥位置を
投影表示するための投影表示手段とを備える。欠陥検査
手段は、マスクフィルムのパターン欠陥位置を表示する
欠陥表示マークを形成したマイクロフィルムを形成する
手段を備え、欠陥位置投影表示手段は、マスクフィルム
を載置して欠陥を修正する修正ガラスの裏面側から前記
マイクロフィルムの欠陥表示マークを修正ガラス面に投
影する手段を備える。又、欠陥検査手段は、形成したマ
イクロフィルムを当該マスクフィルムの一部に貼り付け
る手段を備える。
【0006】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。図1は本発明のマスクフィルムの欠陥検査及び修正
装置を示す図であり、同図(a)に示す検査機Aと、同
図(b)に示す修正機Bとで構成される。検査機Aはマ
スクフィルムのパターン欠陥を検出するためのものであ
り、修正機Bは検出されたパターン欠陥をマスクフィル
ムに対して表示させ、かつその欠陥の修正作業を行うた
めのものである。
【0007】図2は前記検査機Aの一実施例の正面構成
図であり、図3はその平面構成図である。尚、図3は構
成を判り易くするために一部を省略した状態で図示して
いる。これらの図において、平面形状が一方向に長い矩
形をしたベースプレート1上には、長手方向の一端側に
方形の浅皿状をしたフィルム供給カセット2Aが配置さ
れ、サイズ設定ストッパ21により区画された領域内に
は複数枚の被検査マスクフィルムMFが重ねて収納され
る。又、他端側には同様に構成されたフィルム収納カセ
ット2Bが配置され、検査済マスクフィルムMFが重ね
て収納される。そして、これらのカセット間には長手方
向に沿って一対のレール状の検査テーブルガイド3が延
設され、このガイド3に沿って検査テーブル4が往復移
動される。
【0008】前記検査テーブル4は光透過性の板材42
と枠材43で形成されており、ベースプレート1の幅方
向両側に延設された検査テーブルガイド3に両側部が支
持される。そして、一方のガイドにはベースプレートの
全長にわたってスクリューボルト31を延長配置してお
り、検査テーブル4に固定的に設けた雌ネジ部(図示せ
ず)をスクリューボルト31に螺合させている。このス
クリューボルト31はベースプレートの一端部に設けた
駆動モータ32によって軸転駆動され、軸転駆動された
ときに雌ネジ部に螺合されたネジ機構によって検査テー
ブル4をガイド3に沿って往復移動させる。又、検査テ
ーブル4の一端部の表面には複数個のフィルム吸着穴4
1が並んで開設されており、詳細を後述するように搭載
されるマスクフィルムMFの一端縁を真空吸着して検査
テーブル4上に固定することができる。
【0009】又、前記フィルム供給カセット2Aの上側
には、被検査マスクフィルムMFを検査テーブル4に搭
載するためのフィルム搭載部5Aが設けられ、前記フィ
ルム収納カセット2Bの上側には検査済マスクフィルム
MFを検査テーブル4から降載するためのフィルム降載
部5Bが設けられる。フィルム搭載部5Aはフィルム昇
降モータ53によって固定枠体51に対して上下移動さ
れるフィルム昇降アーム52が設けられ、このアーム5
2に設けた吸着ノズル54によって被検査マスクフィル
ムMFが真空吸着され、フィルム供給カセット2Aから
検査テーブル4上に搭載される。又、フィルム降載部5
Bも同様に構成され、検査テーブル4上の検査済マスク
フィルムをフィルム収納カセット2Bに降載する。
【0010】又、前記フィルム搭載部5Aの枠体51の
一側にはフィルム押え部8が設けられる。このフィルム
押え部8は前記枠体51から幅方向に対向する一対のブ
ラケット81間にフィルム押えローラ82を配設し、か
つスプリング83によりフィルム押えローラ82を検査
テーブル4面に押圧させるように付勢している。
【0011】前記フィルム搭載部5Aとフィルム降載部
5Bとの間には検査テーブル4に搭載されたマスクフィ
ルムMFのパターンを画像を読み取って欠陥を検査する
ための欠陥検査部6が設けられる。この画像読取部とし
