JPH05333325A - 液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ロットナンバーは、液晶パネルの角部に設け
られ、面積の制約から必要なデータを十分書き込むこと
ができなかった。本発明は、この制約を解決し、しかも
このロットナンバーの誤読み取りを防止するものであ
る。 【構成】 端子（３２）や（３３）が形成されているガ
ラス面の裏側に、非透過性の膜（３４）を設け、この膜
にレーザーでバーコードを書き込む。この際、端子はレ
ーザー光を吸収し断線したり、また端子自身をバーコー
ドとして誤認識するため、コードを作る溝の深さは前記
膜の厚さの１／２程度にする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示装置に関し、
特に製品管理の必要性から生じるロットナンバーを含め
た構成およびその製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の説明】一般にドットマトリックスＬＣＤには、
単純マトリックスとアクティブマトリックスの２方式が
良く知られている。これらのものは、一般に、一方の透
明な絶縁性基板と他方の絶縁性基板に必要な構成要件、
例えば単純マトリックスの場合はアドレス線、データ線
および配向膜、アクティブマトリックスの場合はアドレ
ス線、データー線、スイッチング素子、表示電極、対向
電極および配向膜等が形成され、スペーサを介して前記
一対のガラス基板が一定の間隔で配置される。もちろん
周囲が接着剤等でシールされ、中には液晶が注入されて
いる。

【０００３】ここで図３は、ＴＦＴを用いたアクティブ
マトリックスＬＣＤであり、実線で示された大きいサイ
ズの４角形が、ＴＦＴ、ゲートライン、ドレインライ
ン、表示電極および配向膜等が形成されたＴＦＴ基板
（１０）である。また破線で示した小さいサイズの４角
形が、遮光膜、対向電極および配向膜等が設けられた対
向基板（１１）である。また紙面の上および下の側辺に
横方向に設けられた端子群（１２）・・・がドレイン端
子群であり、紙面の右および左の側辺に縦方向に設けら
れた端子群（１３）・・・が、ゲート端子群である。

【０００４】更には、左上の角部（コーナー）に、製品
の管理のために設けられたロットナンバー（１４）が設
けられていた。このロットナンバーは、Ｔ０１２と書い
たものであり、紙面に対して裏側から形成しているので
書かれている文字が逆になっている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】前述の構成において、
ロットナンバー（１４）は、ゲート端子（１３）および
ドレイン端子（１２）が形成されていない狭い面積の角
部（１５）に設けられていたため、文字、数字およびコ
ードのサイズが限定され、読み取りが困難である問題が
あった。

【０００６】そのため、自動化を試みても、読み取りが
困難であるために、コストの上昇を招く問題があった。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は前述の課題に鑑
みて成され、第１に端子群の裏面に、非透過性の膜を設
け、この膜にレーザーを照射して書き込んだ文字、数字
または／コードを設けることで解決するものである。第
２に、前記構成において、前記膜の表面から裏面までを
蒸発させるような出力を使用せず、レーザー光を照射し
ても絶縁性基板面が露出しない程度の出力で溝を形成
し、この溝で形成された文字、数字または／コードを設
けることで解決するものである。第３に、液晶パネルを
形成する工程または別の工程で、端子の設けられた絶縁
性基板の裏面に、非透過性の膜を形成し、この膜から表
面の端子にレーザーが到達しない出力で、ロットナンバ
ーを書きこむことで解決するものである。

【０００８】

【作用】第１に、端子が形成されている透明な絶縁性基
板の裏面には、何も形成されていない。しかしこの裏面
に直接レーザーを使って、例えばバーコードを形成する
と、前記絶縁性基板は透明であるために、レーザー光は
透過して端子に吸収され、端子を断線させてしまう問題
があった。またバーコードは端子の縦方向と同じ方向に
配列されるため、レーザーの読み取り装置は、端子もバ
ーコードとして読み取る恐れが判った。そのためバーコ
ードを形成する領域に、端子に書き込みレーザーの光が
到達しないように非透過性の膜を設け、端子の断線およ
びバーコードの誤読み取りを防止した。

【０００９】第２に、前述した非透過性の膜にレーザー
照射をして、ロットナンバーを書き込む際、レーザー出
力によっては、前記非透過性の膜を貫通する恐れがあ
り、やはり端子の誤読み取りが発生することが判った。
そのため、前記レーザー照射により形成される溝は、絶
縁性基板が露出しない深さにすることで、端子は、この
膜に隠れるため、この誤読み取りを防止できる。

