JPH05332898A - 光ディスク基板の溶解装置 - Google Patents
光ディスク基板の溶解装置Info
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- JPH05332898A JPH05332898A JP16227792A JP16227792A JPH05332898A JP H05332898 A JPH05332898 A JP H05332898A JP 16227792 A JP16227792 A JP 16227792A JP 16227792 A JP16227792 A JP 16227792A JP H05332898 A JPH05332898 A JP H05332898A
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- optical disk
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 光ディスク基板の樹脂成分が溶け込んだ被分
析液を得る溶解装置において、分析精度の向上を図る。 【構成】 光ディスク基板Ｐを収納する断面円形状の貫
通孔からなる溶剤充填孔２が形成された開口板材３と、
溶剤充填孔２を開口板材３の両側から閉塞する一対の閉
塞板材４，５とを設ける。導入孔７は樹脂製の光ディス
ク基板Ｐを溶かす溶剤Ｌを溶剤充填孔２に導入する。導
出孔８は、光ディスク基板Ｐの樹脂成分が溶け込んだ溶
剤Ｌ１を溶剤充填孔２から導出する。導入孔７および導
出孔８は、それぞれ、上方から溶剤充填孔２の下端部お
よび上端部に導通している。導入孔７から溶剤充填孔２
に導入された溶剤Ｌを光ディスク基板Ｐの表面全体に分
散させて接触させる網状のステンレス鋼メッシュ９が光
ディスク基板Ｐの両側に配設してある。
析液を得る溶解装置において、分析精度の向上を図る。 【構成】 光ディスク基板Ｐを収納する断面円形状の貫
通孔からなる溶剤充填孔２が形成された開口板材３と、
溶剤充填孔２を開口板材３の両側から閉塞する一対の閉
塞板材４，５とを設ける。導入孔７は樹脂製の光ディス
ク基板Ｐを溶かす溶剤Ｌを溶剤充填孔２に導入する。導
出孔８は、光ディスク基板Ｐの樹脂成分が溶け込んだ溶
剤Ｌ１を溶剤充填孔２から導出する。導入孔７および導
出孔８は、それぞれ、上方から溶剤充填孔２の下端部お
よび上端部に導通している。導入孔７から溶剤充填孔２
に導入された溶剤Ｌを光ディスク基板Ｐの表面全体に分
散させて接触させる網状のステンレス鋼メッシュ９が光
ディスク基板Ｐの両側に配設してある。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、樹脂製の光ディスク
基板を溶剤で溶かした被分析液を得るための光ディスク
基板の溶解装置に関するものである。
基板を溶剤で溶かした被分析液を得るための光ディスク
基板の溶解装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】光ディスク基板には、ポリメチルメタク
リレートやポリカーボネートなどの樹脂で成形されたも
のが多い。この種の光ディスク基板の製造において、光
ディスク基板の分析は製造管理上欠かせない重要な事項
である。なかでも、光ディスク基板中の微小なゴミは、
ノイズの原因となって、光ディスクの性能を大きく低下
させるので、微小なゴミの定量分析は特に重要である。
したがって、以下の説明においては、光ディスク基板中
の微小なゴミの定量分析を具体例として述べるが、この
発明はこれ以外の分析、例えばゲルパーミエーションク
ロマトグラフィー分析、核磁気共鳴分析などのように、
光ディスク基板を塩化メチレンなどの有機溶剤に溶解し
て得られる溶液を被分析液とする分析にも適用される。
リレートやポリカーボネートなどの樹脂で成形されたも
のが多い。この種の光ディスク基板の製造において、光
ディスク基板の分析は製造管理上欠かせない重要な事項
である。なかでも、光ディスク基板中の微小なゴミは、
ノイズの原因となって、光ディスクの性能を大きく低下
させるので、微小なゴミの定量分析は特に重要である。
したがって、以下の説明においては、光ディスク基板中
の微小なゴミの定量分析を具体例として述べるが、この
発明はこれ以外の分析、例えばゲルパーミエーションク
