JPH05339238A - テトラヒドロキノリン誘導体のラセミ化方法 - Google Patents
テトラヒドロキノリン誘導体のラセミ化方法Info
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- JPH05339238A JPH05339238A JP15061692A JP15061692A JPH05339238A JP H05339238 A JPH05339238 A JP H05339238A JP 15061692 A JP15061692 A JP 15061692A JP 15061692 A JP15061692 A JP 15061692A JP H05339238 A JPH05339238 A JP H05339238A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、優れた抗菌剤を合成するための中間
体として好適なテトラヒドロキノリン誘導体の製造法を
提供することを目的とする。 【構成】本発明の方法は、一般式 【化1】 〔式中X1 及びX2 はそれぞれハロゲン原子を示す。R
は低級アルキル基を示す。*は不斉炭素原子を示す。〕
で表わされる光学活性なテトラヒドロキノリン誘導体を
ラセミ化して一般式 【化2】 〔式中X1 、X2 及びRは前記に同じ。〕で表わされる
テトラヒドロキノリン誘導体を得る方法である。
体として好適なテトラヒドロキノリン誘導体の製造法を
提供することを目的とする。 【構成】本発明の方法は、一般式 【化1】 〔式中X1 及びX2 はそれぞれハロゲン原子を示す。R
は低級アルキル基を示す。*は不斉炭素原子を示す。〕
で表わされる光学活性なテトラヒドロキノリン誘導体を
ラセミ化して一般式 【化2】 〔式中X1 、X2 及びRは前記に同じ。〕で表わされる
テトラヒドロキノリン誘導体を得る方法である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、テトラヒドロキノリン
誘導体のラセミ化方法に関する。
誘導体のラセミ化方法に関する。
【0002】
【発明の開示】本発明は、一般式
【0003】
【化3】
【0004】〔式中X1 及びX2 はそれぞれハロゲン原
子を示す。Rは低級アルキル基を示す。*は不斉炭素原
子を示す。〕で表わされる光学活性なテトラヒドロキノ
リン誘導体をラセミ化して一般式
子を示す。Rは低級アルキル基を示す。*は不斉炭素原
子を示す。〕で表わされる光学活性なテトラヒドロキノ
リン誘導体をラセミ化して一般式
【0005】
【化4】
【0006】〔式中X1 、X2 及びRは前記に同じ。〕
で表わされるテトラヒドロキノリン誘導体を得ることを
特徴とする光学活性なテトラヒドロキノリン誘導体のラ
セミ化方法を提供するものである。
で表わされるテトラヒドロキノリン誘導体を得ることを
特徴とする光学活性なテトラヒドロキノリン誘導体のラ
セミ化方法を提供するものである。
【0007】本発明の方法により得られるテトラヒドロ
キノリン誘導体のラセミ体は、優れた抗菌剤として有用
な光学活性な一般式
キノリン誘導体のラセミ体は、優れた抗菌剤として有用
な光学活性な一般式
【0008】
【化5】
【0009】〔式中X2 、R及び*は前記に同じ。R1
はヒドロキシメチル基で置換されていてもよい1−ピロ
リジニル基、1,2,5,6−テトラヒドロ−1−ピリ
ジル基、オキソ基置換1−ピペラジニル基、基
はヒドロキシメチル基で置換されていてもよい1−ピロ
リジニル基、1,2,5,6−テトラヒドロ−1−ピリ
ジル基、オキソ基置換1−ピペラジニル基、基
【0010】
【化6】
【0011】(R2 は水素原子、ハロゲン原子もしくは
水酸基で置換されていてもよい低級アルキル基又はハロ
ゲン原子で置換されていてもよい低級アルカノイル基を
示す。)又は基
水酸基で置換されていてもよい低級アルキル基又はハロ
ゲン原子で置換されていてもよい低級アルカノイル基を
示す。)又は基
【0012】
【化7】
【0013】(R3 は水素原子、低級アルキル基、低級
アルコキシ基、水酸基、フェニル低級アルキル基、低級
アルカノイルオキシ基、低級アルキル基もしくは低級ア
ルカノイル基で置換されていてもよいアミノ基、オキソ
基又はカルバモイル基、nは1又は2、Zは酸素原子、
硫黄原子又はメチレン基をそれぞれ示す。)を示す。〕
で表わされるベンゾ〔ij〕キノリジン−2−カルボン
酸誘導体を合成するための中間体として有用である。
アルコキシ基、水酸基、フェニル低級アルキル基、低級
アルカノイルオキシ基、低級アルキル基もしくは低級ア
ルカノイル基で置換されていてもよいアミノ基、オキソ
基又はカルバモイル基、nは1又は2、Zは酸素原子、
硫黄原子又はメチレン基をそれぞれ示す。)を示す。〕
で表わされるベンゾ〔ij〕キノリジン−2−カルボン
酸誘導体を合成するための中間体として有用である。
【0014】本明細書において、R、R1 、R2 、
R3 、X1 及びX2 で示される各基は、より具体的には
それぞれ次の通りである。
R3 、X1 及びX2 で示される各基は、より具体的には
それぞれ次の通りである。
【0015】ハロゲン原子としては、弗素、塩素、臭素
及び沃素原子を例示できる。
及び沃素原子を例示できる。
【0016】低級アルキル基としては、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、tert−ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル基等の炭素数1〜6の直鎖又は
分枝鎖状アルキル基を例示できる。
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、tert−ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル基等の炭素数1〜6の直鎖又は
分枝鎖状アルキル基を例示できる。
【0017】ヒドロキシメチル基で置換されていてもよ
い1−ピロリジニル基としては、1−ピロリジニル、2
−ヒドロキシメチル−1−ピロリジニル、3−ヒドロキ
シメチル−1−ピロリジニル基等を例示できる。
い1−ピロリジニル基としては、1−ピロリジニル、2
−ヒドロキシメチル−1−ピロリジニル、3−ヒドロキ
シメチル−1−ピロリジニル基等を例示できる。
【0018】オキソ基置換1−ピペラジニル基として
は、2−オキソ−1−ピペラジニル、3−オキソ−1−
ピペラジニル、4−オキソ−1−ピペラジニル基等を例
示できる。
は、2−オキソ−1−ピペラジニル、3−オキソ−1−
ピペラジニル、4−オキソ−1−ピペラジニル基等を例
示できる。
【0019】ハロゲン原子もしくは水酸基で置換されて
いてもよい低級アルキル基としては、前記低級アルキル
基に加えて、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、
ジクロロメチル、トリブロモメチル、2,2,2−トリ
フルオロエチル、2,2,2−トリクロロエチル、2−
クロロエチル、1,2−ジクロロエチル、3,3,3−
トリクロロプロピル、3−フルオロプロピル、4−クロ
ロブチル、3−クロロブチル、ヒドロキシメチル、2−
ヒドロキシエチル、3−ヒドロキシプロピル、2,3−
ジヒドロキシプロピル、5−ヒドロキシペンチル、2,
3,4−トリヒドロキシヘキシル、4−ヒドロキシブチ
ル、2−ヒドロキシプロピル等の1〜3個のハロゲン原
子もしくは水酸基で置換されていてもよい炭素数1〜6
の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を例示できる。
いてもよい低級アルキル基としては、前記低級アルキル
基に加えて、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、
ジクロロメチル、トリブロモメチル、2,2,2−トリ