【００１０】第３に、端子群の形成された絶縁性基板の
裏面に、パネルの製造工程または別の工程で、非透過性
の膜を形成した後で、端子群にレーザー光が照射しない
ようにレーザー光の出力を調整してバーコードを書き込
むと、レーザ光は、端子に吸収されず、端子の断線を防
止できる。

【００１１】

【実施例】本発明は、単純マトリックスまたはアクティ
ブマトリックスに於て、端子が少なくとも一方の透明の
絶縁性基板に形成されている場合に有効である。具体的
な構造は、アクティブマトリックスを採用した例を後述
する。まず単純マトリックスの場合、実線で示された一
方のガラス基板（３０）には、複数本平行に配置された
アドレスラインまたはデーターラインが設けられ、点線
で示された他方のガラス基板（３１）には、このライン
と直行する方向にデーターラインまたはアドレスライン
が複数本平行に設けられている。

【００１２】また端子群（３２）・・・は、一方のガラ
ス基板（３０）に設けられたラインと電気的に接続さ
れ、このガラス基板（３０）に直接形成されている。ま
た端子群（３３）・・・は、ガラス基板（３０）に直接
形成され、前記他方の基板（３１）に形成されたライン
と異方性導電性樹脂等を介して電気的に接続されてい
る。また２つのガラス基板の表面には、配向膜が設けら
れ、スペーサを介してこの一対のガラス基板が所定の間
隔に配置され、中に液晶が注入されている。したがっ
て、一方のガラス基板（３０）の周辺には、アドレスラ
インと電気的に接続された端子とデータラインと電気的
に接続された端子が設けられる。

【００１３】またアクティブマトリックスの場合、スイ
ッチング素子が２端子のＭＩＭと、３端子のＴＦＴに大
別される。ＭＩＭの場合、一方の基板（３０）には、マ
トリックス状に画素電極が設けられ、この上にＳｉＮ_x
等の絶縁膜を介して列電極が一方向に複数本平行に設け
られている。また他方の基板（３１）には、列電極と直
行し且つ画素電極を覆う幅で複数本平行に設けられた行
電極がある。この場合、列電極のラインが一方の基板
（３０）に、行電極のラインが他方の基板（３１）に設
けられている。この２つのラインに接続される２種類の
端子群は、一方の基板（３０）に形成される。従って単
純マトリックス構造のコンタクト方法と同じである。

【００１４】一方、ＴＦＴの場合、一方の基板（３０）
にアドレスライン及びデーターラインが形成され、この
交差部にＴＦＴが設けられ、このＴＦＴとコンタクトし
た表示電極が設けられている。また他方の基板（３１）
には、遮光膜、対向電極が設けられ、両表面には、配向
膜が設けられている。従って一方の基板（３０）にアド
レス端子およびゲート端子が設けられている。

【００１５】以上、いずれの液晶表示装置においても、
サイズの大きいガラス基板に、２種類の端子群（３２）
・・・、（３３）・・・が設けられている。ここで端子
の設けられている面を表面と仮定し、端子が設けられて
いない面を裏面とする。図１の実線の４角形は、このサ
イズの大きいガラス基板の裏面を示し、実線で示されて
いる端子群（３２）・・・、（３３）・・・は、ガラス
基板（３０）表面に形成されたこの端子の底面である。
このガラス基板と対向してもう１つのサイズの小さいガ
ラス基板（３１）が、紙面の裏方向から点線のように設
けられている。もちろん両者の間には液晶が注入されて
いる。

【００１６】更には、このサイズの大きいガラス基板
（３０）の裏面に、非透過性の膜（３４）が設けられ、
この膜にはレーザー照射により書き込んだ文字、数字ま
たは／およびコードが設けられている。ここではバーコ
ード（３５）でロットナンバーが示されている。本発明
の特徴は、この非透過性の膜（３４）およびロットナン
バーにある。

【００１７】まず第１に、端子群（３２）・・・、（３
３）・・・が形成された、非表示領域は、前述した角部
よりも面積を広く取れ、自動読み取りの際誤差がなく読
み取ることができ、また情報量（文字数やコードの量）
を増やすことができる。第２に、前記非表示領域のガラ
ス基板に直接レーザーで溝を書き込んで形成しすること
で、自動読み取りが可能になることにある。