ロマトグラフィー分析、核磁気共鳴分析などのように、
光ディスク基板を塩化メチレンなどの有機溶剤に溶解し
て得られる溶液を被分析液とする分析にも適用される。
【０００３】従来、光ディスク基板の分析用の溶液を調
製するには、大きな円盤状の光ディスク基板を、ハサミ
やナイフにより小片に切断することで、小さい容器内で
光ディスク基板の溶解を可能にしていた。これにより、
濃度の濃い被分析液を得て分析精度の向上を図ることが
できる。
製するには、大きな円盤状の光ディスク基板を、ハサミ
やナイフにより小片に切断することで、小さい容器内で
光ディスク基板の溶解を可能にしていた。これにより、
濃度の濃い被分析液を得て分析精度の向上を図ることが
できる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、この方法で
は、切断の際に、ハサミやナイフなどの汚れ（微小なゴ
ミまたは油分など）が分析用の溶液に混入する。また、
切断作業を行う人の手や指または衣服に付着した微小な
ゴミが混入する。さらに、光ディスク基板を切断するの
で、切断片の表面に微小なゴミが付着し易い。また、切
断の結果生じる切断片同士の接触摩擦などにより静電気
が発生し、そのため、微小なゴミが付着するなど被分析
物である光ディスク基板以外の不純物が被分析液に混入
し、したがって、分析精度の低下を招く。なお、上記切
断作業をクリーンルーム内で注意深く行ったり、切断手
段を種々変更しても、この問題を解消することは極めて
困難である。
は、切断の際に、ハサミやナイフなどの汚れ（微小なゴ
ミまたは油分など）が分析用の溶液に混入する。また、
切断作業を行う人の手や指または衣服に付着した微小な
ゴミが混入する。さらに、光ディスク基板を切断するの
で、切断片の表面に微小なゴミが付着し易い。また、切
断の結果生じる切断片同士の接触摩擦などにより静電気
が発生し、そのため、微小なゴミが付着するなど被分析
物である光ディスク基板以外の不純物が被分析液に混入
し、したがって、分析精度の低下を招く。なお、上記切
断作業をクリーンルーム内で注意深く行ったり、切断手
段を種々変更しても、この問題を解消することは極めて
困難である。
【０００５】また、光ディスク基板を切断した小片を容
器内に堆積して被分析液を調製しているので、切断片が
重なっている部分からは合成樹脂があまり溶け出さず、
そのため、光ディスク基板の表面から、合成樹脂の成分
が不均一に溶け出す。したがって、やはり、分析精度が
低下する。
器内に堆積して被分析液を調製しているので、切断片が
重なっている部分からは合成樹脂があまり溶け出さず、
そのため、光ディスク基板の表面から、合成樹脂の成分
が不均一に溶け出す。したがって、やはり、分析精度が
低下する。
【０００６】この発明は上記従来の問題に鑑みてなされ
たもので、光ディスク基板の樹脂成分が溶け込んだ被分
析液を得る溶解装置において、分析精度の向上を図り得
る溶解装置を提供することを目的とする。
たもので、光ディスク基板の樹脂成分が溶け込んだ被分
析液を得る溶解装置において、分析精度の向上を図り得
る溶解装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この出願の各請求項の発明は、光ディスク基板を収
納する断面が円形の溶剤充填孔と、樹脂製の光ディスク
基板を溶かす溶剤を溶剤充填孔に導入する導入孔と、光
ディスク基板の樹脂成分が溶け込んだ溶剤を溶剤充填孔
から導出する導出孔とを備えている。
に、この出願の各請求項の発明は、光ディスク基板を収
納する断面が円形の溶剤充填孔と、樹脂製の光ディスク
基板を溶かす溶剤を溶剤充填孔に導入する導入孔と、光
ディスク基板の樹脂成分が溶け込んだ溶剤を溶剤充填孔
から導出する導出孔とを備えている。
【０００８】さらに、請求項１の発明では、溶剤充填孔
を開口板材に貫通して形成し、この溶剤充填孔を開口板
材の両側から一対の閉塞板材で閉塞している。
を開口板材に貫通して形成し、この溶剤充填孔を開口板
材の両側から一対の閉塞板材で閉塞している。
【０００９】一方、請求項２の発明では、上記溶剤充填
孔は円の直径方向が深さ方向に設定され、上記導入孔お
よび導出孔は、それぞれ、上方から溶剤充填孔の下端部
および上端部に導通しており、上記導入孔は、溶剤充填
孔の一方の側面を閉塞する閉塞部材、または、この閉塞