フルオロエチル、2,2,2−トリクロロエチル、2−
クロロエチル、1,2−ジクロロエチル、3,3,3−
トリクロロプロピル、3−フルオロプロピル、4−クロ
ロブチル、3−クロロブチル、ヒドロキシメチル、2−
ヒドロキシエチル、3−ヒドロキシプロピル、2,3−
ジヒドロキシプロピル、5−ヒドロキシペンチル、2,
3,4−トリヒドロキシヘキシル、4−ヒドロキシブチ
ル、2−ヒドロキシプロピル等の1〜3個のハロゲン原
子もしくは水酸基で置換されていてもよい炭素数1〜6
の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を例示できる。
【0020】ハロゲン原子で置換されていてもよい低級
アルカノイル基としては、ホルミル、アセチル、プロピ
オニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレ
リル、ヘキサノイル、トリフルオロアセチル、トリクロ
ロアセチル、トリブロモアセチル、2,2−ジクロロプ
ロピオニル、モノクロロアセチル、2−クロロブチリ
ル、ペンタフルオロプロピオニル、ヘプタフルオロブチ
リル基等の1〜7個のハロゲン原子で置換されていても
よい炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルカノイル基を
例示できる。
アルカノイル基としては、ホルミル、アセチル、プロピ
オニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレ
リル、ヘキサノイル、トリフルオロアセチル、トリクロ
ロアセチル、トリブロモアセチル、2,2−ジクロロプ
ロピオニル、モノクロロアセチル、2−クロロブチリ
ル、ペンタフルオロプロピオニル、ヘプタフルオロブチ
リル基等の1〜7個のハロゲン原子で置換されていても
よい炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルカノイル基を
例示できる。
【0021】低級アルコキシ基としては、メトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、te
rt−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基等
の炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基を例示
できる。
トキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、te
rt−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基等
の炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基を例示
できる。
【0022】フェニル低級アルキル基としては、ベンジ
ル、2−フェニルエチル、1−フェニルエチル、1−フ
ェニルプロピル、2−フェニルプロピル、3−フェニル
プロピル、1−フェニルブチル、2−フェニルブチル、
3−フェニルブチル、4−フェニルブチル、1,1−ジ
メチル−2−フェニルエチル、5−フェニルペンチル、
6−フェニルヘキシル、2−メチル−3−フェニルプロ
ピル基等のアルキル部分が炭素数1〜6の直鎖又は分枝
鎖状アルキル基であるフェニルアルキル基を例示でき
る。
ル、2−フェニルエチル、1−フェニルエチル、1−フ
ェニルプロピル、2−フェニルプロピル、3−フェニル
プロピル、1−フェニルブチル、2−フェニルブチル、
3−フェニルブチル、4−フェニルブチル、1,1−ジ
メチル−2−フェニルエチル、5−フェニルペンチル、
6−フェニルヘキシル、2−メチル−3−フェニルプロ
ピル基等のアルキル部分が炭素数1〜6の直鎖又は分枝
鎖状アルキル基であるフェニルアルキル基を例示でき
る。
【0023】低級アルカノイルオキシ基としては、ホル
ミルオキシ、アセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブ
チリルオキシ、イソブチリルオキシ、バレリルオキシ、
ヘキサノイルオキシ基等の炭素数1〜6の直鎖又は分枝
鎖状アルカノイルオキシ基を例示できる。
ミルオキシ、アセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブ
チリルオキシ、イソブチリルオキシ、バレリルオキシ、
ヘキサノイルオキシ基等の炭素数1〜6の直鎖又は分枝
鎖状アルカノイルオキシ基を例示できる。
【0024】低級アルカノイル基としては、ホルミル、
アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バ
レリル、ヘキサノイル基等の炭素数1〜6の直鎖又は分
枝鎖状アルカノイル基を例示できる。
アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バ
レリル、ヘキサノイル基等の炭素数1〜6の直鎖又は分
枝鎖状アルカノイル基を例示できる。
【0025】低級アルキル基もしくは低級アルカノイル
基で置換されていてもよいアミノ基としては、アミノ、
N−メチルアミノ、N−エチルアミノ、N−プロピルア
ミノ、N−イソプロピルアミノ、N−ブチルアミノ、
N,N−ジメチルアミノ、N,N−ジエチルアミノ、N
−メチル−N−エチルアミノ、N,N−ジプロピルアミ
ノ、N,N−ジイソプロピルアミノ、N,N−ジブチル
アミノ、N−メチル−N−tert−ブチルアミノ、ホ
ルミルアミノ、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、
ブチリルアミノ、イソブチリルアミノ、バレリルアミ
ノ、ヘキサノイルアミノ基等の炭素数1〜6の直鎖又は
分枝鎖状アルキル基もしくは炭素数1〜6の直鎖又は分
枝鎖状アルカノイル基で置換されていてもよいアミノ基
を例示できる。
基で置換されていてもよいアミノ基としては、アミノ、
N−メチルアミノ、N−エチルアミノ、N−プロピルア
ミノ、N−イソプロピルアミノ、N−ブチルアミノ、
N,N−ジメチルアミノ、N,N−ジエチルアミノ、N
−メチル−N−エチルアミノ、N,N−ジプロピルアミ
ノ、N,N−ジイソプロピルアミノ、N,N−ジブチル
アミノ、N−メチル−N−tert−ブチルアミノ、ホ
ルミルアミノ、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、
ブチリルアミノ、イソブチリルアミノ、バレリルアミ
ノ、ヘキサノイルアミノ基等の炭素数1〜6の直鎖又は
分枝鎖状アルキル基もしくは炭素数1〜6の直鎖又は分
枝鎖状アルカノイル基で置換されていてもよいアミノ基
を例示できる。
【0026】本発明の上記一般式(1)で表わされる光
学活性なテトラヒドロキノリン誘導体のラセミ化は、無
溶媒下又は適当な溶媒中、好ましくは無溶媒下に、強酸
又はルイス酸で処理することにより行なわれる。ここで
溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、
四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、ジグライム等のエーテル類、アニソ
ール等の芳香族エーテル類、n−ヘキサン、n−ヘプタ
ン等の脂肪族炭化水素類、シクロヘキサン、テトラリン
等の脂環族炭化水素類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等の非
プロトン性極性溶媒、水又はこれらの混合溶媒等を挙げ
ることができる。また強酸としては、例えばpH2より
強い酸、具体的にはp−トルエンスルホン酸・水和物、
濃硫酸、濃塩酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン
酸、カンファー−10−スルホン酸、トリフルオロメタ
ンスルホン酸、ルイス酸(例えば三弗化硼素・ジエチル
エーテル、塩化アルミニウム、塩化第二錫、四塩化チタ
ン、チタンテトライソプロポキシド等)等を挙げること
ができる。斯かる強酸の中でも、メタンスルホン酸を用
いると、低温で且つ短時間で反応が進行するので好適で
ある。上記強酸の使用量としては、処理すべきテトラヒ
ドロキノリン誘導体に対して通常2〜3倍モル以下であ
ればよいが、0.1倍モル〜等モル程度とするのが好ま
しい。上記強酸処理は、通常70℃〜溶媒の沸点付近、
好ましくは100〜180℃程度で行なうのがよい。
学活性なテトラヒドロキノリン誘導体のラセミ化は、無
溶媒下又は適当な溶媒中、好ましくは無溶媒下に、強酸
又はルイス酸で処理することにより行なわれる。ここで
溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、
四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、ジグライム等のエーテル類、アニソ
ール等の芳香族エーテル類、n−ヘキサン、n−ヘプタ
ン等の脂肪族炭化水素類、シクロヘキサン、テトラリン
等の脂環族炭化水素類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等の非
プロトン性極性溶媒、水又はこれらの混合溶媒等を挙げ
ることができる。また強酸としては、例えばpH2より
強い酸、具体的にはp−トルエンスルホン酸・水和物、
濃硫酸、濃塩酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン
酸、カンファー−10−スルホン酸、トリフルオロメタ
ンスルホン酸、ルイス酸(例えば三弗化硼素・ジエチル
エーテル、塩化アルミニウム、塩化第二錫、四塩化チタ
ン、チタンテトライソプロポキシド等)等を挙げること
ができる。斯かる強酸の中でも、メタンスルホン酸を用
いると、低温で且つ短時間で反応が進行するので好適で
ある。上記強酸の使用量としては、処理すべきテトラヒ
ドロキノリン誘導体に対して通常2〜3倍モル以下であ
ればよいが、0.1倍モル〜等モル程度とするのが好ま
しい。上記強酸処理は、通常70℃〜溶媒の沸点付近、
好ましくは100〜180℃程度で行なうのがよい。
【0027】上記で得られた一般式(2)で表わされる
テトラヒドロキノリン誘導体(ラセミ体)は、例えば下
記に示す方法により一般式(3)で表わされるベンゾ
〔ij〕キノリジン−2−カルボン酸誘導体に誘導され
得る。
テトラヒドロキノリン誘導体(ラセミ体)は、例えば下
記に示す方法により一般式(3)で表わされるベンゾ
〔ij〕キノリジン−2−カルボン酸誘導体に誘導され
得る。
【0028】一般式(2)の化合物の光学分割は、例え
ば適当な溶媒中、該化合物に光学活性化合物を反応させ
て一般式(2)の化合物の塩を形成させ、これを分別結
晶後、得られた光学活性化合物の塩を脱塩することによ
り行なわれる。
ば適当な溶媒中、該化合物に光学活性化合物を反応させ
て一般式(2)の化合物の塩を形成させ、これを分別結
晶後、得られた光学活性化合物の塩を脱塩することによ
り行なわれる。
【0029】塩形成反応で使用される光学活性化合物
は、一般式(2)の化合物と塩を形成し得る化合物であ
る限り公知のものを広く使用でき、例えば(+)及び
(−)の酒石酸、(−)のリンゴ酸、(−)のマンデル
酸、D及びLのカンファー−10−スルホン酸等の光学
活性な酸を例示できる。これらの中でも、D及びLのジ
−O−ベンゾイル酒石酸が好ましく、特にX1 及びX2
が共に弗素原子を示す一般式(2)の化合物である場合
には、結晶性、分離度が共に良好で、しかも結晶速度が
速い上に、使用量も少量でよいという利点を有してい
る。
は、一般式(2)の化合物と塩を形成し得る化合物であ
る限り公知のものを広く使用でき、例えば(+)及び
(−)の酒石酸、(−)のリンゴ酸、(−)のマンデル
酸、D及びLのカンファー−10−スルホン酸等の光学
活性な酸を例示できる。これらの中でも、D及びLのジ
−O−ベンゾイル酒石酸が好ましく、特にX1 及びX2
が共に弗素原子を示す一般式(2)の化合物である場合
には、結晶性、分離度が共に良好で、しかも結晶速度が
速い上に、使用量も少量でよいという利点を有してい
る。
【0030】塩形成反応で使用される溶媒としては、通
常の光学分割において使用される溶媒をいずれも使用可
能であり、例えば水、メタノール、エタノール、イソプ
ロパノール等のアルコール類、ベンゼン、トルエン、キ
シレン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロ
ホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、ジグライム等のエーテル
類、n−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素
類、シクロヘキサン等の脂環族炭化水素類、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン
酸トリアミド等の非プロトン性極性溶媒、アセトン、ア
セトニトリル等の極性溶媒又はこれらの混合溶媒等を挙
げることができる。一般式(2)の化合物に対する光学
活性化合物の使用量としては、通常0.3〜3倍モル程
度、好ましくは0.5倍モル〜等モル程度とするのがよ
い。該反応は、通常0〜100℃程度、好ましくは室温
〜50℃付近にて好適に進行する。
常の光学分割において使用される溶媒をいずれも使用可
能であり、例えば水、メタノール、エタノール、イソプ
ロパノール等のアルコール類、ベンゼン、トルエン、キ
シレン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロ
ホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、ジグライム等のエーテル
類、n−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素
類、シクロヘキサン等の脂環族炭化水素類、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン
酸トリアミド等の非プロトン性極性溶媒、アセトン、ア
セトニトリル等の極性溶媒又はこれらの混合溶媒等を挙
げることができる。一般式(2)の化合物に対する光学
活性化合物の使用量としては、通常0.3〜3倍モル程
度、好ましくは0.5倍モル〜等モル程度とするのがよ
い。該反応は、通常0〜100℃程度、好ましくは室温
〜50℃付近にて好適に進行する。
【0031】上記で形成された一般式(2)の化合物の
塩を分別結晶する方法としては、従来公知の方法をいず
れも適用でき、斯くして光学活性な一般式
塩を分別結晶する方法としては、従来公知の方法をいず
れも適用でき、斯くして光学活性な一般式
【0032】
【化8】
【0033】〔式中X1 、X2 、R及び*は前記に同
じ。〕で表わされる化合物の塩を単離することができ
る。
じ。〕で表わされる化合物の塩を単離することができ
る。
【0034】引続き行なわれる光学活性な一般式(4)
の塩の脱塩化反応は、塩基性化合物の存在下、適当な溶
媒中で行なわれる。ここで使用される溶媒としては、前
記塩形成反応で使用される溶媒をいずれも使用すること
ができる。また塩基性化合物としては、例えば水酸化ナ
トリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機
塩基等を挙げることができる。斯かる塩基性化合物は、
通常大過剰量使用するのがよい。
の塩の脱塩化反応は、塩基性化合物の存在下、適当な溶
媒中で行なわれる。ここで使用される溶媒としては、前
記塩形成反応で使用される溶媒をいずれも使用すること
ができる。また塩基性化合物としては、例えば水酸化ナ
トリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機
塩基等を挙げることができる。斯かる塩基性化合物は、
通常大過剰量使用するのがよい。
【0035】斯くして得られる一般式(4)の化合物
は、例えば次に示す方法に従い、一般式(3)で表わさ
れるベンゾ〔ij〕キノリジン−2−カルボン酸誘導体
に誘導され得る。即ち、一般式(4)の化合物にジアル
キルアルコキシメチレンマロネートを反応させ、次いで
得られる化合物を環化し、更に加水分解して一般式
は、例えば次に示す方法に従い、一般式(3)で表わさ
れるベンゾ〔ij〕キノリジン−2−カルボン酸誘導体
に誘導され得る。即ち、一般式(4)の化合物にジアル
キルアルコキシメチレンマロネートを反応させ、次いで
得られる化合物を環化し、更に加水分解して一般式
【0036】
【化9】
【0037】〔式中X1 、X2 、R及び*は前記に同
じ。〕で表わされる化合物を得、最後にこの一般式
(5)の化合物に一般式 R1 H (6) 〔式中R1 は前記に同じ。〕で表わされる化合物を反応
させることにより製造される(特開昭63−19275
3号公報参照)。
じ。〕で表わされる化合物を得、最後にこの一般式
(5)の化合物に一般式 R1 H (6) 〔式中R1 は前記に同じ。〕で表わされる化合物を反応
させることにより製造される(特開昭63−19275
3号公報参照)。
【0038】また一般式(3)で表わされるベンゾ〔i
j〕キノリジン−2−カルボン酸誘導体は、下記反応式
−1に示す方法によっても製造され得る。
j〕キノリジン−2−カルボン酸誘導体は、下記反応式
−1に示す方法によっても製造され得る。
【0039】
【化10】
【0040】〔式中X1 、X2 、R及び*は前記に同
じ。R4 及びR5 はそれぞれ低級アルキル基を示す。〕
一般式(7)の化合物は、一般式(5)の化合物に一般
式
じ。R4 及びR5 はそれぞれ低級アルキル基を示す。〕
一般式(7)の化合物は、一般式(5)の化合物に一般
式
【0041】
【化11】
【0042】〔式中R4 及びR5 は前記に同じ。R6 は
低級アルキル基を示す。〕で表わされる化合物を反応さ
せるか、一般式(5)の化合物にB2 O3 と無水酢酸及
び/又は酢酸とを反応させることにより製造される。該
反応は、適当な溶媒中で行なわれる。用いられる溶媒と
しては、例えばジエチルエーテル、ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、モノグライム、ジグライム等のエーテル
類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、n−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素
類、シクロヘキサン等の脂環族炭化水素類、無水酢酸等
の無水低級アルカン酸類、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミド、ア
セトニトリル、N−メチルピロリドン等の極性溶媒又は
これらの混合溶媒等を挙げることができる。一般式
(5)の化合物に対する一般式(9)の化合物又はB2
O3 と無水酢酸及び/又は酢酸の使用量としては、通常
少なくとも等モル程度、好ましくは等モル〜10倍モル
程度とするのがよい。該反応は、通常室温〜200℃程
度、好ましくは室温〜150℃付近にて好適に進行し、
一般に10分〜5時間程度にて該反応は完結する。
低級アルキル基を示す。〕で表わされる化合物を反応さ
せるか、一般式(5)の化合物にB2 O3 と無水酢酸及
び/又は酢酸とを反応させることにより製造される。該
反応は、適当な溶媒中で行なわれる。用いられる溶媒と
しては、例えばジエチルエーテル、ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、モノグライム、ジグライム等のエーテル
類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、n−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素
類、シクロヘキサン等の脂環族炭化水素類、無水酢酸等
の無水低級アルカン酸類、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミド、ア
セトニトリル、N−メチルピロリドン等の極性溶媒又は
これらの混合溶媒等を挙げることができる。一般式
(5)の化合物に対する一般式(9)の化合物又はB2
O3 と無水酢酸及び/又は酢酸の使用量としては、通常
少なくとも等モル程度、好ましくは等モル〜10倍モル
程度とするのがよい。該反応は、通常室温〜200℃程
度、好ましくは室温〜150℃付近にて好適に進行し、
一般に10分〜5時間程度にて該反応は完結する。
【0043】一般式(7)の化合物と一般式(6)の化
合物との反応は、不活性溶媒中で行なわれる。用いられ
る溶媒としては、具体的には水、メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール、ブタノール、アミルアルコー
ル、イソアミルアルコール等のアルコール類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジオキ
サン、ジグライム等のエーテル類、ジメチルスルホキシ
ド、ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルリン酸トリア
ミド等を挙げることができる。これらのうち、ジメチル
スルホキシド、ジメチルホルムアミド及びヘキサメチル
リン酸トリアミドが好ましい。一般式(7)の化合物と
一般式(6)の化合物との使用割合としては、特に限定
されず広い範囲内で適宜選択すればよいが、通常前者に
対して後者を等モル量以上、好ましくは等モル〜6倍モ
ル量程度用いるのがよい。該反応は、脱酸剤の存在下に
行なってもよい。斯かる脱酸剤としては、具体的には炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸
水素ナトリウム等の無機炭酸塩類、ピリジン、キノリ
ン、N−メチルピロリドン、トリエチルアミン等の第3
級アミン類等を例示できる。該反応は、通常1〜20気
圧、好ましくは1〜10気圧の圧力下、通常100〜2
50℃、好ましくは120〜200℃にて行なわれ、一
般に5〜20時間程度で終了する。斯くして一般式
(8)の化合物が製造される。
合物との反応は、不活性溶媒中で行なわれる。用いられ
る溶媒としては、具体的には水、メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール、ブタノール、アミルアルコー
ル、イソアミルアルコール等のアルコール類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジオキ
サン、ジグライム等のエーテル類、ジメチルスルホキシ
ド、ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルリン酸トリア
ミド等を挙げることができる。これらのうち、ジメチル
スルホキシド、ジメチルホルムアミド及びヘキサメチル
リン酸トリアミドが好ましい。一般式(7)の化合物と
一般式(6)の化合物との使用割合としては、特に限定
されず広い範囲内で適宜選択すればよいが、通常前者に
対して後者を等モル量以上、好ましくは等モル〜6倍モ
ル量程度用いるのがよい。該反応は、脱酸剤の存在下に
行なってもよい。斯かる脱酸剤としては、具体的には炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸
水素ナトリウム等の無機炭酸塩類、ピリジン、キノリ
ン、N−メチルピロリドン、トリエチルアミン等の第3