ての欠陥検査部6は、前記ベースプレート1の長手方向
の中間位置で前記検査テーブル4よりも下側の位置に、
幅方向に延びる蛍光灯等の照明光源61を有し、この照
明光源61によって検査テーブル4上のマスクフィルム
を透過照明する。又、この照明光源61に対向する検査
テーブルの上側には、前記ガイド3間に跨がるように幅
方向にカメラ搬送ガイド62が延長され、CCDライン
センサからなる画像読取カメラ63が支持されている。
この画像読取カメラ63は、カメラ搬送モータ64を駆
動することでカメラ搬送ガイド62に沿って往復移動さ
れる。
【0012】又、前記欠陥検査部6と隣接する位置に
は、検査されたマスクフィルムMFに対してマイクロフ
ィルムμFを貼り付けるマイクロフィルム貼付部7が設
けられる。このマイクロフィルム貼付部7は、前記カメ
ラ搬送ガイド62と平行にフィルム搬送ガイド71が延
長され、フィルム吸着ノズルを有するフィルム搬送器7
2が支持されている。そして、フィルム搬送モータ74
を駆動することでフィルム搬送器72をフィルム搬送ガ
イドに沿って往復移動させ、フィルム吸着ノズル73に
真空吸着したマイクロフィルムをマスクフィルムの所定
箇所に貼り付けることができる。
【0013】前記マイクロフィルムは、前記フィルム搬
送ガイド71の一側に設けたマイクロフィルム作成器9
により形成される。このマイクロフィルム作成器9は、
前記マスクフィルムMFを縮小した外形状のマイクロフ
ィルムμFを写真法によって作成でき、しかもこのマイ
クロフィルムμFには前記欠陥検査部6で検出されたマ
スクフィルムMFのパターン欠陥と対応する箇所に欠陥
表示を顕像化させることができる。又、この実施例では
マイクロフィルムの一部には両面テープが付着され、マ
イクロフィルムはこの両面テープによりマスクフィルム
の一側部に貼り付けられるようになっている。又、10
0は真空ポンプであり、切換弁101の切り換え動作に
よって前記フィルム吸着穴41、吸着ノズル54、フィ
ルム吸着ノズル73等を選択的、或いは同時に真空状態
とし、マスクフィルムやマイクロフィルムを真空吸着さ
せる。
【0014】一方、前記修正機Bは、図4に概略内部構
成を示すように、その一部にマイクロフィルムμFを装
着でき、装着されたマイクロフィルムμFを照明する光
源201と、コンデンサレンズ202と、照明されたマ
イクロフィルムμFを拡大投影する投影レンズ204
と、2枚の反射鏡205,206と、マイクロフィルム
像が投影される半透過性の投影ガラス207とで構成さ
れる。前記投影レンズ204はここではズームレンズで
構成され、マイクロフィルムμFのパターンを任意の倍
率で投影ガラス207の裏面に投影するように構成して
いる。又、前記投影ガラス207は修正作業テーブルと
して構成され、この投影ガラス207の表面上にパター
ン欠陥が検出されたマスクフィルムMFが載置され、か
つこの投影ガラス207に投影されたマイクロフィルム
μFのパターン像がマスクフィルムMFを透して確認さ
れる。そして、このパターン像を利用することで、検出
されたマクスフィルムのパターン欠陥を手作業によって
修正することができるように構成されている。
【0015】尚、図5(a)及び(b)は前記検査機と
修正機のそれぞれのブロック構成図である。検査機Aに
おいては、前記フィルム供給カセット2A,フィルム収
納カセット2B,照明光源61等は機構制御部300に
より駆動制御される。又、画像読取カメラ63の出力は
画像処理部400において処理され、判定部500で欠
陥が判定された後、その出力に基づいてマイクロフィル
ム作成器9においてマイクロフィルムμFを作成する。
又、修正機Bにおいては、マイクロフィルムμFのパタ
ーンは投影光学系200により投影ガラス207上のマ
スクフィルムMFの裏面に投影される。
【0016】次に、以上の構成の検査機の検査工程と、
修正機におけるパターン修正作業を図6のフローチャー
トを参照して説明する。先ず、検査機Aにおいて、被検
査フィルムMFはフィルム供給カセット2Aに重ねて入