部材に接合された接合部材に形成された溝状の第１導入
孔と、上記閉塞部材に形成され上記第１導入孔を溶剤充
填孔に連通させる第２導入孔とを備えている。
孔は円の直径方向が深さ方向に設定され、上記導入孔お
よび導出孔は、それぞれ、上方から溶剤充填孔の下端部
および上端部に導通しており、上記導入孔は、溶剤充填
孔の一方の側面を閉塞する閉塞部材、または、この閉塞
部材に接合された接合部材に形成された溝状の第１導入
孔と、上記閉塞部材に形成され上記第１導入孔を溶剤充
填孔に連通させる第２導入孔とを備えている。
【００１０】また、請求項３の発明では、上記導入孔か
ら溶剤充填孔に導入された溶剤を光ディスク基板の表面
全体に分散させて接触させる網状の分散手段が、光ディ
スク基板の両側に配設されている。この分散手段は複数
枚のメッシュで構成するのが好ましい。
ら溶剤充填孔に導入された溶剤を光ディスク基板の表面
全体に分散させて接触させる網状の分散手段が、光ディ
スク基板の両側に配設されている。この分散手段は複数
枚のメッシュで構成するのが好ましい。
【００１１】また、上記導入孔は、その通路断面積を
０．２５ｍｍ2 〜２ｍｍ2 の大きさにするのが好まし
い。
０．２５ｍｍ2 〜２ｍｍ2 の大きさにするのが好まし
い。
【００１２】
【作用】この出願の各請求項の発明によれば、溶剤充填
孔が光ディスク基板を収納する断面円形状の孔で形成さ
れているから、光ディスク基板を切断することなく溶剤
に浸漬させることができる。
孔が光ディスク基板を収納する断面円形状の孔で形成さ
れているから、光ディスク基板を切断することなく溶剤
に浸漬させることができる。
【００１３】
【実施例】以下、この発明の実施例を図面にしたがって
説明する。図１ないし図３は、この発明の第１実施例を
示す。図１において、溶解装置１は、溶剤充填孔２が形
成された開口板材３と、上記溶剤充填孔２を開口板材３
の両側から閉塞する第１および第２閉塞板材（閉塞部
材）４，５と、第２閉塞板材５に接合された接合板材
（接合部材）６とを備えている。これらの板材３〜６
は、ねじ付のピンチ（図示せず）のような締結部材によ
り互いに圧接した状態に組立てられている。上記溶剤充
填孔２は、断面が円形状の貫通孔からなり、光ディスク
基板Ｐを収納する。なお、各板材３〜６の間には、必要
に応じて、シリコンゴムのようなゴム板からなるシート
パッキンを設けてもよい。
説明する。図１ないし図３は、この発明の第１実施例を
示す。図１において、溶解装置１は、溶剤充填孔２が形
成された開口板材３と、上記溶剤充填孔２を開口板材３
の両側から閉塞する第１および第２閉塞板材（閉塞部
材）４，５と、第２閉塞板材５に接合された接合板材
（接合部材）６とを備えている。これらの板材３〜６
は、ねじ付のピンチ（図示せず）のような締結部材によ
り互いに圧接した状態に組立てられている。上記溶剤充
填孔２は、断面が円形状の貫通孔からなり、光ディスク
基板Ｐを収納する。なお、各板材３〜６の間には、必要
に応じて、シリコンゴムのようなゴム板からなるシート
パッキンを設けてもよい。
【００１４】上記溶剤充填孔２は、円の直径方向が深さ
方向に設定されており、図２のように、導入孔７および
導出孔８が、それぞれ、上方から溶剤充填孔２の下端部
および上端部に導通している。上記導入孔７は、樹脂製
の光ディスク基板Ｐを溶かす溶剤Ｌを上記溶剤充填孔２
に導入するものである。一方、上記導出孔８は、光ディ
スク基板Ｐの樹脂成分が溶け込んだ溶剤Ｌ１つまり、被
分析液Ｌ１を上記溶剤充填孔２から導出するものであ
る。
方向に設定されており、図２のように、導入孔７および
導出孔８が、それぞれ、上方から溶剤充填孔２の下端部
および上端部に導通している。上記導入孔７は、樹脂製
の光ディスク基板Ｐを溶かす溶剤Ｌを上記溶剤充填孔２
に導入するものである。一方、上記導出孔８は、光ディ
スク基板Ｐの樹脂成分が溶け込んだ溶剤Ｌ１つまり、被
分析液Ｌ１を上記溶剤充填孔２から導出するものであ
る。
【００１５】上記導出孔８は、たとえば、開口板材３に
穿設された深孔８ａにステンレスパイプ８ｂを導入し、
エポキシ樹脂で固着して構成されている。一方、上記導
入孔７は、たとえば、第２閉塞板材５の外側の表面に形
成した半円形断面を有する溝状の第１導入孔７ａと、第
２閉塞板材５に穿設した第２導入孔７ｂとを備えてい
