JPH0533328Y2 - - Google Patents

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JPH0533328Y2
JPH0533328Y2 JP13695788U JP13695788U JPH0533328Y2 JP H0533328 Y2 JPH0533328 Y2 JP H0533328Y2 JP 13695788 U JP13695788 U JP 13695788U JP 13695788 U JP13695788 U JP 13695788U JP H0533328 Y2 JPH0533328 Y2 JP H0533328Y2
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film
gas
rubber
diaphragm
gas shielding
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Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は積層膜に関し、特に、耐久性にすぐれ
た積層膜に関するものである。
〔従来技術およびその問題点〕
従来、気体を透過させることなく膨張収縮する
ようになつているダイアフラムにあつては、円板
状のゴム膜の上面に、樹脂、金属等の耐ガス透過
性を有した材料からなるガス遮蔽膜が一体に接着
された積層膜を使用している。
そして、前記ダイアフラムに圧力が印加した場
合、この圧力に応じて前記ゴム膜と前記ガス遮蔽
膜とが一体に変位し、気体は前記ガス遮蔽膜で遮
蔽されるようになつている。
しかし、従来のダイアフラム等を形成する積層
膜にあつては、前記ガス遮蔽膜は樹脂または金属
から形成されていることから、前記ゴム膜に比べ
て弾性力が小さく、また、このガス遮蔽膜はゴム
膜に直接接着されているので、前記ゴム膜の変位
量をそのまま受けることとなつている。
このため、使用期間が長くなるにつれて前記ガ
ス遮蔽膜にクリープが生じ、さらに、使用を継続
すると、割れ、剥離を生じ、ダイアフラムの耐ガ
ス透過性、耐久性が低下してしまうといつた問題
点を有していた。
この考案は前記のような従来のもののもつ問題
点を解決したものであつて、ガス遮蔽膜にクリー
プが発生するのを防いで、ダイアフラムの耐ガス
透過性の低下を防止し、すぐれた耐久性を有する
積層膜を提供することを目的としている。
〔問題点を解決するための手段〕
この考案は前記のものの問題点を解決するため
に、ゴム膜に、このゴム膜の硬度よりも低硬度の
弾性体からなる保護膜を介在して、耐ガス透過性
を有するガス遮蔽膜を設けた手段を採用したもの
である。
〔作用〕
この考案は前記の手段を採用したことにより、
圧力が印加した際のゴム膜の変位が前記保護膜に
よつてガス遮蔽膜に伝達されることが抑えられ
て、ガス遮蔽膜の変位は前記ゴム膜に比べて小さ
く抑えられることとなる。
〔実施例〕 以下、図面に示す本考案の実施例について説明
する。
第1図には本考案による積層膜をダイアフラム
として使用した場合の第1の実施例が示されてい
る。
すなわち、断面が椀状をなしたゴム膜2の内面
には、このゴム膜2の硬度よりも低硬度の弾性体
からなる保護膜4が配置され、さらに、この保護
膜4の内面には、樹脂、金属等の耐ガス透過性を
有した材料からなるガス遮蔽膜3が配置されてお
り、前記ゴム膜2、前記保護膜4、および前記ガ
ス遮蔽膜3は一体に接着されてダイアフラム1が
形成されている。
そして、前記ダイアフラム1に圧力が印加した
場合、この圧力に応じて前記ゴム膜2、前記保護
膜4、および前記ガス遮蔽膜3が一体に変位し、
気体は前記ガス遮蔽膜3で遮蔽されるようになつ
ている。
また、この時のゴム膜2の変位は保護膜4を介
してガス遮蔽膜3に伝えられることとなつてお
り、このため、前記ゴム膜2の変位が、前記保護
膜4によつて前記ガス遮蔽膜3に伝達されること
が抑えられて、前記ガス遮蔽膜3に変位は前記ゴ
ム膜2に比べて小さく抑えられている。
したがつて、上記のものにあつては、ダイアフ
ラムの変位時のガス遮蔽膜のクリープ発生率が低
いため、ダイアフラムの耐ガス透過性を長期にわ
たつて維持できるとともに、耐久性を向上できる
こととなる。
第2図には本考案による積層膜をダイアフラム
として使用した場合の第2の実施例が示されてい
る。
すなわち、断面が椀状をなしたゴム膜12の内
部には、このゴム膜12の硬度よりも低硬度の弾
性体からなる保護膜14が埋設され、さらに、こ
の保護膜14の内部には、樹脂、金属等の耐ガス
透過性を有した材料からなるガス遮蔽膜13が埋
設されており、前記ゴム膜12、保護膜14、お
よび前記ガス遮蔽膜13は一体に接着されてダイ
アフラム11が形成されている。