級アミン類等を例示できる。該反応は、通常1〜20気
圧、好ましくは1〜10気圧の圧力下、通常100〜2
50℃、好ましくは120〜200℃にて行なわれ、一
般に5〜20時間程度で終了する。斯くして一般式
(8)の化合物が製造される。
【0044】一般式(8)の化合物の加水分解は、常法
に従い、適当な溶媒中酸又は塩基性化合物の存在下に行
なわれる。溶媒としては、不活性溶媒である限り特に限
定がなく、例えば水、メタノール、エタノール、イソプ
ロパノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチル
ケトン等のケトン類、ジオキサン、エチレングリコール
ジエチルエーテル等のエーテル類、アセトニトリル等や
これらの混合溶媒等を使用することができる。また、酸
としては、例えば塩酸、硫酸、臭化水素酸等の鉱酸、酢
酸、芳香族スルホン酸等の有機酸等を、塩基性化合物と
しては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭
酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機アルカリ化
合物等をそれぞれ使用することができる。該加水分解
は、通常室温〜200℃、好ましくは室温〜150℃程
度で好適に進行し、一般に0.1〜30時間程度で終了
する。
に従い、適当な溶媒中酸又は塩基性化合物の存在下に行
なわれる。溶媒としては、不活性溶媒である限り特に限
定がなく、例えば水、メタノール、エタノール、イソプ
ロパノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチル
ケトン等のケトン類、ジオキサン、エチレングリコール
ジエチルエーテル等のエーテル類、アセトニトリル等や
これらの混合溶媒等を使用することができる。また、酸
としては、例えば塩酸、硫酸、臭化水素酸等の鉱酸、酢
酸、芳香族スルホン酸等の有機酸等を、塩基性化合物と
しては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭
酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機アルカリ化
合物等をそれぞれ使用することができる。該加水分解
は、通常室温〜200℃、好ましくは室温〜150℃程
度で好適に進行し、一般に0.1〜30時間程度で終了
する。
【0045】上記各反応で得られた化合物は、通常の分
離手段、例えば蒸留法、再結晶法、カラムクロマトグラ
フィー、プレパラティブ薄層クロマトグラフィー、溶媒
抽出法等により反応系より容易に単離精製され得る。
離手段、例えば蒸留法、再結晶法、カラムクロマトグラ
フィー、プレパラティブ薄層クロマトグラフィー、溶媒
抽出法等により反応系より容易に単離精製され得る。
【0046】
【発明の効果】従来、優れた抗菌剤として有用な光学活
性な上記一般式(3)で表わされるベンゾ〔ij〕キノ
リジン−2−カルボン酸誘導体〔(−)体〕を得る方法
としては、本発明の方法により得られる上記一般式
(2)で表わされるテトラヒドロキノリン誘導体のラセ
ミ体を光学分割し、分別晶出を行なう方法が採用されて
きた(特開昭63−192753号公報参照)。本発明
は、上記従来の方法で不要物として単離される〔(+)
体〕を収率、品質共に良好に回収し、反復使用を可能な
らしめたものであり、その工業的意義は極めて大きい。
性な上記一般式(3)で表わされるベンゾ〔ij〕キノ
リジン−2−カルボン酸誘導体〔(−)体〕を得る方法
としては、本発明の方法により得られる上記一般式
(2)で表わされるテトラヒドロキノリン誘導体のラセ
ミ体を光学分割し、分別晶出を行なう方法が採用されて
きた(特開昭63−192753号公報参照)。本発明
は、上記従来の方法で不要物として単離される〔(+)
体〕を収率、品質共に良好に回収し、反復使用を可能な
らしめたものであり、その工業的意義は極めて大きい。
【0047】
【実施例】以下に実施例及び参考例を掲げて本発明をよ
り一層明らかにする。
り一層明らかにする。
【0048】実施例1 (+)−5,6−ジフルオロ−1,2,3,4−テトラ
ヒドロキナルジン(64%e.e.)100g(0.5
46モル)及びメタンスルホン酸7.08ml(0.1
09モル)を無溶媒下、120℃で7時間加熱すると、
完全にラセミ化した。反応混合物を酢酸エチルで希釈し
た後、飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食塩水で順次洗
浄し、次に減圧留去して、(±)−5,6−ジフルオロ
−1,2,3,4−テトラヒドロキナルジン99.2g
を得た。
ヒドロキナルジン(64%e.e.)100g(0.5
46モル)及びメタンスルホン酸7.08ml(0.1
09モル)を無溶媒下、120℃で7時間加熱すると、
完全にラセミ化した。反応混合物を酢酸エチルで希釈し
た後、飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食塩水で順次洗
浄し、次に減圧留去して、(±)−5,6−ジフルオロ
−1,2,3,4−テトラヒドロキナルジン99.2g
を得た。
【0049】収率:99.2%、純度98.0% 〔α〕D 21=±0°(メタノール、c=1.0)1 H−NMR(200MHz、CDCl3 )δppm;
6.61−6.86,6.03−6.21(2H,
m)、3.65(1H,brs)、3.26(1H,
m)、2.83,2.61(各1H,m)、1.92,
1.47(各1H,m)、1.16(3H,d,J=
6.4Hz)。
6.61−6.86,6.03−6.21(2H,
m)、3.65(1H,brs)、3.26(1H,
m)、2.83,2.61(各1H,m)、1.92,
1.47(各1H,m)、1.16(3H,d,J=
6.4Hz)。
【0050】実施例2 (+)−5,6−ジフルオロ−1,2,3,4−テトラ
ヒドロキナルジン(54.3% e.e.)11.1g
に無溶媒でp−トルエンスルホン酸・1水和物500m
g(0.043M)を加えてアルゴン気流下、160℃
で3時間加熱攪拌した。反応混合物を酢酸エチルで希釈
後、飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食塩水で順次洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して粗
(±)−5,6−ジフルオロ−1,2,3,4−テトラ
ヒドロキナルジンを得た。更に粗(±)−5,6−ジフ
ルオロ−1,2,3,4−テトラヒドロキナルジンを減
圧蒸留して(±)−5,6−ジフルオロ−1,2,3,
4−テトラヒドロキナルジン9.7gを得た。
ヒドロキナルジン(54.3% e.e.)11.1g
に無溶媒でp−トルエンスルホン酸・1水和物500m
g(0.043M)を加えてアルゴン気流下、160℃
で3時間加熱攪拌した。反応混合物を酢酸エチルで希釈
後、飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食塩水で順次洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して粗
(±)−5,6−ジフルオロ−1,2,3,4−テトラ
ヒドロキナルジンを得た。更に粗(±)−5,6−ジフ
ルオロ−1,2,3,4−テトラヒドロキナルジンを減
圧蒸留して(±)−5,6−ジフルオロ−1,2,3,
4−テトラヒドロキナルジン9.7gを得た。
【0051】収率:87.4%、光学純度:0%e.
e. 融点:29℃ 沸点:84〜93℃/0.15mmHg NMR(CDCl3 )δppm;1.20(3H,d,
J=6.3Hz)、1.40〜1.61(1H,m)、
1.86〜2.05(1H,m)、2.53〜2.74
(1H,m)、2.74〜2.94(1H,m)、3.