る。第２導入孔７ｂは、第１導入孔７ａを溶剤充填孔２
に連通させている。第１導入孔７ａは、側面が接合板材
６により閉塞されており、ステンレスパイプ７ｃに連通
している。なお、これらの導入孔７および導出孔８は、
その通路断面積が、たとえば０．２５ｍｍ2 〜２ｍｍ2
程度に設定されている。
穿設された深孔８ａにステンレスパイプ８ｂを導入し、
エポキシ樹脂で固着して構成されている。一方、上記導
入孔７は、たとえば、第２閉塞板材５の外側の表面に形
成した半円形断面を有する溝状の第１導入孔７ａと、第
２閉塞板材５に穿設した第２導入孔７ｂとを備えてい
る。第２導入孔７ｂは、第１導入孔７ａを溶剤充填孔２
に連通させている。第１導入孔７ａは、側面が接合板材
６により閉塞されており、ステンレスパイプ７ｃに連通
している。なお、これらの導入孔７および導出孔８は、
その通路断面積が、たとえば０．２５ｍｍ2 〜２ｍｍ2
程度に設定されている。
【００１６】図３に示すように、溶剤充填孔２内には、
たとえば開口１ｍｍ角の複数枚のステンレス鋼メッシュ
９からなる分散手段が、それぞれ、光ディスク基板Ｐの
両側に配設されている。ステンレス鋼メッシュ９は、図
２の一対の閉塞板材４，５の内表面に、つまり、溶剤充
填孔２を形成する部材の内表面に、接着剤により重ねて
接着されており、導入孔７から溶剤充填孔２に導入され
た溶剤Ｌを光ディスク基板Ｐの表面全体に均一に分散さ
せて接触させるものである。なお、図１においては、上
記ステンレス鋼メッシュ９を省略しており、図示してい
ない。
たとえば開口１ｍｍ角の複数枚のステンレス鋼メッシュ
９からなる分散手段が、それぞれ、光ディスク基板Ｐの
両側に配設されている。ステンレス鋼メッシュ９は、図
２の一対の閉塞板材４，５の内表面に、つまり、溶剤充
填孔２を形成する部材の内表面に、接着剤により重ねて
接着されており、導入孔７から溶剤充填孔２に導入され
た溶剤Ｌを光ディスク基板Ｐの表面全体に均一に分散さ
せて接触させるものである。なお、図１においては、上
記ステンレス鋼メッシュ９を省略しており、図示してい
ない。
【００１７】つぎに、光ディスク基板Ｐの溶解方法につ
いて説明する。まず、溶剤充填孔２内に光ディスク基板
Ｐを入れた状態で、一対の閉塞板材４，５および接合板
材６を重ね合せ、これらの板材３〜６をねじ付のピンチ
で締結する。組立てた溶解装置１を、図４の多数の仕切
桟１０を有する温水槽１１内に多数並べ、温水槽１１に
蓋をする。この後、図１の導入孔７から溶剤Ｌをたとえ
ば１ｃｃ／ｈｒの流速で流し込む。流し込んだ溶剤Ｌは
光ディスク基板Ｐの樹脂成分を溶解し、これにより、導
出孔８から被分析液Ｌ１が得られる。この被分析液Ｌ１
を分析することにより、光ディスク基板Ｐ中の不純物
（微小なゴミ）などを検出する。
いて説明する。まず、溶剤充填孔２内に光ディスク基板
Ｐを入れた状態で、一対の閉塞板材４，５および接合板
材６を重ね合せ、これらの板材３〜６をねじ付のピンチ
で締結する。組立てた溶解装置１を、図４の多数の仕切
桟１０を有する温水槽１１内に多数並べ、温水槽１１に
蓋をする。この後、図１の導入孔７から溶剤Ｌをたとえ
ば１ｃｃ／ｈｒの流速で流し込む。流し込んだ溶剤Ｌは
光ディスク基板Ｐの樹脂成分を溶解し、これにより、導
出孔８から被分析液Ｌ１が得られる。この被分析液Ｌ１
を分析することにより、光ディスク基板Ｐ中の不純物
（微小なゴミ）などを検出する。
【００１８】上記構成においては、溶剤充填孔２が光デ
ィスク基板Ｐを収納する断面円形状に形成されているか
ら、光ディスク基板Ｐを切断することなく、光ディスク
基板Ｐを溶剤Ｌに浸漬させることができる。したがっ
て、被分析液Ｌ１を調製する際に、微小なゴミなどの不
純物が混入しないので、光ディスク基板Ｐの分析精度が
向上する。
ィスク基板Ｐを収納する断面円形状に形成されているか
ら、光ディスク基板Ｐを切断することなく、光ディスク
基板Ｐを溶剤Ｌに浸漬させることができる。したがっ
て、被分析液Ｌ１を調製する際に、微小なゴミなどの不
純物が混入しないので、光ディスク基板Ｐの分析精度が
向上する。
【００１９】また、光ディスク基板Ｐを切断することな
く、平らな状態で光ディスク基板Ｐを溶解するので、光
ディスク基板Ｐの表面全体から樹脂成分が均一に溶け出
し易い。そのため、光ディスク基板Ｐが局部的に溶解す
るおそれがないので、やはり、分析精度が向上する。ま
