JPH0532654A - オキシフラバン類の製造法 - Google Patents
オキシフラバン類の製造法Info
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- JPH0532654A JPH0532654A JP3186182A JP18618291A JPH0532654A JP H0532654 A JPH0532654 A JP H0532654A JP 3186182 A JP3186182 A JP 3186182A JP 18618291 A JP18618291 A JP 18618291A JP H0532654 A JPH0532654 A JP H0532654A
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- ketone
- resorcinol
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Pyrane Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 高純度のオキシフラバン類の製造法を提供す
る。 【構成】 レゾルシンとケトン類を、メタノール反応溶
媒中で酸触媒存在下に反応させて、次の一般式で表わさ
れるオキシフラバン類を製造する方法。 （式中、Ｒ１〜Ｒ５はそれぞれ独立に、水素原子、アル
キル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アラルキル
基またはアリール基を表す。またＲ１とＲ２およびＲ４
とＲ５はそれぞれ独立に、環を形成する場合もある。）
る。 【構成】 レゾルシンとケトン類を、メタノール反応溶
媒中で酸触媒存在下に反応させて、次の一般式で表わさ
れるオキシフラバン類を製造する方法。 （式中、Ｒ１〜Ｒ５はそれぞれ独立に、水素原子、アル
キル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アラルキル
基またはアリール基を表す。またＲ１とＲ２およびＲ４
とＲ５はそれぞれ独立に、環を形成する場合もある。）
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は高純度オキシフラバン類
の製造法に関するものである。
の製造法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】オキシフラバン類の製造法として、たと
えば、英国特許822659号、特開昭55-139375 号公報およ
び特開昭61-27980号公報には、反応溶媒として水を用
い、ケトン類とレゾルシンを酸触媒存在下反応させてオ
キシフラバン類を製造する方法が提案されている。
えば、英国特許822659号、特開昭55-139375 号公報およ
び特開昭61-27980号公報には、反応溶媒として水を用
い、ケトン類とレゾルシンを酸触媒存在下反応させてオ
キシフラバン類を製造する方法が提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、この製造法で
は、多量の酸触媒が必要であり、又生成物中の未反応レ
ゾルシンおよび副生成物（特にポリマー成分）が洗浄し
きれず、純度の高いオキシフラバン類が得られなかっ
た。本発明の目的は、酸触媒量を低減するとともに未反
応レゾルシンおよび副生成物を除去し、高純度のオキシ
フラバン類を製造する方法を提供することにある。
は、多量の酸触媒が必要であり、又生成物中の未反応レ
ゾルシンおよび副生成物（特にポリマー成分）が洗浄し
きれず、純度の高いオキシフラバン類が得られなかっ
た。本発明の目的は、酸触媒量を低減するとともに未反
応レゾルシンおよび副生成物を除去し、高純度のオキシ
フラバン類を製造する方法を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成するために鋭意検討を行い、反応溶媒にメタノー
ルを用いることで本発明の目的が達成されることを見い
出した。
を達成するために鋭意検討を行い、反応溶媒にメタノー
ルを用いることで本発明の目的が達成されることを見い
出した。
【０００５】すなわち本発明は、レゾルシンとケトン類
を、メタノール反応溶媒中で酸触媒存在下に反応させ
て、下記一般式で表されるオキシフラバン類を製造する
方法である。
を、メタノール反応溶媒中で酸触媒存在下に反応させ
て、下記一般式で表されるオキシフラバン類を製造する
方法である。
【０００６】
【化２】
【０００７】（式中、Ｒ1 〜Ｒ5 はそれぞれ独立に、水
素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル
基、アラルキル基またはアリール基を表す。またＲ1 と
Ｒ2 およびＲ4 とＲ5 はそれぞれ独立に、環を形成する
場合もある。ただし、Ｒ1 およびＲ2 のどちらか一方は
アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アラル
キル基またはアリール基を表す。）
素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル
基、アラルキル基またはアリール基を表す。またＲ1 と
Ｒ2 およびＲ4 とＲ5 はそれぞれ独立に、環を形成する
場合もある。ただし、Ｒ1 およびＲ2 のどちらか一方は
アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アラル
キル基またはアリール基を表す。）
【０００８】上記一般式中のＲ1 〜Ｒ5 のアルキル基は
分岐していてもよく、炭素数１〜５のものが好ましい。
アルケニル基としては炭素数２〜５のものが好ましい。