【００１８】第３に、前記非表示領域のガラス基板に直
接レーザーで溝を書き込んで形成しても良いが、液晶パ
ネルの場合、以下の問題があることが判った。書き込み
に使用されるレーザーは、例えばＹＡＧレーザー等の大
出力のものを使い、また基板がガラス等の透明材料を使
用するために、光はガラスを透過して、端子に吸収され
てしまう。従って端子が断線する問題があることが判っ
た。まの可視光等の反射光を検知して自動読み取りを行
う場合、端子裏面が見えるために誤読み取りが生じるこ
とが判った。

【００１９】そのため、ここではこの問題の解決のため
に、非透過性の膜（３４）を設けた。この膜としては、
レジストやＣｒ等の金属材料であり、レーザ光は、この
膜に吸収されるために前記問題が防止できる。第４に、
この非透過性の膜（３４）を使っても、出力によって
は、この膜をつき抜け、端子にエネルギーが吸収された
り、また膜の蒸発した部分に、端子の側辺が露出したり
すると、やはり誤読み取りを発生する。従ってここでは
出力を調整することにより、膜を完全に蒸発させるので
はなく、この蒸発により生じる溝の底面に基板が露出し
ないように設けることにある。図２は、この部分を示し
たものであり、図１のＡ−Ａ線における断面図である。
非透過性の膜（３４）は、点でハッチングした領域であ
り、バーコードを形成する溝の深さは、破線で示したよ
うに膜（３４）の厚さの約１／２となっている。

【００２０】また、端子群（３２）・・・、（３３）・
・・の形成された絶縁性基板の裏面に、パネルの製造工
程または別の工程で非透過性の膜を形成し、端子群にレ
ーザー光が照射しないようにレーザー光の出力を調整し
てバーコードを書き込むと、レーザ光は、端子に吸収さ
れず、端子の断線を防止できる。次にＴＦＴを用いた液
晶パネルの具体的構造を説明する。

【００２１】まずガラス基板（３０）上には、Ｔａ，Ｍ
ｏ−Ｔａ合金およびＣｒとＦｅが１％入ったＣｕの積層
体等で成るゲート、このゲートと一体のゲートライン、
補助容量電極、この補助容量電極と一体の補助容量ライ
ンが設けられている。更にはゲートパッド（３２）およ
び補助容量パッドもまた上述の構成要素と同一材料で同
時に形成されている。

【００２２】続いて１層以上の絶縁層が設けられる。こ
の絶縁層は、ＳｉＯ₂またはＳｉＮｘが単独で１層以上
設けられたり、ＳｉＯ₂とＳｉＮｘを積層して形成され
ている。この絶縁層上には、ゲートを一構成とするＴＦ
Ｔの活性領域に、ノンドープの非単結晶シリコン膜が設
けられ、更に上層には、ＴＦＴのソースおよびドレイン
に不純物がドープされた非単結晶シリコン膜が設けられ
ている。ここで非単結晶シリコン膜としては、アモルフ
ァスシリコンやポリシリコンが考えられる。またＴＦＴ
は、ゲートライン（３６）とドレインラインの交点の近
傍に形成されている。

【００２３】前記ゲートライン（３６）とドレインライ
ンの囲まれた領域には、ＴＦＴを除いた領域に、ＩＴＯ
等の透明電極材料より成る表示電極が設けられ下層に設
けられた補助容量電極とで補助容量が構成されている。
前記ソース上には、Ａｌ単独、Ｍｏ−Ａｌの積層体等で
成るソース電極が設けられ、前記表示電極と電気的に接
続されている。接続構成としては、このソース電極が表
示電極と重畳したり、表示電極上のパシベーション層に
形成されたコンタクト孔を介して接続しても良いし、更
にはソース電極上に表示電極の一部が重畳しても良い。

【００２４】一方、ドレイン上には、ソース電極と同様
に、Ａｌ単独、Ｍｏ−Ａｌの積層体等で成るドレイン電
極が設けられ、このドレイン電極と一体でドレインライ
ンが、ゲートラインと直交する方向に延在されている。
更には、ドレインパッドもこのドレインラインの形成時
に設けられている。更には、全面にパシベーション層を
介して配向膜が設けられている。