た、所定時間の間隔をおいて、分析することで、光ディ
スク基板Ｐを表面層から徐々に溶解させて、表面からの
深さに応じた分析も可能になる。
く、平らな状態で光ディスク基板Ｐを溶解するので、光
ディスク基板Ｐの表面全体から樹脂成分が均一に溶け出
し易い。そのため、光ディスク基板Ｐが局部的に溶解す
るおそれがないので、やはり、分析精度が向上する。ま
た、所定時間の間隔をおいて、分析することで、光ディ
スク基板Ｐを表面層から徐々に溶解させて、表面からの
深さに応じた分析も可能になる。
【００２０】特に、この実施例のように、図２の溶剤充
填孔２を形成する閉塞板材４，５の表面に、たとえばス
テンレス鋼メッシュ９のような分散手段を設けた場合
は、このメッシュ９により溶剤Ｌが光ディスク基板Ｐの
表面に均一に分散して接触するので、光ディスク基板Ｐ
の表面全体から樹脂成分がより均一に溶け出す。したが
って、より一層分析精度が向上する。
填孔２を形成する閉塞板材４，５の表面に、たとえばス
テンレス鋼メッシュ９のような分散手段を設けた場合
は、このメッシュ９により溶剤Ｌが光ディスク基板Ｐの
表面に均一に分散して接触するので、光ディスク基板Ｐ
の表面全体から樹脂成分がより均一に溶け出す。したが
って、より一層分析精度が向上する。
【００２１】ところで、図２の溶剤充填孔２の幅Ｄは、
光ディスク基板Ｐの厚みよりも、たとえば０．４ｍｍ〜
６ｍｍ程度広くするのが好ましい。その理由は、０．４
mmよりも隙間を狭くすると、溶剤Ｌが光ディスク基板Ｐ
の表面を流れないことがあり、一方、隙間を６ｍｍより
も広くすると、被分析液Ｌ１における光ディスク基板Ｐ
の溶解成分の濃度が薄くなって、分析精度が低下するか
らである。
光ディスク基板Ｐの厚みよりも、たとえば０．４ｍｍ〜
６ｍｍ程度広くするのが好ましい。その理由は、０．４
mmよりも隙間を狭くすると、溶剤Ｌが光ディスク基板Ｐ
の表面を流れないことがあり、一方、隙間を６ｍｍより
も広くすると、被分析液Ｌ１における光ディスク基板Ｐ
の溶解成分の濃度が薄くなって、分析精度が低下するか
らである。
【００２２】なお、図５の第２実施例のように、たとえ
ば３枚の開口板材３Ａ，３Ｂ，３Ｃを重ね合せ、これら
の３枚の開口板材３Ａ，３Ｂ，３Ｃを互いにエポキシ樹
脂で接着して、溶剤充填孔２を形成すれば、溶剤充填孔
２の幅Ｄを容易に調整できるという利点がある。
ば３枚の開口板材３Ａ，３Ｂ，３Ｃを重ね合せ、これら
の３枚の開口板材３Ａ，３Ｂ，３Ｃを互いにエポキシ樹
脂で接着して、溶剤充填孔２を形成すれば、溶剤充填孔
２の幅Ｄを容易に調整できるという利点がある。
【００２３】また、図２の導入孔７の通路断面積は、
０．２５ｍｍ2 〜２．０ｍｍ2 程度とするのが好まし
い。その理由は、通路断面積が０．２５ｍｍ2 よりも小
さいと、目詰りなどを生じて溶剤が十分に流れないこと
があり、一方、通路断面積が２．０ｍｍ程度よりも大き
いと、気泡が生じ、この気泡が光ディスク基板Ｐの表面
に付着して、付着した部分の光ディスク基板Ｐが溶解さ
れないからである。
０．２５ｍｍ2 〜２．０ｍｍ2 程度とするのが好まし
い。その理由は、通路断面積が０．２５ｍｍ2 よりも小
さいと、目詰りなどを生じて溶剤が十分に流れないこと
があり、一方、通路断面積が２．０ｍｍ程度よりも大き
いと、気泡が生じ、この気泡が光ディスク基板Ｐの表面
に付着して、付着した部分の光ディスク基板Ｐが溶解さ
れないからである。
【００２４】また、この実施例では、導入孔７および導
出孔８を、それぞれ、溶剤充填孔２の下端部および上端
部に導通している。したがって、溶剤充填孔２内のエア
抜きが容易になるから、光ディスク基板Ｐ全体を溶剤Ｌ
に浸漬できるので、光ディスク基板Ｐ全体から樹脂成分
が溶け出し、その結果、やはり、分析精度が向上する。
また、導入孔７および導出孔８を上方から導通している
ので、溶解装置１を立てた姿で用いることができるか
ら、図４の温水槽１１に多数挿入することができる。
出孔８を、それぞれ、溶剤充填孔２の下端部および上端
部に導通している。したがって、溶剤充填孔２内のエア
抜きが容易になるから、光ディスク基板Ｐ全体を溶剤Ｌ
に浸漬できるので、光ディスク基板Ｐ全体から樹脂成分
が溶け出し、その結果、やはり、分析精度が向上する。
また、導入孔７および導出孔８を上方から導通している
ので、溶解装置１を立てた姿で用いることができるか
