JPH05332724A - Measuring method of printed board standard position - Google Patents
Measuring method of printed board standard positionInfo
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- JPH05332724A JPH05332724A JP4142273A JP14227392A JPH05332724A JP H05332724 A JPH05332724 A JP H05332724A JP 4142273 A JP4142273 A JP 4142273A JP 14227392 A JP14227392 A JP 14227392A JP H05332724 A JPH05332724 A JP H05332724A
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- cross mark
- vertical
- horizontal
- mark
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- Supply And Installment Of Electrical Components (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は,人手によらず,照明や
撮像等の視覚装置,フレームメモリ等の画像処理装置,
ロボット等を用いて,プリント基板上の実装位置に,I
CやLSI等の部品やチェックピン等を位置決めして実
装する際の基準となる位置の計測方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a visual device such as lighting and image pickup, an image processing device such as a frame memory, and the like, regardless of human hands.
Use a robot or the like to move the I
The present invention relates to a method of measuring a reference position when positioning and mounting components such as C and LSI and check pins.
【0002】プリント基板の小型化,高機能化により,
プリント基板上への部品実装の高密度化とそれに伴う実
装部品の小型化の傾向に対応すべく,高速に,かつ高精
度に位置決めをする技術が必要とされている。Due to the miniaturization and high functionality of printed circuit boards,
There is a need for a technology for positioning at high speed and with high precision in order to cope with the trend toward higher density mounting of components on printed circuit boards and the resulting miniaturization of mounted components.
【0003】[0003]
【従来の技術】図2〜3は従来例の説明図である。図に
おいて,1はプリント基板,2はウィンドウ,3は十字
マーク,7は横方向の画像ヒストグラム,8は縦方向の
画像ヒストグラム,11はIC,LSI等の部品,12はノ
イズ,13はゴミ, キズ等, 14はかすれ, 欠落等である。2. Description of the Related Art FIGS. 2 and 3 are explanatory views of a conventional example. In the figure, 1 is a printed circuit board, 2 is a window, 3 is a cross mark, 7 is a horizontal image histogram, 8 is a vertical image histogram, 11 is a component such as IC and LSI, 12 is noise, 13 is dust, Scratches, etc., 14 are fading, missing, etc.
【0004】図2(a)に示すように,プリント基板1
上の実装位置に,ICやLSI等の部品11やチェックピ
ン等を正確に位置決めして実装するために, その基準位
置6を求める手段として,十字マーク3のような基準マ
ークが少なくとも1個は設けられている。As shown in FIG. 2A, the printed circuit board 1
At least one reference mark such as the cross mark 3 is used as a means for obtaining the reference position 6 in order to accurately position and mount the component 11 such as IC or LSI and the check pin at the mounting position above. It is provided.
【0005】従来の十字マーク3から基準位置6を計測
する手順を以下に示す。先ず,十字マーク3をカメラに
て撮像後,画像データを二値化し,フレームメモリであ
るウィンドウ2に取り込み,図2(b)に示すように,
横方向の画像ヒストグラム7,並びに縦方向の画像ヒス
トグラム8を求める。この場合, ゴミ,キズ等のノイズ1
2も同時に取り込まれる。The procedure for measuring the reference position 6 from the conventional cross mark 3 will be described below. First, after capturing the cross mark 3 with a camera, the image data is binarized and loaded into the window 2, which is a frame memory, and as shown in FIG.
An image histogram 7 in the horizontal direction and an image histogram 8 in the vertical direction are obtained. In this case, noise such as dust and scratches 1
2 is also taken in at the same time.
【0006】次に,図3(c)に示すように,横方向の
画像ヒストグラム7の両側より極大点(図においてb
1,b2)を探す。ただし,この極大点の画像ヒストグ
ラムの値は,十字マ−ク3の設計上の条件を満たすよう
に,あらかじめ,パラメータとして設定された値(B
L,BH)の範囲内である必要がある。Next, as shown in FIG. 3 (c), the maximum points (b in the figure
1, b2). However, the value of the image histogram of this maximum point is a value (B that is set in advance as a parameter so as to satisfy the design condition of the cross mark 3).
It must be within the range of (L, BH).
【0007】更に,図3(d)に示すように,横方向の
画像ヒストグラム7の2ケ所の極大点b1,b2より内
側に向かって極小点(図においてw1,w2)を探す。
ただし, この極小点の画像ヒストグラムの値は極大値の
場合と同様に, パラメータとして設定された値(WL,
WH)の範囲内である必要がある。Further, as shown in FIG. 3 (d), the minimum points (w1 and w2 in the figure) are searched inward from the two maximum points b1 and b2 of the horizontal image histogram 7.