【００２５】以上が第１の絶縁性基板（３０）の構成で
あり、表示領域の外側に、若干の余白が設けられ、この
余白に前述したパッド（３２），（３３）が設けられて
いる。次にガラス基板（３１）上には、遮光膜が設けら
れている。材料としては、Ｃｒ単独やＡｕ−Ｃｒを使用
する。特にＣｒは、安価、優れた基板との密着性および
優れた遮光性を有するので、本実施例において用いてい
る。

【００２６】全面には、パシベーション膜を介して対向
電極および配向膜が順次積層されている。ここではパシ
ベーション膜を省略することができるし、対向電極と遮
光膜の積層順を逆にすることもできる。一方、第１の絶
縁性基板（３０）と第２の絶縁性基板（３１）とは、シ
ール樹脂が塗布され、表示領域にはスペーサが散布さ
れ、前記両基板（３０），（３１）が貼り合わされる。
最後に、注入口より液晶が注入され、両基板（３０），
（３１）の外側には偏光板が設けられ完全する。

【００２７】以上が概略の構成であるが、端子群（３
２）・・・、（３３）・・・の上にＮｉメッキ等を行う
場合、この工程等を共用して、非透過性の膜（３４）を
形成してもよい。

【００２８】

【発明の効果】以上の説明から明らかな通り、第１に、
端子群が形成された、非表示領域は、前述した角部より
も面積を広く取れ、自動読み取りの際に誤差がなく読み
取ることが出来、また情報量（文字数やコードの量）を
増やすことができる。第２に、前記非表示領域のガラス
基板に直接レーザーで溝を書き込んで形成しすること
で、自動書き込みおよび読み取りが可能になり、自動化
に応用できる。

【００２９】第３に、前記非表示領域のガラス基板に直
接レーザーで溝を書き込んで形成しても良いが、非透過
性の膜、レジストやＣｒ等の金属材料を設け、レーザ光
は、この膜に吸収されるために、端子の断線や誤読み取
りを防止できる。第４に、出力を調整することにより、
膜を完全に蒸発させるのではなく、この蒸発により生じ
る溝の底面に基板が露出しないように設けることで、更
に誤読み取りを防止することができる。

【００３０】また、端子群の形成された絶縁性基板の裏
面に、パネルの製造工程または別の工程で、非透過性の
膜を形成した後で、端子群にレーザー光が照射しないよ
うにレーザー光の出力を調整してバーコードを書き込む
と、レーザ光は、端子に吸収されず、端子の断線を防止
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による液晶表示装置の平面図である。

【図２】図１のＡ−Ａ線における断面図である。

【図３】従来の液晶表示装置の断面図である。

【符号の説明】

３０ 一方のガラス基板 ３１ 他方のガラス基板 ３２ 端子 ３３ 端子 ３４ 非透過性の膜 ３５ バーコード

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一対の透明な絶縁性基板に液晶が注入さ
   れ、一方の前記絶縁性基板よりも大きいサイズの他方の
   前記絶縁性基板の周辺に端子群が設けられた液晶表示装
   置に於て、 前記端子群が設けられた前記他方の絶縁性基板の面の裏
   側になる面に非透過性の膜が設けられ、この膜には、製
   品管理のための文字、数字または／およびコードがレー
   ザにより設けられたことを特徴とする液晶表示装置。
2. 【請求項２】 一対の透明な絶縁性基板に液晶が注入さ
   れ、一方の前記絶縁性基板よりも大きいサイズの他方の
   前記絶縁性基板の周辺に端子群が設けられた液晶表示装
   置に於て、 前記端子群が設けられた前記他方の絶縁性基板面の裏側
   になる面に非透過性の膜が設けられ、この膜には、レー
   ザーによる前記他方の絶縁性基板の面が露出されない溝
   によって製品管理のための文字、数字または／およびコ
   ードが設けられたことを特徴とする液晶表示装置。
3. 【請求項３】 単純マトリックスまたはアクティブマト
   リックスが形成されて液晶パネルを用意する工程と、 前記液晶パネルの一構成である端子群が設けられた面が
   裏側になるようにこの液晶パネルを配置する工程と、 前記単純マトリックスまたはアクティブマトリックスを
   形成する工程を共用するかまたは別工程で前記液晶パネ
   ルの裏面に設けられた非透過性の膜に、前記端子群にレ
   ーザー光が到達しない出力で製品の管理のための文字、
   数字または／およびコードを書き込む工程とを少なくと
   も有することを特徴とした液晶表示装置の製造方法。