ら、図４の温水槽１１に多数挿入することができる。
【００２５】しかし、請求項１，３の発明では、必ずし
もこのように導入孔７および導出孔８を設ける必要はな
く、たとえば図６の他の実施例のように、開口板材３の
両側部に、導入孔７および導出孔８を設けてもよい。こ
の場合、接合板材は不要である。また、この発明は、上
記導入孔７を一対設け、これらの導入孔７が光ディスク
基板Ｐの両面に臨んで開口するように配設してもよい。
もこのように導入孔７および導出孔８を設ける必要はな
く、たとえば図６の他の実施例のように、開口板材３の
両側部に、導入孔７および導出孔８を設けてもよい。こ
の場合、接合板材は不要である。また、この発明は、上
記導入孔７を一対設け、これらの導入孔７が光ディスク
基板Ｐの両面に臨んで開口するように配設してもよい。
【００２６】ところで、図２のように、導入孔７を溶剤
充填孔２の下端部に連通させて設けた場合は、導入孔７
の長さが長くなるのは避けられない。ここで、図７のよ
うに、導入孔７を長いステンレスパイプで形成すると、
このステンレスパイプが細いことから損傷し易く、ま
た、後の掃除が困難になる。これに対し、図２の実施例
では、閉塞板材５に溝を掘って第１導入孔７ｂを形成し
ているから、ステンレスパイプ７ｃが短くなって損傷し
にくくなるとともに、接合板材６を取り外すことで、導
入孔７の清掃も容易になる。
充填孔２の下端部に連通させて設けた場合は、導入孔７
の長さが長くなるのは避けられない。ここで、図７のよ
うに、導入孔７を長いステンレスパイプで形成すると、
このステンレスパイプが細いことから損傷し易く、ま
た、後の掃除が困難になる。これに対し、図２の実施例
では、閉塞板材５に溝を掘って第１導入孔７ｂを形成し
ているから、ステンレスパイプ７ｃが短くなって損傷し
にくくなるとともに、接合板材６を取り外すことで、導
入孔７の清掃も容易になる。
【００２７】しかし、請求項１，３の発明では、図７の
実施例のように、導入孔７を長いステンレスパイプで形
成してもよい。また、図２の実施例では、閉塞板材５に
溝を形成したが接合板材６に溝を形成して、第１導入孔
７ａを形成してもよい。
実施例のように、導入孔７を長いステンレスパイプで形
成してもよい。また、図２の実施例では、閉塞板材５に
溝を形成したが接合板材６に溝を形成して、第１導入孔
７ａを形成してもよい。
【００２８】この発明に用いる溶剤Ｌとしては、たとえ
ば、塩化メチレンのような有機溶剤を用いることができ
る。一方、各板材３〜６の材質としては、溶剤Ｌに溶け
ないものであればよく、たとえば、金属、ガラスまたは
ポリテトラフルオロエチレンのような合成樹脂を用いる
ことができる。しかし、光ディスク基板Ｐの溶解の様子
が観察できることや、後の清掃が容易である点で、ガラ
スが最も好ましい。
ば、塩化メチレンのような有機溶剤を用いることができ
る。一方、各板材３〜６の材質としては、溶剤Ｌに溶け
ないものであればよく、たとえば、金属、ガラスまたは
ポリテトラフルオロエチレンのような合成樹脂を用いる
ことができる。しかし、光ディスク基板Ｐの溶解の様子
が観察できることや、後の清掃が容易である点で、ガラ
スが最も好ましい。
【００２９】ここで、第１実施例のように、溶剤充填孔
２を開口板材３と一対の閉塞板材４，５で形成した場合
は、ガラスの成型品よりもガラス板のほうが、各接合面
が平滑であるから、研磨加工を必要としないので、製造
性に優れている。
２を開口板材３と一対の閉塞板材４，５で形成した場合
は、ガラスの成型品よりもガラス板のほうが、各接合面
が平滑であるから、研磨加工を必要としないので、製造
性に優れている。
【００３０】しかし、請求項２，３の発明では、開口部
材や閉塞部材を板材で構成する必要はなく、たとえば、
開口板材３と第１または第２閉塞板材４，５の一方とを
一体の成型品で形成してもよい。
材や閉塞部材を板材で構成する必要はなく、たとえば、
開口板材３と第１または第２閉塞板材４，５の一方とを
一体の成型品で形成してもよい。
【００３１】また、第１実施例では、ステンレス鋼メッ
シュ９を一対の閉塞板材４，５に接着して分散手段を設
けたが、この分散手段は、たとえば、閉塞板材４の表面
に一体に成形した網状の凸部で形成してもよい。なお、
この分散手段は、請求項１，２の発明では、必ずしも設
ける必要がないことは、いうまでもない。