れられ、検査テーブル4がフィルム収納カセット2B側
に移動されているときに、検査されるフィルムがフィル
ム搭載部5Aのフィルム昇降アーム52によって真空吸
着されて持ち上げられる。そして、検査テーブル4がフ
ィルム供給カセット2A上の始点位置に戻されたときに
検査テーブル4上に搭載される。
【0017】検査テーブル4上に搭載された被検査フィ
ルムMFは、検査テーブル4の一端部に設けたフィルム
吸着穴41にその先端部が真空吸着されて固定される。
又、フィルム押え部8により後端部側が検査テーブル4
の表面に押圧されて密接される。そして、検査テーブル
4は間欠的に移動を開始する。この検査テーブル4の移
動開始に同期させて照明光源61を点灯し、被検査フィ
ルムの照明を開始する。同時にカメラ搬送モータ64を
駆動して画像読取カメラ63を検査テーブル4の移動方
向と直交する方向に移動させる。これにより、画像読取
カメラ63は所要の幅寸法で走査し、被検査フィルムの
パターンを画像データとして読み取ることになる。以
後、検査テーブル4を画像読取カメラ63が読み取った
幅寸法毎に間欠的に移動させ、かつこれに対応して画像
読取カメラ63を繰り返して往復移動させることで、被
検査マスクフィルムMFの全面のパターンを画像データ
として読み取ることができる。
【0018】検査テーブル4が終点位置まで移動されて
マスクフィルムMFの検査が終了されると、画像読取カ
メラ63により読み取られた画像データは画像処理部4
00で処理され、かつ判定部500で欠陥が検出された
上で、マイクロフィルム作成器9において検出された欠
陥箇所に対応する箇所に欠陥表示マークが顕像化された
マイクロフィルムμFが形成される。このマイクロフィ
ルムμFはマスクフィルムMFと相似形をした縮小フィ
ルムとして形成され、その複数箇所にはマスクフィルム
と対応する箇所にそれぞれ欠陥表示マークが顕像化され
ている。そして、作成されたマイクロフィルムμFは、
フィルム貼付部7のフィルム吸着ノズル73によって真
空吸着された上で、フィルム搬送器72によってそのマ
スクフィルムMFの所定箇所にまで搬送され、その箇所
に貼り付けられる。この貼り付け位置はマスクフィルム
の寸法等によって任意に設定することができる。その
後、検査テーブル4上の検査済の被検査フィルム(検査
済フィルム)MFはフィルム降載部5Bのフィルム昇降
アーム52によって検査テーブル4の上方に持ち上げら
れる。そして、検査テーブル4が次の被検査フィルムを
搭載すべく始点位置まで戻されたときに、検査済フィル
ムMFはフィルム収納カセット2Bに納められる。
【0019】このようにして検査された検査済のマスク
フィルムMFは、フィルム収納カセット2Bから取り出
され、修正機Bの投影ガラス207の所要箇所に載置さ
れる。又、このマスクフィルムMFに貼り付けられてい
るマイクロフィルムμFを剥がした上で、修正機Bの装
着部に装着する。そして、光源201を点灯すると、投
影レンズ204によってマイクロフィルムμFに顕像化
された欠陥表示マークが投影ガラス207に投影され
る。この投影レンズ204の倍率を調整すれば、図7に
示すように、投影ガラス207にはマスクフィルムMF
と等倍にマイクロフィルムμFが投影され、欠陥表示マ
ークDMが投影される。
【0020】これにより、投影ガラス207に載置した
マスクフィルムMFを透して投影された欠陥表示マーク
DMを観察することができる。このため、修正作業者
は、この欠陥表示マークを確認しながらマスクフィルム
の欠陥箇所を見い出し、所要の修正を行うことができ
る。したがって、欠陥箇所を探す作業を容易にし、欠陥
修正作業を正確に、しかも迅速に行うことができる。こ
れにより、従来のような欠陥箇所を表示するためのマス
クフィルムと同じ大きさの用紙が不要となり、省資源的
にも経済的にも有利となる。
【0021】又、本発明においては、欠陥表示マークD
MをマスクフィルムMFを載置した投影ガラス207の
裏面側から、即ちマスクフィルムMFの裏面側から投影