22〜3.39(1H,m)、3.65(1H,b
s)、6.06〜6.19(1H,m)、6.75(1
H,q,J=9.5Hz)。
e. 融点:29℃ 沸点:84〜93℃/0.15mmHg NMR(CDCl3 )δppm;1.20(3H,d,
J=6.3Hz)、1.40〜1.61(1H,m)、
1.86〜2.05(1H,m)、2.53〜2.74
(1H,m)、2.74〜2.94(1H,m)、3.
22〜3.39(1H,m)、3.65(1H,b
s)、6.06〜6.19(1H,m)、6.75(1
H,q,J=9.5Hz)。
【0052】実施例3 (−)−5,6−ジフルオロ−1,2,3,4−テトラ
ヒドロキナルジンを用い、上記実施例2と同様にして
(±)−5,6−ジフルオロ−1,2,3,4−テトラ
ヒドロキナルジンを得た。
ヒドロキナルジンを用い、上記実施例2と同様にして
(±)−5,6−ジフルオロ−1,2,3,4−テトラ
ヒドロキナルジンを得た。
【0053】融点:29℃ 参考例1 (−)−ジ−O−ベンゾイル酒石酸4.93gを酢酸エ
チル14.8mlに溶解し、これに(±)−5,6−ジ
フルオロ−1,2,3,4−テトラヒドロキナルジン
4.58gを加え、室温で1時間攪拌した。析出晶を濾
取し、60%メタノールより再結晶して、(−)−ジ−
O−ベンゾイル酒石酸−(−)−5,6−ジフルオロ−
1,2,3,4−テトラヒドロキナルジン5.28gを
得た。
チル14.8mlに溶解し、これに(±)−5,6−ジ
フルオロ−1,2,3,4−テトラヒドロキナルジン
4.58gを加え、室温で1時間攪拌した。析出晶を濾
取し、60%メタノールより再結晶して、(−)−ジ−
O−ベンゾイル酒石酸−(−)−5,6−ジフルオロ−
1,2,3,4−テトラヒドロキナルジン5.28gを
得た。
【0054】光学純度100%e.e. 比施光度:〔α〕D 20=−104°(メタノール、c=
1.0) 融点:172〜176℃ NMR(DMSO−d6 )δppm;1.10(3H,
d,J=6.3Hz)、1.20〜1.45(1H,
m)、1.78〜1.93(1H,m)、2.45〜
2.80(2H,m)、3.10〜3.30(1H,
m)、5.88(2H,s)、6.17〜6.28(1
H,m)、6.70〜6.95(1H,m)、7.51
〜7.80(6H,m)、7.96〜8.10(4H,
m)。
1.0) 融点:172〜176℃ NMR(DMSO−d6 )δppm;1.10(3H,
d,J=6.3Hz)、1.20〜1.45(1H,
m)、1.78〜1.93(1H,m)、2.45〜
2.80(2H,m)、3.10〜3.30(1H,
m)、5.88(2H,s)、6.17〜6.28(1
H,m)、6.70〜6.95(1H,m)、7.51
〜7.80(6H,m)、7.96〜8.10(4H,
m)。
【0055】参考例2 (−)−ジ−O−ベンゾイル酒石酸−(−)−5,6−
ジフルオロ−1,2,3,4−テトラヒドロキナルジン
33.50gを塩化メチレン335mlに懸濁し、1.
5%水酸化ナトリウム水で洗浄した。有機層を芒硝乾燥
後、濾過、濃縮した。残渣オイルにエトキシメチレンマ
ロン酸ジエチルエステル20.11gを加え、130℃
で3時間反応した。ポリリン酸31.36gを130℃
に加熱攪拌し、これに上記で得られた反応混合物を滴下
後、1時間同温度で反応した。反応混合物にエタノール
170ml、濃塩酸11.3ml及び水113mlを加
え、2時間還流後、冷却した。更に水220mlを加え
て攪拌後、析出晶を濾取、水洗し、(−)−8,9−ジ
フルオロ−5−メチル−6,7−ジヒドロ−1−オキソ
−1H,5H−ベンゾ〔ij〕キノリジン−2−カルボ
ン酸15.28gを得た。この化合物は、更に精製する
ことなく、次の反応(参考例3)に供した。
ジフルオロ−1,2,3,4−テトラヒドロキナルジン
33.50gを塩化メチレン335mlに懸濁し、1.
5%水酸化ナトリウム水で洗浄した。有機層を芒硝乾燥
後、濾過、濃縮した。残渣オイルにエトキシメチレンマ
ロン酸ジエチルエステル20.11gを加え、130℃
で3時間反応した。ポリリン酸31.36gを130℃
に加熱攪拌し、これに上記で得られた反応混合物を滴下
後、1時間同温度で反応した。反応混合物にエタノール
170ml、濃塩酸11.3ml及び水113mlを加
え、2時間還流後、冷却した。更に水220mlを加え
て攪拌後、析出晶を濾取、水洗し、(−)−8,9−ジ
フルオロ−5−メチル−6,7−ジヒドロ−1−オキソ
−1H,5H−ベンゾ〔ij〕キノリジン−2−カルボ
ン酸15.28gを得た。この化合物は、更に精製する
ことなく、次の反応(参考例3)に供した。
【0056】該化合物をジメチルホルムアミドより再結
晶を繰り返して、精製品を得た。その物性は、以下の通
りである。
晶を繰り返して、精製品を得た。その物性は、以下の通
りである。
【0057】融点:283℃ 比施光度:〔α〕D 20=−52.3°(メタノール、c
=1.0) NMR(DMSO−d6 )δppm;1.41(3H,
d,J=6.8Hz)、2.05〜2.33(2H,
m)、2.85〜3.25(2H,m)、4.90〜
5.07(1H,m)、8.02〜8.17(1H,
m)、9.07(1H,s)、14.94(1H,b
s)。
=1.0) NMR(DMSO−d6 )δppm;1.41(3H,
d,J=6.8Hz)、2.05〜2.33(2H,
m)、2.85〜3.25(2H,m)、4.90〜
5.07(1H,m)、8.02〜8.17(1H,
m)、9.07(1H,s)、14.94(1H,b
s)。
【0058】参考例3 酢酸9.1ml、無水酢酸20ml及び無水硼酸2.0
2gを2時間還流した。得られた溶液に上記参考例3で
得られた(−)−8,9−ジフルオロ−5−メチル−
6,7−ジヒドロ−1−オキソ−1H,5H−ベンゾ
〔ij〕キノリジン−2−カルボン酸14.75gを加
えて1時間還流後、更にトルエン221mlを加えた。
反応液を冷却し、析出晶を濾取、乾燥して、(−)−
(O−B)−ジアセトキシ−(8,9−ジフルオロ−
6,7−ジヒドロ−5−メチル−1−オキソ−1H,5
H−ベンゾ〔ij〕キノリジン−2−カルボニルオキシ
ボランを得た。この化合物は、更に精製することなく、
次の反応(参考例4)に供した。
2gを2時間還流した。得られた溶液に上記参考例3で
得られた(−)−8,9−ジフルオロ−5−メチル−
6,7−ジヒドロ−1−オキソ−1H,5H−ベンゾ
〔ij〕キノリジン−2−カルボン酸14.75gを加
えて1時間還流後、更にトルエン221mlを加えた。
反応液を冷却し、析出晶を濾取、乾燥して、(−)−
(O−B)−ジアセトキシ−(8,9−ジフルオロ−
6,7−ジヒドロ−5−メチル−1−オキソ−1H,5
H−ベンゾ〔ij〕キノリジン−2−カルボニルオキシ
ボランを得た。この化合物は、更に精製することなく、
次の反応(参考例4)に供した。
【0059】NMR(CDCl3 )δppm;1.62
(3H,d,J=6.9Hz)、1.97(3H,
s)、2.06(3H,s)、2.25〜2.43(2
H,m)、2.95〜3.45(2H,m)、5.05
〜5.21(1H,m)、8.21(1H,t,J=
8.8Hz)、9.32(1H,s)。
(3H,d,J=6.9Hz)、1.97(3H,
s)、2.06(3H,s)、2.25〜2.43(2
H,m)、2.95〜3.45(2H,m)、5.05
〜5.21(1H,m)、8.21(1H,t,J=
8.8Hz)、9.32(1H,s)。
【0060】参考例4 上記参考例3で得られた(−)−8,9−ジフルオロ−
5−メチル−6,7−ジヒドロ−1−オキソ−1H,5
H−ベンゾ〔ij〕キノリジン−2−カルボン酸のキレ
ート体1976g、4−ヒドロキシピペリジン1473
g及びアセトニトリル9.9lを50〜60℃で4時間
攪拌後、反応混合物を濃縮した。残渣に水29.6lを
加え、攪拌後、析出晶を濾取した。結晶に25%水酸化
ナトリウム水2.53l、アセトニトリル7.9l及び
水15.8lを加え、室温で攪拌した。反応混合液が均
一溶液となったら、濃塩酸2.0lを加えて攪拌し、析
出晶を濾取した。得られた結晶を50%エタノールより
再結晶して、(−)−8−(4−ヒドロキシピペリジニ
ル)−9−フルオロ−5−メチル−6,7−ジヒドロ−
1−オキソ−1H,5H−ベンゾ〔ij〕キノリジン−
2−カルボン酸1286gを得た。