シュ９を一対の閉塞板材４，５に接着して分散手段を設
けたが、この分散手段は、たとえば、閉塞板材４の表面
に一体に成形した網状の凸部で形成してもよい。なお、
この分散手段は、請求項１，２の発明では、必ずしも設
ける必要がないことは、いうまでもない。
【００３２】なお、上記実施例では、各板材３〜６をね
じ付ピンチのような締結部材で締結したが、この発明で
は、各板材３〜６にボルト挿通孔を設けておき、ボルト
・ナットにより各板材３〜６を締結してもよい。また、
各板材３〜６をエポキシ樹脂のような接着剤で接着して
もよい。
じ付ピンチのような締結部材で締結したが、この発明で
は、各板材３〜６にボルト挿通孔を設けておき、ボルト
・ナットにより各板材３〜６を締結してもよい。また、
各板材３〜６をエポキシ樹脂のような接着剤で接着して
もよい。
【００３３】
【発明の効果】以上説明したように、各請求項の発明に
よれば、光ディスク基板を切断することなく小さな溶剤
充填孔内で溶剤に浸漬させることができるので、分析対
象以外の小さなゴミなどの混入を防止でき、また、光デ
ィスク基板から均一に樹脂成分が溶け出し、さらに、被
分析液の濃度を濃くすることができる。したがって、分
析精度が向上する。
よれば、光ディスク基板を切断することなく小さな溶剤
充填孔内で溶剤に浸漬させることができるので、分析対
象以外の小さなゴミなどの混入を防止でき、また、光デ
ィスク基板から均一に樹脂成分が溶け出し、さらに、被
分析液の濃度を濃くすることができる。したがって、分
析精度が向上する。
【００３４】さらに、請求項１の発明によれば、接合面
が平滑な平板で開口板材および閉塞板材を形成している
から、接合面の研磨加工を必要としないので、製造性に
優れている。
が平滑な平板で開口板材および閉塞板材を形成している
から、接合面の研磨加工を必要としないので、製造性に
優れている。
【００３５】一方、請求項２の発明によれば、導入孔お
よび導出孔を上方から溶剤充填孔に導通させているの
で、溶解装置を立てた姿で用いることができる。また、
導入孔および導出孔をそれぞれ溶剤充填孔の下端部およ
び上端部に導通させているから、エア抜きが容易になる
ので、光ディスク基板全体を溶剤に浸漬でき、したがっ
て、分析精度が一層向上する。
よび導出孔を上方から溶剤充填孔に導通させているの
で、溶解装置を立てた姿で用いることができる。また、
導入孔および導出孔をそれぞれ溶剤充填孔の下端部およ
び上端部に導通させているから、エア抜きが容易になる
ので、光ディスク基板全体を溶剤に浸漬でき、したがっ
て、分析精度が一層向上する。
【００３６】また、請求項３の発明によれば、分散手段
を設けて、溶剤を光ディスク基板全体に均一に分散させ
て接触させるので、やはり、分析精度が一層向上する。
特に、請求項４の発明によれば、上記分散手段をメッシ
ュで構成したから、溶剤を分散させる効果が十分得られ
るとともに、分散手段の入手が容易になる。
を設けて、溶剤を光ディスク基板全体に均一に分散させ
て接触させるので、やはり、分析精度が一層向上する。
特に、請求項４の発明によれば、上記分散手段をメッシ
ュで構成したから、溶剤を分散させる効果が十分得られ
るとともに、分散手段の入手が容易になる。
【００３７】また、請求項５の発明によれば、導入孔の
径を小さく設定したので、気泡の発生を防止できるか
ら、溶解がより均一で迅速になり、その結果、分析精度
が著しく向上する。
径を小さく設定したので、気泡の発生を防止できるか
ら、溶解がより均一で迅速になり、その結果、分析精度
が著しく向上する。
【図１】この発明の第一実施例を示す溶解装置の斜視図
である。
である。
【図２】同縦断面図である。
【図３】開口板材の断面図である。
【図４】温水槽の斜視図である。
【図５】開口板材（開口部材）の他の例を示す縦断面図
である。
である。
【図６】開口板材の更に他の例を示す斜視図である。
【図７】第２実施例を示す溶解装置の縦断面図である。
１…溶解装置、２…溶剤充填孔、３…開口板材（開口部
材）、４，５…閉塞板材（閉塞部材）、６…接合板材
（接合部材）、７…導入孔、７ａ…第１導入孔、７ｂ…
第２導入孔、８…導出孔、９…メッシュ、Ｐ…光ディス
ク基板。
材）、４，５…閉塞板材（閉塞部材）、６…接合板材
（接合部材）、７…導入孔、７ａ…第１導入孔、７ｂ…
第２導入孔、８…導出孔、９…メッシュ、Ｐ…光ディス