しているので、例えば欠陥表示マークをマスクフィルム
の表面側、即ち作業者の背後側から投影する場合に比べ
れば、投影される欠陥表示マークが修正作業者によって
けられて見難くなることもなく、修正作業に制約を受け
ることもない。更に、マイクロフィルムには各欠陥表示
マークと隣接する位置に、欠陥種類や欠陥番号等を表示
させておけば、作業者がこれらを確認することで修正作
業を一層容易に行うことができる。ここで、前記実施例
ではマイクロフィルムは写真法により形成しているが、
電子写真法或いは印刷法によってマイクロフィルムを形
成してもよい。又、マイクロフィルム貼付部は単にマス
クフィルムの決められた一部に貼り付けるように構成し
てもよく、この場合にはフィルム搬送ガイド,フィルム
搬送器,フィルム搬送モータ等の機構は不要にできる。
【0022】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、被検査フ
ィルムの欠陥を検出し、この検出された欠陥を被検査フ
ィルム面に対して投影表示するようにしているので、マ
スクフィルムの欠陥を投影パターンによって一目で確認
することができ、マスクフィルムの欠陥修正作業を適切
かつ迅速に行うことが可能となる。又、欠陥位置を表示
するマークをマイクロフィルムに形成し、このマイクロ
フィルムを被検査フィルム面に投影することで、従来の
ような被検査フィルムと同じ寸法の用紙が不要となり、
取扱いの上でも経済的にも有利になる。更に、マイクロ
フィルムに設けた欠陥表示マークを被検査フィルムの裏
面側から投影しているので、修正作業時に投影パターン
が作業者によってけられることがなく、修正作業に制約
を与えることがない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかる検査機と修正機の外観図であ
る。
【図2】検査機の構造を示す概略正面図である。
【図3】図2の平面図である。
【図4】修正機の構造を示す概略構成図である。
【図5】検査機と修正機のブロック図である。
【図6】検査及び修正作業を示すフローチャートであ
る。
【図7】マイクロフィルムによる欠陥表示マークの投影
図である。
【符号の説明】
A 検査機 B 修正機 4 検査テーブル 6 欠陥検査部 7 マイクロフィルム貼付部 9 マイクロフィルム作成器 MF マスクフィルム μF マイクロフィルム

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 マスクフィルムに形成されたパターンの
    欠陥を検出する手段と、検出された欠陥情報に基づいて
    マスクフィルムの欠陥位置を投影表示する手段とを備え
    ることを特徴とするマスクフィルムの欠陥検査及び修正
    装置。
  2. 【請求項2】 欠陥検査手段は、マスクフィルムのパタ
    ーン欠陥位置を表示する欠陥表示マークを形成したマイ
    クロフィルムを形成する手段を備え、欠陥位置投影表示
    手段は、マスクフィルムを載置して欠陥を修正する修正
    台の裏面側から前記マイクロフィルムの欠陥表示マーク
    をマスクフィルム面に投影する手段を備える請求項1の
    マスクフィルムの欠陥検査及び修正装置。
  3. 【請求項3】 欠陥検査手段は、形成したマイクロフィ
    ルムを当該マスクフィルムの一部に貼り付ける手段を備
    える請求項1又は2のマスクフィルムの欠陥検査及び修
    正装置。
JP17010692A 1992-06-04 1992-06-04 マスクフィルムの欠陥検査及び修正装置 Pending JPH05341491A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100833477B1 (ko) * 2006-07-28 2008-05-29 상리 소형 석영칩 공진파라미터 자동 선택 분리장치

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