5−メチル−6,7−ジヒドロ−1−オキソ−1H,5
H−ベンゾ〔ij〕キノリジン−2−カルボン酸のキレ
ート体1976g、4−ヒドロキシピペリジン1473
g及びアセトニトリル9.9lを50〜60℃で4時間
攪拌後、反応混合物を濃縮した。残渣に水29.6lを
加え、攪拌後、析出晶を濾取した。結晶に25%水酸化
ナトリウム水2.53l、アセトニトリル7.9l及び
水15.8lを加え、室温で攪拌した。反応混合液が均
一溶液となったら、濃塩酸2.0lを加えて攪拌し、析
出晶を濾取した。得られた結晶を50%エタノールより
再結晶して、(−)−8−(4−ヒドロキシピペリジニ
ル)−9−フルオロ−5−メチル−6,7−ジヒドロ−
1−オキソ−1H,5H−ベンゾ〔ij〕キノリジン−
2−カルボン酸1286gを得た。
【0061】融点:262℃ 比施光度:〔α〕D 20=−314°(メタノール、c=
1.0) NMR(CDCl3 )δppm;1.54(3H,d,
J=6.8Hz)、1.57〜1.88(3H,m)、
1.88〜2.15(3H,m)、2.15〜2.26
(2H,m)、2.75〜2.98(1H,m)、2.
98〜3.17(1H,m)、3.17〜3.40(3
H,m)、3.81〜4.03(1H,m)、4.47
〜4.64(1H,m)、7.98(1H,d,J=1
2.2Hz)、8.70(1H,s)、15.10(1
H,bs)。
1.0) NMR(CDCl3 )δppm;1.54(3H,d,
J=6.8Hz)、1.57〜1.88(3H,m)、
1.88〜2.15(3H,m)、2.15〜2.26
(2H,m)、2.75〜2.98(1H,m)、2.
98〜3.17(1H,m)、3.17〜3.40(3
H,m)、3.81〜4.03(1H,m)、4.47
〜4.64(1H,m)、7.98(1H,d,J=1
2.2Hz)、8.70(1H,s)、15.10(1
H,bs)。
【0062】参考例5 (−)−ジ−O−ベンゾイル−L−酒石酸・水和物5
6.5gを酢酸エチル100mlに溶解し、(±)−
5,6−ジフルオロ−2−メチル−1,2,3,4−テ
トラヒドロキノリン50.0gを加えた後、室温で1時
間攪拌した。析出晶を濾取し、酢酸エチル20mlで洗
浄して、(−)−ジ−O−ベンゾイル酒石酸−(−)−
5,6−ジフルオロ−1,2,3,4−テトラヒドロキ
ナルジンの結晶71.7gを得た。
6.5gを酢酸エチル100mlに溶解し、(±)−
5,6−ジフルオロ−2−メチル−1,2,3,4−テ
トラヒドロキノリン50.0gを加えた後、室温で1時
間攪拌した。析出晶を濾取し、酢酸エチル20mlで洗
浄して、(−)−ジ−O−ベンゾイル酒石酸−(−)−
5,6−ジフルオロ−1,2,3,4−テトラヒドロキ
ナルジンの結晶71.7gを得た。
【0063】収率:48.5%、光学純度:55.6%
e.e. 上記(−)−ジ−O−ベンゾイル−L−酒石酸・水和物
の代りに(−)−ジ−O−ベンゾイル−L−酒石酸・無
水和物53.8gを用いた場合も同様の結果が得られ
た。
e.e. 上記(−)−ジ−O−ベンゾイル−L−酒石酸・水和物
の代りに(−)−ジ−O−ベンゾイル−L−酒石酸・無
水和物53.8gを用いた場合も同様の結果が得られ
た。
【0064】上記で得られた(−)−ジ−O−ベンゾイ
ル酒石酸−(−)−5,6−ジフルオロ−1,2,3,
4−テトラヒドロキナルジンの結晶68.6gを60%
メタノール水溶液(13.5倍量)で2回再結晶して結
晶49.9gを得た(収率:72.8%、光学純度:1
00%e.e.)。該結晶42.0gを1.5%水酸化
ナトリウム水溶液500mlに懸濁し、酢酸エチル50
0mlで抽出した。酢酸エチル層を1.5%水酸化ナト
リウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、減圧留去して(−)−5,6−ジフルオ
ロ−2−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリ
ン14.1gを得た。
ル酒石酸−(−)−5,6−ジフルオロ−1,2,3,
4−テトラヒドロキナルジンの結晶68.6gを60%
メタノール水溶液(13.5倍量)で2回再結晶して結
晶49.9gを得た(収率:72.8%、光学純度:1
00%e.e.)。該結晶42.0gを1.5%水酸化
ナトリウム水溶液500mlに懸濁し、酢酸エチル50
0mlで抽出した。酢酸エチル層を1.5%水酸化ナト
リウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、減圧留去して(−)−5,6−ジフルオ
ロ−2−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリ
ン14.1gを得た。
【0065】収率:99.2% 比施光度:〔α〕D 20=−62.0°(メタノール、c
=1.0)。
=1.0)。
【0066】参考例6 上記参考例5における酢酸エチル中で晶析させた後の母
液を酢酸エチルで希釈後、1.5%水酸化ナトリウム水
溶液で2回洗浄し、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、減圧留去して(+)−5,6−ジフルオ
ロ−2−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリ
ン24.1gを得た。
液を酢酸エチルで希釈後、1.5%水酸化ナトリウム水
溶液で2回洗浄し、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、減圧留去して(+)−5,6−ジフルオ
ロ−2−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリ
ン24.1gを得た。
【0067】収率:48.2%、光学純度:54.3%
e.e. 比施光度:〔α〕D 21=+28.5°(メタノール、c
=1.0)。
e.e. 比施光度:〔α〕D 21=+28.5°(メタノール、c
=1.0)。
Claims (1)
- 【請求項1】一般式 【化1】 〔式中X1 及びX2 はそれぞれハロゲン原子を示す。R
は低級アルキル基を示す。*は不斉炭素原子を示す。〕
で表わされる光学活性なテトラヒドロキノリン誘導体を
ラセミ化して一般式 【化2】 〔式中X1 、X2 及びRは前記に同じ。〕で表わされる
テトラヒドロキノリン誘導体を得ることを特徴とする光
学活性なテトラヒドロキノリン誘導体のラセミ化方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15061692A JPH05339238A (ja) | 1992-06-10 | 1992-06-10 | テトラヒドロキノリン誘導体のラセミ化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15061692A JPH05339238A (ja) | 1992-06-10 | 1992-06-10 | テトラヒドロキノリン誘導体のラセミ化方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05339238A true JPH05339238A (ja) | 1993-12-21 |
Family
ID=15500771
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15061692A Pending JPH05339238A (ja) | 1992-06-10 | 1992-06-10 | テトラヒドロキノリン誘導体のラセミ化方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05339238A (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000068229A3 (en) * | 1999-05-07 | 2001-03-22 | M V Patel | (s)-benzoquinolizine carboxylic acids and their use as antibacterial agents |
US6514986B2 (en) | 2000-11-22 | 2003-02-04 | Wockhardt Limited | Chiral fluoroquinolone arginine salt forms |