アラルキル基のアルキル部位としては炭素数１〜３のも
のが好ましい。また、アリール基としてはフェニル基お
よびナフチル基が好ましい。
分岐していてもよく、炭素数１〜５のものが好ましい。
アルケニル基としては炭素数２〜５のものが好ましい。
アラルキル基のアルキル部位としては炭素数１〜３のも
のが好ましい。また、アリール基としてはフェニル基お
よびナフチル基が好ましい。
【０００９】オキシフラバン類の具体例として、例え
ば、以下の化合物が挙げられる。
ば、以下の化合物が挙げられる。
【００１０】
【化３】
【００１１】本発明で用いられるケトン類は、目的とす
るオキシフラバン類に対応するケトン類を選択すればよ
いが、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチ
ルケトン、エチルプロピルケトン、シクロペンタノン、
シクロヘキサノンおよびベンジルアセトンが挙げられ
る。特に化合物（１）が得られるアセトンが好ましい。
るオキシフラバン類に対応するケトン類を選択すればよ
いが、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチ
ルケトン、エチルプロピルケトン、シクロペンタノン、
シクロヘキサノンおよびベンジルアセトンが挙げられ
る。特に化合物（１）が得られるアセトンが好ましい。
【００１２】また、この反応で用いられる酸触媒として
は、例えば、塩酸、硫酸などの無機酸、ｐ−トルエンス
ルホン酸、ベンゼンスルホン酸およびメタンスルホン酸
などの有機酸が挙げられるが、特にｐ−トルエンスルホ
ン酸が好ましい。レゾルシンの使用量はケトン類１モル
に対して１〜２０モル、好ましくは２〜１０モルであ
る。酸触媒の使用量はケトン類１モルに対して0.001 〜
１モル当量、好ましくは、0.001 〜0.1 モル当量であ
る。メタノールの使用量はレゾルシン１００重量部に対
して、２５〜３００重量部、好ましくは２５〜４５重量
部である。
は、例えば、塩酸、硫酸などの無機酸、ｐ−トルエンス
ルホン酸、ベンゼンスルホン酸およびメタンスルホン酸
などの有機酸が挙げられるが、特にｐ−トルエンスルホ
ン酸が好ましい。レゾルシンの使用量はケトン類１モル
に対して１〜２０モル、好ましくは２〜１０モルであ
る。酸触媒の使用量はケトン類１モルに対して0.001 〜
１モル当量、好ましくは、0.001 〜0.1 モル当量であ
る。メタノールの使用量はレゾルシン１００重量部に対
して、２５〜３００重量部、好ましくは２５〜４５重量
部である。
【００１３】本発明の反応方法としては、レゾルシン、
酸触媒およびメタノールの混合物中にケトンを連続的も
しくは間欠的、好ましくは連続的に供給する。ケトンの
供給速度は特に制限しないが、レゾルシン１モル当り0.
1 〜0.5 モル／hrが好ましい。反応温度は通常２０℃〜
還流温度で行われるが、高温側では副生成物の生成が促
進されるためオキシフラバン類の収率が低下し、低温側
では反応に長時間要するため、４５〜７０℃が好まし
い。反応時間は触媒の種類、使用量などによっても異な
るが通常は１〜１２時間である。
酸触媒およびメタノールの混合物中にケトンを連続的も
しくは間欠的、好ましくは連続的に供給する。ケトンの
供給速度は特に制限しないが、レゾルシン１モル当り0.
1 〜0.5 モル／hrが好ましい。反応温度は通常２０℃〜
還流温度で行われるが、高温側では副生成物の生成が促
進されるためオキシフラバン類の収率が低下し、低温側
では反応に長時間要するため、４５〜７０℃が好まし
い。反応時間は触媒の種類、使用量などによっても異な
るが通常は１〜１２時間である。
【００１４】反応の進行と共にオキシフラバン類の結晶
が析出し、反応溶液はスラリー状になる。反応終了後、
常法により反応生成物をろ別し、精製する。例えば、反
応に使用したメタノール１００重量部当り５０〜５００
重量部、好ましくは１５０〜３００重量部の水を、スラ
リー状になった反応溶液に添加し、一定時間攪拌後ろ過
などにより固体を分取する。得られた固体は水で洗浄
し、レゾルシンと副生成物の一部を除去する。その後、
乾燥することにより目的物を得る。
が析出し、反応溶液はスラリー状になる。反応終了後、
常法により反応生成物をろ別し、精製する。例えば、反
応に使用したメタノール１００重量部当り５０〜５００
重量部、好ましくは１５０〜３００重量部の水を、スラ
リー状になった反応溶液に添加し、一定時間攪拌後ろ過
などにより固体を分取する。得られた固体は水で洗浄
し、レゾルシンと副生成物の一部を除去する。その後、
乾燥することにより目的物を得る。
【００１５】
【実施例】次に、実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明するが、本発明はこれらの実施例によってなんら
限定されるものでない。
に説明するが、本発明はこれらの実施例によってなんら
限定されるものでない。
【００１６】実施例１ 攪拌器、冷却器、滴下ロートおよび温度計を装着した四
ツ口フラスコに、レゾルシン２００ｇ（1.82モル）、ｐ
−トルエンスルホン酸1.38ｇ（0.007 モル）およびメタ
ノール６６ｇを仕込み５５℃で攪拌下アセトン 35.16ｇ
（0.61モル）を１時間かけて滴下した。滴下後６５℃で
３時間反応し、１４５ｇの水を加え５５℃でさらに３時
間攪拌した。反応生成物をろ別し、得られたウェットケ
ーキを水洗後乾燥を行い、２，４，４−トリメチル−２
−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−７−ヒドロキシ
クロマンを得た。結果は表１に示す。
ツ口フラスコに、レゾルシン２００ｇ（1.82モル）、ｐ
−トルエンスルホン酸1.38ｇ（0.007 モル）およびメタ
ノール６６ｇを仕込み５５℃で攪拌下アセトン 35.16ｇ