However, the value of the image histogram of this minimum point is the value (WL,
It must be within the range of (WH).
【0008】平均値Ave bはb1とb2の画像ヒストグ
ラム値の平均値である。図示しないが,縦方向の画像ヒ
ストグラム8においても同様に極大点,ならびに極小点
を求める。The average value Ave b is the average value of the image histogram values of b1 and b2. Although not shown, the maximum point and the minimum point are similarly obtained in the vertical image histogram 8.
【0009】以上のようにして, 十字マークのエッジを
検出後, 画像ヒストグラム7,8,を用い,十字マーク
3のエッジに囲まれた範囲内の画素の重心を求めて, 基
準位置6としていた。After the edge of the cross mark is detected as described above, the center of gravity of the pixels within the range surrounded by the edge of the cross mark 3 is obtained using the image histograms 7 and 8 and is set as the reference position 6. ..
【0010】[0010]
【発明が解決しようとする課題】従来の基準位置計測方
式では, マーク画像のヒストグラムにおける黒レベルの
増加量と減少量にのみ着目して,十字マーク3のエッジ
を検出していたために,図3(e)に示すように,十字
マーク3の付近にゴミ,キズ等13の画像が存在した場合
には,それらを十字マーク3,或いはその一部と誤って
認識してしまう可能性があった。According to the conventional reference position measuring method, the edge of the cross mark 3 is detected by focusing only on the increase amount and the decrease amount of the black level in the histogram of the mark image. As shown in (e), when there are 13 images such as dust and scratches in the vicinity of the cross mark 3, there is a possibility that they are mistakenly recognized as the cross mark 3 or a part thereof. ..
【0011】また,十字マーク3の画像にかすれ,欠落
等14がある場合には, 十字マーク3の重心算出時に影響
を受けて,基板位置6に誤差が生じる可能性があった。
本発明は,以上の点を鑑み,十字マークのような基準マ
ークを使用した場合の基準マーク近傍のキズやゴミ,あ
るいは画像のかすれにより生じる基板位置計測誤差を少
なくし,十字マークを正確に読み取る方式を開発して,
ICやLSI等の半導体部品の実装精度を向上すること
を目的とする。Further, if the image of the cross mark 3 has a blur or a missing portion 14, it may be affected by the calculation of the center of gravity of the cross mark 3 and an error may occur at the substrate position 6.
In view of the above points, the present invention reduces the substrate position measurement error caused by scratches or dust in the vicinity of the reference mark when a reference mark such as the cross mark is used, or image blurring, and accurately reads the cross mark. Develop a method,
It is intended to improve the mounting accuracy of semiconductor components such as IC and LSI.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】図1は本発明の原理説明
図である。図において,3は十字マーク,4は縦方向の
中心線,5は横方向の中心線,6は基準位置,7は横方
向の画像ヒストグラム,8は縦方向の画像ヒストグラ
ム,9は縦方向十字マーク計測ウィンドウ,10は横方向
十字計測ウィンドウである。FIG. 1 illustrates the principle of the present invention. In the figure, 3 is a cross mark, 4 is a vertical centerline, 5 is a horizontal centerline, 6 is a reference position, 7 is a horizontal image histogram, 8 is a vertical image histogram, and 9 is a vertical cross. Mark measurement window, 10 is a horizontal cross measurement window.
【0013】本発明は,基準マークである十字マーク3
付近の画像の中から,縦方向十字マーク計測ウィンドウ
9,並びに,横方向十字計測ウィンドウを設定した後,
ウィンドウ内の画像ヒストグラムを使用して,従来と同
様の方法で十字マーク3のエッジを検出し,十字マーク
の縦方向の中心線4と横方向の中心線5の交点をもと
め,その交点が十字マーク3の中心位置である基準位置
6とする。According to the present invention, the cross mark 3 which is a reference mark is used.
After setting the vertical cross mark measurement window 9 and the horizontal cross mark measurement window from the nearby images,
Using the image histogram in the window, the edge of the cross mark 3 is detected in the same way as in the conventional method, and the intersection of the vertical center line 4 and the horizontal center line 5 of the cross mark is found. The reference position 6 is the center position of the mark 3.