そして、前記ダイアフラム11に圧力が印加し
た場合、この圧力に応じて前記ゴム膜12、前記
保護膜14、および前記ガス遮蔽膜13が一体に
変位し、気体は前記ガス遮蔽膜13で遮蔽される
ようになつている。
また、この時のゴム膜12の変位は保護膜14
を介してガス遮蔽膜13に伝えられることとなつ
ており、このため、前記ゴム膜12の変位が、前
記保護膜14によつて前記ガス遮蔽膜13に伝達
されることが抑えられて、前記ガス遮蔽膜13の
変位は前記ゴム膜12に比べて小さく抑えられて
いる。
したがつて、上記のものにあつては、ダイアフ
ラムの変位時のガス遮蔽膜のクリープ発生率が低
いため、ダイアフラムの耐ガス透過性を長期にわ
たつて維持できるとともに、耐久性を向上できる
こととなる。
第3図には本考案による積層膜をダイアフラム
に使用した場合の第3の実施例が示されていて、
この実施例に示すダイアフラムにあつては球形の
アキユムレータ用となつている。
円板状をなしたゴム膜22内部には、円板状を
なすとともに、ゴム膜22の硬度よりも低硬度の
弾性体からなる保護膜24が埋設され、さらに、
この保護膜24の内部には、円板状をなすととも
に、樹脂、金属等の耐ガス透過性を有した材料か
らなるガス遮蔽膜23が埋設されており、前記ゴ
ム膜22、前記保護膜24、および前記ガス遮蔽
膜23は一体に接着されてダイヤフラム(ブラ
ダ)21が形成されている。
そして、前記ダイヤフラム21に圧力が印加し
た場合、この圧力に応じて前記ゴム膜22、前記
保護膜24、および前記遮蔽膜23が一体に変位
し、気体は前記ガス遮蔽膜23で遮蔽されるよう
になつている。
また、この時ゴム膜22の変位は保護膜24を
介してガス遮蔽膜23に伝えられることとなつて
おり、このため、前記ゴム膜22の変位が、前記
保護膜24によつて前記ガス遮蔽膜23に伝達さ
れることが抑えられて、前記ガス遮蔽膜23の変
位は前記ゴム膜22に比べて小さく抑えられてい
る。
したがつて、上記したように構成したものにあ
つては、ダイヤフラムの変位時のガス遮蔽膜のク
リープ発生率が低いため、ダイヤフラムの耐ガス
透過性を長期にわたつて維持できるとともに、耐
久性を向上できることとなる。
第4図には本考案による積層膜をダイヤフラム
に使用した場合の第4の実施例が示されていて、
この実施例に示すダイヤフラムにあつては、前記
第3の実施例と同様に、球形のアキユムレータ用
となつている。
円板状をなしたゴム膜32の下面には、円板状
をなすとともに、ゴム膜32の硬度よりも低硬度
の弾性体からなる保護膜34が配置され、さら
に、この保護膜34の内部には、円板状をなすと
ともに、樹脂、金属等の耐ガス透過性を有した材
料からなるガス遮蔽膜33が埋設されており、前
記ゴム膜32、前記保護膜34、および前記ガス
遮蔽膜33は一体に接着されてダイヤフラム(ブ
ラダ)31が形成されている。
そして、前記ダイヤフラム31に圧力が印加し
た場合、この圧力に応じて前記ゴム膜32、前記
保護膜34、および前記遮蔽膜33が一体に変位
し、気体は前記ガス遮蔽膜33で遮蔽されるよう
になつている。
また、この時のゴム膜32の変位は保護膜34
を介してガス遮蔽膜33に伝えられることとなつ
ており、このため、前記ゴム膜32の変位は、前
記保護膜34によつて前記ガス遮蔽膜33に伝達
されることが抑えられて、前記ガス遮蔽膜33の
変位は前記ゴム膜32に比べて小さく抑えられて
いる。
したがつて、上記のように構成されたものにあ
つては、ダイヤフラムの変位時のガス遮蔽膜のク
リープ発生率が低いため、ダイヤフラムの耐ガス
透過性を長期にわたつて維持できるとともに、耐
久性を向上できることとなる。
そして、前記第3の実施例におけるダイヤフラ
ム21を球形のアキユムレータ41に使用した状
態が第5図に示されている。
ほぼ球形のシエル42の内側中央部には、環状
をなしたホルダ43によつて前記ダイヤフラム
(ブラダ)21が一体に取付けられ、前記シエル
42の内部空間は前記ダイヤフラム21によつて
ガス室44とオイル室45とに区画されている。
前記ガス室44側のシエル42の頂部には、ガ
ス封入用の孔部46が穿設され、この孔部46に
はOリング48を具えたガスプラグ47が嵌め込
まれている。
また、前記オイル室45側のシエル42の底部
には、図示しないオイル流体の流路に接続する孔
部50を有するオイルポート49が配設されてお
り、さらに、前記ダイヤフラム21の前記オイル
ポート49の孔部50に対応する下面中央部に
は、前記孔部50を閉塞するポペツト51が一体
に配設されている。
そして、前記ガス室44には、孔部46から適
宜の高圧ガスが封入され、一方、オイル室45に
は、オイルポート49の孔部50から油圧が適用
され、ガス室44の気体圧とオイル室45に適用
される油圧とが平衝状態になるようにシエル42