（0.61モル）を１時間かけて滴下した。滴下後６５℃で
３時間反応し、１４５ｇの水を加え５５℃でさらに３時
間攪拌した。反応生成物をろ別し、得られたウェットケ
ーキを水洗後乾燥を行い、２，４，４−トリメチル−２
−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−７−ヒドロキシ
クロマンを得た。結果は表１に示す。
【００１７】実施例２ 実施例１のアセトン量を42.3ｇ（0.73モル）とした以外
は、実施例１と同様にして、２，４，４−トリメチル−
２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−７−ヒドロキ
シクロマンを得た。結果は表１に示す。
は、実施例１と同様にして、２，４，４−トリメチル−
２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−７−ヒドロキ
シクロマンを得た。結果は表１に示す。
【００１８】比較例１ 攪拌器、冷却器、滴下ロートおよび温度計を装着した四
ツ口フラスコにレゾルシン２００ｇ（1.82モル）、３６
％塩酸91.2ｇ（0.9 モル）および水３３０ｇを仕込み、
４２℃で攪拌下アセトン35.2ｇ（0.61モル）を１時間か
けて滴下した。滴下後、５０℃で３時間反応した。反応
生成物をろ別し、得られたウェットケーキを水洗後乾燥
し、２，４，４−トリメチル−２−（２，４−ジヒドロ
キシフェニル）−７−ヒドロキシクロマンを得た。結果
は表１に示す。
ツ口フラスコにレゾルシン２００ｇ（1.82モル）、３６
％塩酸91.2ｇ（0.9 モル）および水３３０ｇを仕込み、
４２℃で攪拌下アセトン35.2ｇ（0.61モル）を１時間か
けて滴下した。滴下後、５０℃で３時間反応した。反応
生成物をろ別し、得られたウェットケーキを水洗後乾燥
し、２，４，４−トリメチル−２−（２，４−ジヒドロ
キシフェニル）−７−ヒドロキシクロマンを得た。結果
は表１に示す。
【００１９】比較例２ 比較例１でアセトン量を42.3ｇ（0.73モル) とした以外
は比較例１と同様にして、２，４，４−トリメチル−２
−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−７−ヒドロキシ
クロマンを得た。結果は表１に示す。
は比較例１と同様にして、２，４，４−トリメチル−２
−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−７−ヒドロキシ
クロマンを得た。結果は表１に示す。
【００２０】比較例３ 比較例１で３６％塩酸91.2ｇ（0.9 モル）をｐ−トルエ
ンスルホン酸１０ｇ（0.05モル）とした以外は比較例１
と同様にして、２，４，４−トリメチル−２−（２，４
−ジヒドロキシフェニル）−７−ヒドロキシクロマンを
得た。結果は表１に示す。
ンスルホン酸１０ｇ（0.05モル）とした以外は比較例１
と同様にして、２，４，４−トリメチル−２−（２，４
−ジヒドロキシフェニル）−７−ヒドロキシクロマンを
得た。結果は表１に示す。
【００２１】
【表１】
【００２２】１）純度およびレゾルシン含量は、液体ク
ロマトグラフ（ＨＰＬＣ）絶対検量線法で求めた。 装 置：島津製作所（株）製 ＬＣ−４Ａ カラム：Sumipax ODS A-212 （５μm) ６mmφ×150mm 溶離液：Ａ液 0.5％ギ酸／水 Ｂ液 0.5％ギ酸／
アセトニトリル Ｂ液濃度 10％→ 100％ （３％／min) 流 量： 1.5ml/min 検出器：ＵＶ280nm ２）ポリマー含量は、ＧＰＣ面積百分率法で求めた。 装 置：東ソー（株）製 ＨＬＣ−8020 カラム：TSKgel G4000HXL＋G2000HXL 移動相：テトラヒドロフラン 40℃ 流 量： 1ml/min 検出器：ＵＶ254nm
ロマトグラフ（ＨＰＬＣ）絶対検量線法で求めた。 装 置：島津製作所（株）製 ＬＣ−４Ａ カラム：Sumipax ODS A-212 （５μm) ６mmφ×150mm 溶離液：Ａ液 0.5％ギ酸／水 Ｂ液 0.5％ギ酸／
アセトニトリル Ｂ液濃度 10％→ 100％ （３％／min) 流 量： 1.5ml/min 検出器：ＵＶ280nm ２）ポリマー含量は、ＧＰＣ面積百分率法で求めた。 装 置：東ソー（株）製 ＨＬＣ−8020 カラム：TSKgel G4000HXL＋G2000HXL 移動相：テトラヒドロフラン 40℃ 流 量： 1ml/min 検出器：ＵＶ254nm
【００２３】
【発明の効果】本発明の方法によれば、高純度のオキシ
フラバン類を得ることができる。
フラバン類を得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 桑名 耕治 大阪府大阪市此花区春日出中３丁目１番98 号 住友化学工業株式会社内 (72)発明者 富岡 淳 大阪府大阪市此花区春日出中３丁目１番98 号 住友化学工業株式会社内
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】レゾルシンとケトン類を、メタノール反応
溶媒中で酸触媒の存在下に反応させて、下記一般式で表
されるオキシフラバン類を製造する方法。 【化１】 （式中、Ｒ1 〜Ｒ5 はそれぞれ独立に、水素原子、アル
キル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アラルキル
基またはアリール基を表す。またＲ1 とＲ2 およびＲ4
とＲ5 はそれぞれ独立に、環を形成する場合もある。た
だし、Ｒ1 およびＲ2 のどちらか一方はアルキル基、ア
ルケニル基、シクロアルキル基、アラルキル基またはア