ク基板。
Claims (5)
- 【請求項１】 光ディスク基板を収納する断面円形状の
貫通孔からなる溶剤充填孔が形成された開口板材と、 上記溶剤充填孔を開口板材の両側から閉塞する一対の閉
塞板材と、 樹脂製の上記光ディスク基板を溶かす溶剤を上記溶剤充
填孔に導入する導入孔と、 上記光ディスク基板の樹脂成分が溶け込んだ溶剤を上記
溶剤充填孔から導出する導出孔とを備えた光ディスク基
板の溶解装置。 - 【請求項２】 光ディスク基板を収納する断面が円形状
の溶剤充填孔と、 樹脂製の上記光ディスク基板を溶かす溶剤を上記溶剤充
填孔に導入する導入孔と、 上記光ディスク基板の樹脂成分が溶け込んだ溶剤を上記
溶剤充填孔から導出する導出孔とを備え、 上記溶剤充填孔は円の直径方向が深さ方向に設定され、 上記導入孔および導出孔は、それぞれ、上方から上記溶
剤充填孔の下端部および上端部に導通しており、 上記導入孔は、上記溶剤充填孔の一方の側面を閉塞する
閉塞部材またはこの閉塞部材に接合された接合部材に形
成された溝状の第１導入孔と、上記閉塞部材に形成さ
れ、上記第１導入孔を溶剤充填孔に連通させる第２導入
孔とを備えてなる光ディスク基板の溶解装置。 - 【請求項３】 光ディスク基板を収納する断面が円形状
の溶剤充填孔と、 樹脂製の上記光ディスク基板を溶かす溶剤を上記溶剤充
填孔に導入する導入孔と、 上記光ディスク基板の樹脂成分が溶け込んだ溶剤を上記
溶剤充填孔から導出する導出孔とを備え、 上記導入孔から上記溶剤充填孔に導入された溶剤を上記
光ディスク基板の表面全体に分散させて接触させる網状
の分散手段が、光ディスク基板の両側に配設された光デ
ィスク基板の溶解装置。 - 【請求項４】 請求項３において、上記分散手段は、複
数枚のメッシュからなる光ディスク基板の溶解装置。 - 【請求項５】 請求項１，２，３または４において、上
記導入孔は、その通路断面積が０．２５mm2 〜２mm2 に
設定された光ディスク基板の溶解装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16227792A JPH05332898A (ja) | 1992-05-27 | 1992-05-27 | 光ディスク基板の溶解装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16227792A JPH05332898A (ja) | 1992-05-27 | 1992-05-27 | 光ディスク基板の溶解装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05332898A true JPH05332898A (ja) | 1993-12-17 |
Family
ID=15751418
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16227792A Pending JPH05332898A (ja) | 1992-05-27 | 1992-05-27 | 光ディスク基板の溶解装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05332898A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000193570A (ja) * | 1998-09-24 | 2000-07-14 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 珪素質分析試料中の不純物高感度分析のための試料処理器及びそれを用いた分析方法 |
-
1992
- 1992-05-27 JP JP16227792A patent/JPH05332898A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000193570A (ja) * | 1998-09-24 | 2000-07-14 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 珪素質分析試料中の不純物高感度分析のための試料処理器及びそれを用いた分析方法 |
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