の内部空間が前記ダイヤフラム21により区画さ
れる如くなつており、前記図示しないオイル流体
流路内に異常なサージ圧等の圧力上昇が発生した
場合、上記のように構成したアキユムレータ41
で異常な圧力上昇を吸収し、他の装置類の破損を
防止している。
なお、前記各実施例のそれぞれに使用されてい
るゴム膜は、硬度が70(JIS A)のニトリルゴム、
ブタジエンゴムからなり、また、保護膜は、硬度
が40(JIS A)のニトリルゴム、ブタジエンゴム
からなつている。
また、第1の実施例にあつては、椀状をなした
ゴム膜の内面に保護膜を介してガス遮蔽膜を接着
してあるが、これに限定することなく、前記ゴム
膜の外面もしくは、両面に保護膜を介してガス遮
蔽膜を接着してもよい。
また、前記第4の実施例にあつては、円板状を
なしたゴム膜も下面に保護膜介してガス遮蔽膜を
接着してあるが、これに限定することなく、前記
ゴム膜の上面もしくは両面に保護膜を介してガス
遮蔽膜を接着してもよい。
さらに、第1の実施例以外の実施例において
は、ゴム膜の内部にガス遮蔽膜および保護膜が埋
設されている構成となつているので、各膜間を接
着しなくてもよく、要は、気体が前記ゴム膜の内
部を透過するのを防げるようになつていればよい
ものである。
〔考案の効果〕
本考案は上記のように構成したことにより、圧
力が印加した際のゴム膜の変位は保護膜に押さえ
られてガス遮蔽膜に伝達されず、ガス遮蔽膜の変
位は前記ゴム膜に比べて小さく抑えられることと
なる。
このため、前記ガス遮蔽膜のクリープ発生率が
低下することとなり、ダイアフラムの耐ガス透過
性を維持できるとともに、耐久性を著しく向上で
きるなどのすぐれた効果を有するものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案による積層膜ダイアフラムとし
て使用した場合の第1の実施例を示す断面図、第
2図は積層膜をダイアフラムとして使用した場合
の第2の実施例を示す断面図、第3図は積層膜を
ダイアフラム(ブラダ)として使用した場合の第
3の実施例を示す断面図、第4図は積層膜をダイ
アフラム(ブラダ)として使用した場合の第4の
実施例を示す断面図、第5図は第3図に示された
ダイアフラム(ブラダ)を球形のアキユムレータ
に使用した状態を示す全体断面図である。 1,11……ダイアフラム、2,12,22,
32……ゴム膜、3,13,23,33……ガス
遮蔽膜、4,14,24,34……保護膜、2
1,31……ダイアフラム(ブラダ)、41……
アキユムレータ、42……シエル、43……ホル
ダ、44……ガス室、45……オイル室、46,
50……孔部、47……ガスプラグ、48……O
リング、49……オイルポート、51……ポペツ
ト。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. ゴム膜2に、このゴム膜の硬度よりも低硬度の
    弾性体からなる保護膜4を介在して、耐ガス透過
    性を有するガス遮蔽膜3を設けたことを特徴とす
    る積層膜。
JP13695788U 1988-10-20 1988-10-20 Expired - Lifetime JPH0533328Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13695788U JPH0533328Y2 (ja) 1988-10-20 1988-10-20

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13695788U JPH0533328Y2 (ja) 1988-10-20 1988-10-20

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0258931U JPH0258931U (ja) 1990-04-27
JPH0533328Y2 true JPH0533328Y2 (ja) 1993-08-25

Family

ID=31397953

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13695788U Expired - Lifetime JPH0533328Y2 (ja) 1988-10-20 1988-10-20

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JP (1) JPH0533328Y2 (ja)

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JPH0258931U (ja) 1990-04-27

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