リール基を表す。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3186182A JP3000731B2 (ja) | 1991-07-25 | 1991-07-25 | オキシフラバン類の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3186182A JP3000731B2 (ja) | 1991-07-25 | 1991-07-25 | オキシフラバン類の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0532654A true JPH0532654A (ja) | 1993-02-09 |
| JP3000731B2 JP3000731B2 (ja) | 2000-01-17 |
Family
ID=16183828
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3186182A Expired - Lifetime JP3000731B2 (ja) | 1991-07-25 | 1991-07-25 | オキシフラバン類の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3000731B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1987007554A1 (en) * | 1986-06-03 | 1987-12-17 | Fanuc Ltd | Arm structure of an industrial robot |
| EP0688770A2 (en) | 1994-06-23 | 1995-12-27 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for preparing hydroxyflavan compounds |
| EP0699670A3 (en) * | 1994-08-30 | 1997-04-02 | Sumitomo Chemical Co | Aryl ester compound, process for its preparation and epoxy resin composition containing the same, and copper-clad laminate using this composition |
-
1991
- 1991-07-25 JP JP3186182A patent/JP3000731B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1987007554A1 (en) * | 1986-06-03 | 1987-12-17 | Fanuc Ltd | Arm structure of an industrial robot |
| EP0688770A2 (en) | 1994-06-23 | 1995-12-27 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for preparing hydroxyflavan compounds |
| EP0688770A3 (en) * | 1994-06-23 | 1996-03-06 | Sumitomo Chemical Co | Process for the preparation of hydroxyflavans compounds |
| US5698717A (en) * | 1994-06-23 | 1997-12-16 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for preparing hydroxyflavan compounds |
| EP0699670A3 (en) * | 1994-08-30 | 1997-04-02 | Sumitomo Chemical Co | Aryl ester compound, process for its preparation and epoxy resin composition containing the same, and copper-clad laminate using this composition |
| US5726257A (en) * | 1994-08-30 | 1998-03-10 | Sumitomo Chemical Company, Ltd. | Esterified resorcinol-carbonyl compound condensates and epoxy resins therewith |
| US5916683A (en) * | 1994-08-30 | 1999-06-29 | Sumitomo Chemical Company, Ltd. | Copper-clad laminate with prepreg of epoxy resin and aryl ester |
| US6469109B2 (en) | 1994-08-30 | 2002-10-22 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Aryl ester compound, its production process, epoxy resin composition using said compound, and copper-clad laminate using the epoxy resin composition |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3000731B2 (ja) | 2000-01-17 |
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