US6608078B2 (en) | 2000-05-08 | 2003-08-19 | Wockhardt Limited | Antibacterial chiral 8-(substituted piperidino)-benzo [i,j] quinolizines, processes, compositions and methods of treatment |
US6664267B1 (en) | 2002-05-28 | 2003-12-16 | Wockhardt Limited | Crystalline fluoroquinolone arginine salt form |
US6878713B2 (en) | 2001-04-25 | 2005-04-12 | Wockhardt Limited | Generation triple-targeting, chiral, broad-spectrum antimicrobial 7-substituted piperidino-quinolone carboxylic acid derivatives, their preparation, compositions and use as medicaments |
US6964966B2 (en) | 2001-04-25 | 2005-11-15 | Wockhardt Limited | Generation triple-targeting, chiral, broad-spectrum antimicrobial 7-substituted piperidino-quinolone carboxylic acid derivatives, their preparation, compositions and use as medicaments |
US7098219B2 (en) | 2000-08-01 | 2006-08-29 | Wockhart Limited | Inhibitors of cellular efflux pumps of microbes |
US7164023B2 (en) | 2003-09-04 | 2007-01-16 | Wockhardt Limited | Benzoquinolizine-2-carboxylic acid arginine salt tetrahydrate |
EP1918289A2 (en) | 2002-05-28 | 2008-05-07 | Wockhardt Limited | Crystalline fluoroquinolone arginine salt form |
-
1992
- 1992-06-10 JP JP15061692A patent/JPH05339238A/ja active Pending
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7247642B2 (en) | 1999-05-07 | 2007-07-24 | Wockhardt Limited | Antibacterial optically pure benzoquinolizine carboxylic acids, processes, compositions and methods of treatment |
WO2000068229A3 (en) * | 1999-05-07 | 2001-03-22 | M V Patel | (s)-benzoquinolizine carboxylic acids and their use as antibacterial agents |
US6753333B2 (en) | 1999-12-14 | 2004-06-22 | Wockhardt Limited | Chiral fluoroquinolone arginine salt forms |
US6608078B2 (en) | 2000-05-08 | 2003-08-19 | Wockhardt Limited | Antibacterial chiral 8-(substituted piperidino)-benzo [i,j] quinolizines, processes, compositions and methods of treatment |
US7098219B2 (en) | 2000-08-01 | 2006-08-29 | Wockhart Limited | Inhibitors of cellular efflux pumps of microbes |
US6514986B2 (en) | 2000-11-22 | 2003-02-04 | Wockhardt Limited | Chiral fluoroquinolone arginine salt forms |
US6878713B2 (en) | 2001-04-25 | 2005-04-12 | Wockhardt Limited | Generation triple-targeting, chiral, broad-spectrum antimicrobial 7-substituted piperidino-quinolone carboxylic acid derivatives, their preparation, compositions and use as medicaments |
US6964966B2 (en) | 2001-04-25 | 2005-11-15 | Wockhardt Limited | Generation triple-targeting, chiral, broad-spectrum antimicrobial 7-substituted piperidino-quinolone carboxylic acid derivatives, their preparation, compositions and use as medicaments |
US7626032B2 (en) | 2001-04-25 | 2009-12-01 | Wockhardt Limited | Generation triple-targeting, chiral, broad-spectrum antimicrobial 7-substituted piperidino-quinolone carboxylic acid derivatives, their preparation, compositions and use as medicaments |
US7393957B2 (en) | 2001-04-25 | 2008-07-01 | Wockhardt Limited | Generation triple-targeting, chiral, broad-spectrum antimicrobial 7-substituted piperidino-quinolone carboxylic acid derivatives, their preparation, compositions and use as medicaments |
US6664267B1 (en) | 2002-05-28 | 2003-12-16 | Wockhardt Limited | Crystalline fluoroquinolone arginine salt form |
EP1918289A2 (en) | 2002-05-28 | 2008-05-07 | Wockhardt Limited | Crystalline fluoroquinolone arginine salt form |
US7132541B2 (en) | 2002-05-28 | 2006-11-07 | Wockhardt Limited | Crystalline fluoroquinolone arginine salt form |
US7164023B2 (en) | 2003-09-04 | 2007-01-16 | Wockhardt Limited | Benzoquinolizine-2-carboxylic acid arginine salt tetrahydrate |
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