【0014】すなわち,本発明の目的は,図1(c)に
示すように,カメラが撮像したプリント基板1上のウイ
ンドウ2内の基準マークである十字マーク3の画像を画
像処理装置にて処理し, 該プリント基板上の基準位置6
を計測する方式において,該プリント基板1上のカメラ
視野となる十字マーク3計測用の該ウィンドウ2内で,
白黒パターンに二値化し, 該十字マーク3の縦方向の中
心線4と横方向の中心線5を求め, 該縦方向の中心線4
と横方向の中心線5の交点を該プリント基板1の基準位
置6とすることにより,また,前記十字マーク3の縦方
向の中心線4と横方向の中心線5を求める方法におい
て,図1(b),(c)に示すように,前記ウインドウ
1内の横方向の画像ヒストグラム7, 並びに縦方向の画
像ヒストグラム8より, あらかじめ設定した該十字マー
ク3の幅の範囲に適合した領域に対する縦方向の十字マ
ーク計測ウィンドウ9,並びに,横方向の十字マーク計
測用ウィンドウ10を設定した後 該縦方向の十字マーク
計測用ウィンドウ9,並びに,横方向の十字マーク計測
用ウィンドウ10内の画像ヒストグラムを使用して, 該十
字マーク3のエッジを検出し, 該十字マーク3の縦方向
の中心線4と横方向の中心線5を求めることにより達成
される。That is, as shown in FIG. 1C, the object of the present invention is to process an image of a cross mark 3 which is a reference mark in the window 2 on the printed circuit board 1 on the printed circuit board 1 taken by the camera by the image processing device. Then, the reference position 6 on the printed circuit board
In the method of measuring, in the window 2 for measuring the cross mark 3 which is the camera field of view on the printed circuit board 1,
Binarization into a black and white pattern, the vertical centerline 4 and the horizontal centerline 5 of the cross mark 3 are obtained, and the vertical centerline 4 is obtained.
In the method of determining the vertical center line 4 and the horizontal center line 5 of the cross mark 3 by setting the intersection of the horizontal center line 5 and the horizontal center line 5 as the reference position 6 of the printed circuit board 1, As shown in (b) and (c), from the image histogram 7 in the horizontal direction and the image histogram 8 in the vertical direction in the window 1, the vertical direction with respect to the area that fits within the preset width range of the cross mark 3 is displayed. After setting the horizontal cross mark measurement window 9 and the horizontal cross mark measurement window 10, the image histograms in the vertical cross mark measurement window 9 and the horizontal cross mark measurement window 10 are displayed. It is achieved by detecting the edges of the cross mark 3 and determining the vertical center line 4 and the horizontal center line 5 of the cross mark 3 using.
【0015】[0015]
【作用】本発明により,十字マーク付近のマーク本体以
外の画像と,十字マークが区別できることや,マーク画
像のかすれ,欠落の影響を受けずに基準位置が計測でき
るようになることから,マーク付近のゴミの付着やキズ
がある等の悪条件が伴うプリント基板であっても,計測
が可能となり,照明系の微妙な調整を行わなくても,基
準位置の計測が行なえる。According to the present invention, since the cross mark can be distinguished from the image other than the mark body near the cross mark, and the reference position can be measured without being affected by the blur or loss of the mark image, the vicinity of the mark can be measured. Even a printed circuit board that is subject to adverse conditions such as dust adhesion and scratches can be measured, and the reference position can be measured without fine adjustment of the illumination system.
【0016】[0016]
【実施例】図1は本発明の原理説明図兼一実施例の説明
図である。前項までの説明に使用した図1〜図3を用
い,本発明の一実施例について説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is a diagram for explaining the principle of the present invention and an explanatory diagram for one embodiment. An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 3 used in the above description.
【0017】図3(e)は基準となる十字マーク3付近
の画像であり,ゴミ,キズ等13の画像を含んでいる。ま
た,十字マーク3の画像自体もかすれ,欠落等14を生じ
ている。FIG. 3E shows an image in the vicinity of the cross mark 3 serving as a reference, and includes 13 images such as dust and scratches. Also, the image itself of the cross mark 3 is faint and missing 14 or the like.
【0018】図1(a)は図3(e)の画像の横方向の
画像ヒストグラム7を1ラインおきに撮ったものであ
る。このヒストグラム中の極小値を探し,その極小値付
近のヒストグラム値が十字マーク幅検出時の判定条件を
満たしているかどうかを判断し,十字マーク計測用のウ
ィンドウ位置を決定する。FIG. 1A shows the image histogram 7 in the horizontal direction of the image of FIG. 3E taken every other line. A local minimum value in this histogram is searched, and it is determined whether or not the histogram value near the local minimum value satisfies the determination condition for detecting the cross mark width, and the window position for cross mark measurement is determined.
【0019】A1は最初に見つけた極小値で,k1はそ
の時の十字マーク幅判定位置における白レベルの幅で,
あらかじめ設定された十字マーク3の幅を越えている。
次に,A2の極小値をとると,その幅K2は十字マーク
3の幅の設定値に略マッチングする。そこで,図1
(c)に示すように,k2の幅を含む縦方向十字マーク
計測ウィンドウを作成する。A1 is the minimum value found first, k1 is the width of the white level at the cross mark width determination position at that time,
The width of the cross mark 3 set in advance is exceeded.
Next, when the minimum value of A2 is taken, its width K2 substantially matches the set value of the width of the cross mark 3. Therefore,
As shown in (c), a vertical cross mark measurement window including a width of k2 is created.
【0020】また,図1(b)は図3(e)の画像の縦
方向の画像ヒストグラム8を1ラインおきに撮ったもの
である。このヒストグラム中の極小値を探し,その極小
値付近のヒストグラム値が十字マーク幅検出時の判定条
件を満たしているかどうかを判断し,十字マーク計測用
のウィンドウ位置を決定する。Further, FIG. 1 (b) shows the image histogram 8 in the vertical direction of the image of FIG. 3 (e) taken every other line. A local minimum value in this histogram is searched, and it is determined whether or not the histogram value near the local minimum value satisfies the determination condition for detecting the cross mark width, and the window position for cross mark measurement is determined.
【0021】B1は最初に見つけた極小値で,L1はそ
の時の十字マーク幅判定位置における白レベルの幅で,
あらかじめ設定された十字マーク3の幅の範囲内であ
る。そこで,図1(c)に示すように,L1の幅を含む
横方向十字マーク計測ウィンドウ10を作成する。B1 is the minimum value found first, L1 is the width of the white level at the cross mark width determination position at that time,
It is within the preset width range of the cross mark 3. Therefore, as shown in FIG. 1C, a horizontal cross mark measurement window 10 including the width of L1 is created.
【0022】最後に,図1(c)に示すように,先に定
めた二つの計測ウインドウ9,10内の全画素のヒストグ
ラム値より,十字マークのエッジを計測後,縦横のエッ
ジの幅の中心線4,5同士交わる点,即ち十字マーク3
の中心点を基準位置6として求める。Finally, as shown in FIG. 1C, after measuring the edge of the cross mark from the histogram values of all the pixels in the two measurement windows 9 and 10 previously defined, the widths of the vertical and horizontal edges are determined. A point where the center lines 4 and 5 intersect, that is, a cross mark 3
The center point of is determined as the reference position 6.
【0023】この方法によれば,ゴミ,キズにより十字
マーク3を誤認識してしまうことによる基準位置6のず
れや,画像のかすれによる基準位置6の計測誤差が少な
くなる。According to this method, the deviation of the reference position 6 due to the erroneous recognition of the cross mark 3 due to dust or scratches and the measurement error of the reference position 6 due to the blurring of the image are reduced.
【0024】また,十字マーク計測用ウィンドウ9,10
設定の分,従来より手順を多く含むことになるが,その
時のヒストグラム計測は1ラインおきに行うので,計測
時間が延びる量は少なくなっている。Further, the cross mark measuring windows 9 and 10
Although the number of steps required for setting is greater than in the past, the histogram measurement at that time is performed every other line, so the amount of measurement time extension is small.
【0025】[0025]
【発明の効果】以上説明したように, 本発明によれば,
十字マーク自体,及び十字マーク付近のゴミやキズ等の
ノイズ画像により,マーク画像が不鮮明な場合でも基準
位置を正確に計測できるため,ICやLSI等の半導体
部品を高精度に実装することができる。As described above, according to the present invention,
Since the reference position can be accurately measured by the cross mark itself and the noise image around the cross mark such as dust and scratches, the reference position can be accurately measured, so that semiconductor parts such as IC and LSI can be mounted with high accuracy. ..
【図1】 本発明の原理説明図FIG. 1 is an explanatory view of the principle of the present invention.
【図2】 従来例の説明図(その1)FIG. 2 is an explanatory diagram of a conventional example (No. 1)
【図3】 従来例の説明図(その2)FIG. 3 is an explanatory diagram of a conventional example (No. 2)
1 プリント基板 2 ウィンドウ 3 十字マーク 4 縦方向の中心線 5 横方向の中心線 6 基準位置 7 横方向の画像ヒストグラム 8 縦方向の画像ヒストグラム 9 縦方向十字マーク計測ウィンドウ 10 横方向十字マーク計測ウィンドウ 11 IC,LSI等の部品 12 ノイズ 13 ゴミ, キズ等 14 かすれ, 欠落等 1 Printed circuit board 2 Window 3 Cross mark 4 Vertical center line 5 Horizontal center line 6 Reference position 7 Horizontal image histogram 8 Vertical image histogram 9 Vertical cross mark measurement window 10 Horizontal cross mark measurement window 11 Parts such as IC and LSI 12 Noise 13 Dust, scratches, etc. 14 Blurring, missing, etc.
Claims (2)
ウインドウ(2) 内の基準マークである十字マーク(3) の
画像を画像処理装置にて処理し, 該プリント基板上の基
準位置(4) を計測する方式において,該プリント基板(1)
上のカメラ視野となる十字マーク(3) 計測用の該ウィ
ンドウ(2) 内で, 白黒パターンに二値化し, 該十字マー
ク(3) の縦方向の中心線(4)と横方向の中心線(5) を求
め, 該縦方向の中心線(4) と横方向の中心線(5) の交点
を該プリント基板(1) の基準位置(6) とすることを特徴
とするプリント基板基準位置計測方式1. An image processing apparatus processes an image of a cross mark (3) which is a reference mark in a window (2) on a printed circuit board (1) captured by a camera, and a reference position ( In the method of measuring 4), the printed circuit board (1)
The cross mark (3) which is the field of view of the upper camera is binarized into a black and white pattern in the measurement window (2), and the vertical center line (4) and the horizontal center line of the cross mark (3) are binarized. (5) is obtained, and the intersection of the vertical centerline (4) and the horizontal centerline (5) is set as the reference position (6) of the printed circuit board (1). Measuring method
(4) と横方向の中心線(5) を求める方法において,前記
ウインドウ(1) 内の横方向の画像ヒストグラム(7) ,並
びに,縦方向の画像ヒストグラム(8) より, あらかじめ
設定した該十字マーク(3) の幅の範囲に適合した領域に
対する縦方向の十字マーク計測用ウィンドウ(9) ,並び
に,横方向の十字マーク計測用ウィンドウ(10)を設定し
た後 該縦方向の十字マーク計測用ウィンドウ(9) ,並
びに,横方向の十字マーク計測用ウィンドウ(10)内の画
像ヒストグラムを使用して, 該十字マーク(3) のエッジ
を検出し, 該十字マーク(3)の縦方向の中心線(4) と横
方向の中心線(5) を求めることを特徴とする請求項1記
載のプリント基板基準位置計測方式2. The vertical center line of the cross mark (3)
(4) and the centerline in the horizontal direction (5), the cross-shaped image that was previously set from the horizontal image histogram (7) in the window (1) and the vertical image histogram (8). After setting the vertical cross mark measurement window (9) and the horizontal cross mark measurement window (10) for the area conforming to the width range of the mark (3), the vertical cross mark measurement window The edge of the cross mark (3) is detected using the image histogram in the window (9) and the cross mark measurement window (10) in the horizontal direction, and the center of the cross mark (3) in the vertical direction is detected. 2. The printed circuit board reference position measuring method according to claim 1, wherein the line (4) and the lateral center line (5) are determined.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4142273A JPH05332724A (en) | 1992-06-03 | 1992-06-03 | Measuring method of printed board standard position |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4142273A JPH05332724A (en) | 1992-06-03 | 1992-06-03 | Measuring method of printed board standard position |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05332724A true JPH05332724A (en) | 1993-12-14 |
Family
ID=15311521
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4142273A Withdrawn JPH05332724A (en) | 1992-06-03 | 1992-06-03 | Measuring method of printed board standard position |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05332724A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011047674A (en) * | 2009-08-25 | 2011-03-10 | Nec Engineering Ltd | Device and method for detecting center of cross pattern |
-
1992
- 1992-06-03 JP JP4142273A patent/JPH05332724A/en not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011047674A (en) * | 2009-08-25 | 2011-03-10 | Nec Engineering Ltd | Device and method for detecting center of cross pattern |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990803 |